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MOSFET理解與應用(Lec 2)
MOSFET理解與應用:Lec 3—你真的理解夾斷效應嗎?
本期內容
溝道長度修正MOSFET的結構和電學特性小結————————————————————————————————————
溝道長度修正上一期中提到 當V_DS>V_GS-V_TH時,溝道中出現夾斷效應,溝道的長度對略微減小。很多場景我們可以忽略這個長度的變化,但是當精度要求比較高的時候,我們就需要把溝道長度的變化考慮進來。看下面式子
因為溝道的有效長度L會隨著V_DS的增大而略微減小,所以I_D會隨著V_DS的增大而略微增大。我們可以用下面式子來表示I_D
這裡如果不考慮溝道長度變化,V_A為無窮大,考慮溝道長度變化時,V_A為有限值。I_D隨V_DS的變化的伏安特性曲線為:
MOSFET的結構和電學特性小結:1、MOSFET由金屬層-絕緣層-半導體基板三層結構組成。
現在絕大多數金屬層以多晶矽取代金屬作為其柵極材料,但是原理不變。絕緣層通常是二氧化矽。
2、MOSFET是對稱的,只有柵極是確定的,哪一端是源級,哪一端是漏極只有加載了電壓才能確定。對於NMOS來說,它靠電子導電,電子的「源泉」定義為源級。所以電壓低的一端是源級,電壓高的一端是漏極。(NMOS和PMOS的特點和區別下期詳細介紹)
3、溝道中電荷數量不是均勻分布的,靠近源級的一端電荷數量多,靠近漏極的一端電荷數量少。
4、當柵極電壓超過源級電壓V_TH時,溝道中就聚集了足夠多的電荷,只要源級和漏極有電壓差,在電壓的驅使下,這些電荷就能流動形成電流。
5、伏安特性曲線表達式:
① 當 V_GS<=V_TH時,稱為截止區,源級與漏極不導電。
② 當 V_GS>V_TH && V_DS<=V_GS-V_TH時,源級和漏極之間導電,I_D即和V_GS有關,又和V_DS有關,稱為三級區。(數字電路通常工作在三級區,關注我,後面會慢慢講到)
③ 當 V_GS>V_TH && V_DS>V_GS-V_TH時,源級和漏極之間導電,溝道中存在夾斷效應,I_D只和V_GS有關(在不考慮溝道長度變化的情況下),此時,MOSFET為一個受控電流源,受V_GS控制,此時稱為飽和區。放大器都工作在這個狀態,後面會慢慢講講CMOS放大器的所有特性。
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本期結束,下期介紹NMOS和PMOS的區別和特性,
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