追趕臺積電,三星向光刻機巨頭拋橄欖枝!我國已先下單700臺

2020-12-03 金十數據

作為晶片生產製造環節最核心的設備,光刻機的研發難度極高,而在當下的全球光刻機供應商中,荷蘭的ASML與日本尼康、佳能佔據著全球90%以上的市場份額。其中,最高級的EUV(極紫外光)技術,更是只有ASML一家掌握。

基於ASML的「獨家技術」,日前韓國科技巨頭三星正盼望與其達成深度合作。據IT之家12月1日消息,近日ASML高管已參觀三星的半導體工廠,雙方討論了在EUV光刻設備供應和開發方面的合作。

三星稱,希望可以投資開發高數值孔徑(High-Na)EUV設備,設備的價格預計為每臺5000億韓元(約合人民幣30億元),比現在的EUV設備高出2-3倍。

報導指出,目前ASML向臺積電供應的相關設備比向三星供應的更多,基於此,三星希望可以先於臺積電獲得ASML的設備,以擴大其在全球代工市場的份額。

那麼在光刻機領域,ASML與我國企業有達成相關合作嗎?

此前ASML全球副總裁沈波就曾透露,目前中國已經購買了700多臺ASML光刻機的裝機;在今年的3-9月,該公司發往中國的光刻機臺數還超過了全球總臺數的20%。

ASML表示,中國將成為全球最大的成熟製程晶片市場,該公司正加快在中國市場的投資布局。除了國際巨頭的加持,當前國產光刻機也有望迎來新的突破。

此前C114通信網消息稱,上海微電子即將於2021年交付首臺國產的28nm光刻機。若消息屬實,我國對海外光刻機的依賴將有所緩解,國產晶片的製造也將被大大推動。

再者,當前三星也正盼能擴大在我國半導體市場的份額,而我國也很有可能從三星身上獲得更先進的光刻機技術。據11月12日報導,當天三星首次面向我國市場發布了晶片產品Exynos1080,還宣布將向vivo供應5nm高端晶片。

