(圖文版)AE野教程:Particular4.1詳細概述及螺旋線條小案例

記得在很久以前就有鹿友問過這樣一個效果：

當時研究的結論是要麼使用XP粒子4.0或者c4d xpresso表達式來完成，當時雖然已經有了AE Particular4.0，並且4.0已經加入了流體場。

但是由於自己當時對於AE連門都沒入，Particular插件更是搞不清楚，所以這個效果也就一直擱淺。

不過我最近發現鹿友們好多又在開始說這種螺旋線的效果：

唉，誰叫我鹿窮買不起XP4.0而且又笨學不會C4d xpresso表達式呢？

AE雖然到現在還是沒入門，但也只有硬著頭皮上把AE Particular的入門功能學習了一下。

這裡首先向大家分享一下我學Particular的過程吧，由於完全不懂，通過操作界面的對比，Particular2.0過於陳舊，3.0和現在最新的4.1界面上是最相近的，所以我首先把Particula3.0官方全面教程看了一遍：

然後又把Particula4.0新功能的官方教程看了一遍：

最後又發現原來現在最新版的已經是4.1了，於是又把4.1的新功能官方教程看了一遍：

在這裡囉嗦我學Particular的過程其實只是想給大家分享一些我個人學習方面的觀點：

經常有人會說沒教程，不知道怎麼學習，其實只要你有心，就會發現教程多的學都學不完。

我們需要的更多的不是教程，而是學習的主動性以及解決問題的能力，與其一直問C4D難不難學，AE難不難學，不如自己先挽起袖子學。與其抱怨好多好的教程都是英文，不如自己想辦法找機翻的工具來翻譯了學。

你問我C4D、AE難不難，我當然會說越學越難，但是辦法總比困難多，關鍵的一點還是在於自己學習的主動性。

當然，我也並不是把官方教程都看了一遍就都會了，很多時候是通過寫文章分享給大家同時也來鞏固自己所學到的知識。

今天的螺旋線效果，我也嘗試了不少時間，效果還是是沒有XP4.0或者C4d xpresso表達式做出來的好，總體感覺很平，但是螺旋的初步感覺是已經出來了。

所以，來吧，今天我們就用AE Particular最新版進行一個詳細的概述並且製作一個螺旋線的效果吧。

開始以前還是對Particular這款插件進行一個簡單的介紹吧。

Particular是紅巨星（Red Giant）旗下的一款相當強大的粒子插件，它旗下還有一款叫做Form的三維空間粒子插件。

重要性如同xp粒子插件對於C4D一樣，是想學AE特效必不可少需要了解的粒子插件。

當然除此之外，還有一款叫做Stardust的星辰粒子插件，也是我個人想要去學習了解的。

目前最新版的Particular是4.1版：

另外支持的AE版本以及系統要求大家都可以通過它們的官網查看到相關說明：

由於Particular菜單的功能很多，我也只是剛看完官方的入門教程，很多知識點可能理解的不是很深入，有機會我們以後再深究。

下面我還是像以前分享的TFD插件和RF插件一樣，把Particular菜單的每一個板塊進行一個詳細概述並且加上一些自己的理解吧，方便鹿友們以後查閱。

首先是主界面，我這裡用的是最新版Particular4.1，主界面分為11個大的板塊：

The Designer（設置器）

設置器是相較於老版本Particular2.0界面方面最大的變化，是3.0版本新增的。

可以通過該界面以交互且更加直觀的方式來調整粒子的形態，特別是在有流體場的情況下。

設置器的界面其實就是把主界面的各項功能分門別類的放在了不同的區域，你可以點擊下方的各項板塊之後，再通過右側來調節各個板塊的參數，以便大家操作起來更加簡潔，不會凌亂。

下方的各大板塊我們後面再來分享，這裡先分享設置器面板我覺得需要注意的點：

System（系統）：這裡其實就是主界面的顯示系統欄位，區別於老版本2.0，Particular從3.0開始可以在一個粒子系統裡面添加多個子系統，注意，這裡是子系統而不是子粒子。