文|林妙瓊 題| 徐曉冰 圖|盧文祥 審| 徐曉冰

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    來自國外媒體的報導,近期光刻機生廠商ASML執行長 Peter Wennink正帶領者一眾高管前往三電子,與三星高管就光刻機的供貨進行商談。本次除了技術上的合作和投資以外,關於EUV光刻機的供貨自然是其中的重點,三星晶圓業務的高管表示,希望能夠得到更多的EUV光刻機供貨,並搶在臺積電之前,拿到下一代EUV光刻機。
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    本文原創,請勿抄襲和搬運,違者必究0135臺EUV光刻機已經到位了解EUV光刻機的人都知道,一臺EUV光刻機價值1.2億美元,而且是有價無市。因為全球唯一能生產EUV光刻機的ASML公司,每年生產的EUV光刻機數量都十分有限。上半年ASML一共僅生產了26臺EUV光刻機,而且都被臺積電,三星等大客戶爭搶。為了得到優先供貨,三星李在鎔甚至親自趕赴荷蘭,會見ASML高層,就是希望可以得到更多的EUV光刻機。但是很顯然,要論光刻機數量和優先供貨權,三星是不如臺積電的。
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    ,雙方洽談極紫外光刻機(EUV)設備的採購。韓國三星的半導體先進位程的推進狀況,仍落後於臺積電,但仍積極尋求在3奈米製程追上。據韓國媒體報導,荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾(ASML)近日拜訪三星半導體工廠,雙方洽談EUV設備的採購,與開發新一代機臺的合作計劃。報導也稱,三星如果可以搶先臺積電先取得下一代EUV機臺,會是他們取得技術領先的關鍵。
  • 兵進光刻機,中國晶片血勇突圍戰 - 光刻機,ASML,華為,臺積電,中芯...
    但是,目前有一個問題橫亙在面前:他們缺少一臺7nm EUV光刻機。這是決定能否大規模量產7nm晶片的關鍵設備。根據日媒披露,中芯國際在2018年就向荷蘭光刻機巨頭ASML訂購了一臺EUV光刻機。ASML是目前全球唯一能生產這種設備的廠商。雙方計劃的是2019年初交付設備。
  • 全球半數EUV光刻機都在臺積電手上,半導體技術領先秘密在ASML!
    臺積電在半導體生產上處於全球領先地位,但其背後最重要的合作夥伴 ASML(艾司摩爾),其 EUV 光刻機(光刻機)所帶來的優勢功不可沒。ASML 的 EUV 極紫外光微影技術光刻機,幫助臺積電在製作工藝上得到領先,甚至左踢三星、右踢 Intel、雙拳猛打格羅方德。臺積電目前擁有 ASML 總量一半的 EUV 光刻機,並達成整個半導體產業,累計總共 60% 的 EUV 晶片產量。
  • 1nm光刻機!荷蘭科技巨頭傳來新消息,臺積電「喜從天降」
    不過,身為全球第一大光刻機巨頭的ASML,卻沒有停下前進的腳步。 目前EUV光刻機的NA=0.33,而2nm以後則需要NA=0.55。這表示,ASML的更高精度光刻機有了重大進展。 與當前光刻機相比,下一代光刻系統將會十分巨大,這是因為其光學系統將會更大。
  • ASML雪中送炭,承諾繼續供貨,向中國展示7nm光刻機!
    提供晶片代工服務,臺積電也是拿到了最先進的荷蘭ASML光刻機,在掌握5nm晶片製造技術之後,進一步和三星、intel等拉開差距。可迫于禁令影響下,臺積電已經無法和華為開展業務合作,海外晶片代工廠亦是如此,自研光刻機技術已經到了迫在眉睫的階段,可惜國內最先進的自研光刻機停留在90nm階段,暫時無法滿足國產市場的需求!
  • ASML新動態: 1nm光刻機都已經來了嗎?
    ——臺積電大規模購買EUV光刻機,保持業界領先地位近期媒體報導,臺積電錶示其部署的極紫外光(EUV)光刻工具已佔全球安裝和運行總量的50%左右,這意味著其使用的EUV機器數量超過了業內其他任何一家公司。為了保持領先,臺積電已經下單訂購了至少13臺ASML的Twinscan NXE EUV光刻機,將會在2021年全年交付,不過具體的交付和安裝時間表尚不清楚。
  • 臺積電要籌集超42億元:加強創新發展、大規模購買EUV光刻機
    對於科技企業來說,擁有充足的資金,才可以保證強勁的創新,而臺積電也自然明白這個道理。據悉,臺積電今年第七批的無擔保普通公司債已定價完畢,將分三種年期發行185億元臺幣(約合人民幣近43億元),各年期利率較上次下跌。
  • 除了光刻機,還有蝕刻機!國產廠商攻克5nm技術,臺積電已下單
    而關於晶片,相信大家都已經因為華為這兩年的遭遇已經基本了解,而在晶片製造中,重要的關鍵設備便是:光刻機!不過除了光刻機之外,還有一種關鍵設備,重要程度僅次於光刻機,那就是蝕刻機!為什麼這麼說呢?因為晶圓加工,也就是晶片製造行業,由於處理工序多達數百道,而各種加工的設備機器因為精密昂貴,隨便一臺就要幾千萬美金,所以如果要建設晶片加工廠,設備的投入佔比就要超過70%以上,而晶圓製造設備種,光刻機佔比最高(30%),其次是刻蝕設備(20%),PVD,CVD,量測設備次之。
  • 臺積電憑什麼這麼牛?手握半數EUV光刻機,ASML是關鍵
    EUV光刻機是目前世界上最先進的光刻機,現在世界上大多數廠商還只擁有上一代DUV光刻機。和上一代光刻機相比,EUV光刻機的吞吐量相對較低,每小時可生產約120片至175片晶圓,目前技術改良後則提升到275片,但是,由於1層EUV晶圓通常可以代替3到4層DUV晶圓,所以生產效率反而更高。