老版本如果你想要添加多層粒子的效果，只能通過新建純色圖層以後，再次添加特效-Particular來完成，而從3.0開始，可以直接添加子系統，子系統的粒子的參數可以直接繼承主系統粒子，當然也可以更改。

Presets（預設）：官方介紹的是一共有355種預設，包括單系統預設以及多系統預設，快捷鍵按P可以調出，你可以將自己調整好的粒子效果存為預設方便以後再次調用。

Blocks(板塊)：這裡存放的是各個板塊的預設，例如發射器的預設，粒子顏色的預設等，快捷鍵按B鍵可以調出，也可以雙擊下方的各個板塊單獨調出。同時也可以將自己各個板塊調整好的參數存為預設，方便以後調用，只需要點擊下方的板塊滑鼠右鍵選擇Save Block。

Help（幫助）：點擊以後直接跳轉官方用戶手冊界面，相當有用。

預覽窗口下方有幾個小圖標需要注意一下：

Camera Preview（攝像機預覽）：攝像機預覽的使用方法和AE默認的攝像機是一樣的，點擊激活以後可以通過按C鍵切換攝像機工具，對攝像機進行旋轉、平移、推進來觀察粒子的形態。

Motion Blur（運動模糊）：激活以後可以預覽運動模糊效果，需要注意的是這裡只是預覽，要創建運動模糊需要在合成裡開啟運動模糊才行。

Depth of Field（景深）：激活以後可以預覽景深效果，同樣這裡也只是預覽，要創建景深效果還是需要在合成中創建攝像機開啟景深才可以。

Full Render（完全渲染）：當我們粒子數量很多的時候，預覽會很卡，如果你只想觀察粒子的運動形態可以嘗試點擊此按鈕，激活以後它會忽視大小、不透明度隨機性、混合模式，景深等效果。

Show Systems（顯示系統）

顯示系統界面很簡單，可以直觀的看到你總共添加了幾個粒子系統，軟體最多支持添加8個系統。

單擊單個粒子系統，下方則只會顯示單個系統的各項參數屬性，你也可以點擊All Systems將所有的粒子系統參數屬性全部顯示出來。

點擊每個系統前方的小眼睛可以在預覽視窗裡顯示或者隱藏該系統的粒子效果。

點擊每個系統後面的小三角，可以選擇刪除、單獨顯示或者重置該系統。

下方會顯示合成中的粒子可見數以及粒子總數。

Emitter basic（發射器基本設置）

發射器面板的參數非常多，很多參數的含義是所見即所得的，因為發射器的系統以及類型不同，所展示出來的選項會有區別，所以這裡暫且歸類為發射器基本設置吧。

Emitter Behavior（發射器行為）：發射器行為分為連續、爆炸以及來自發射器速度。連續就是連續發射，爆炸就是粒子以爆炸的方式發射一次。而來自發射器速度需要注意的是，發射器的速度而不是粒子的速度，也就是說當發射器發生位移變化的時候，才會發射粒子。

Position Subframe（位置子幀）：有四種模式，用途主要是讓粒子的運動看起來更加平滑。

Direction Spread（方向擴散）：當選擇發射器類型為燈光發射器或者發射方向為隨機以外的選項時，該選項才會激活。

Velocity（速度）：和XP粒子一樣，Particular的粒子速度也是給粒子一個初始速度，在沒有力場的前提下，單個粒子的速度是恆定不變的。

Velocity Distribution（速度分布）：當速度有隨機值時，該參數越大，大於初始速度的粒子越多，反之則小於初始速度的粒子越多。

Velocity from Motion（速度繼承運動）：當參數為正值時，可以簡單理解為粒子的運動慣性，當參數為負值的時候，可以簡單理解為噴氣飛機的噴氣。

Emitter Size（發射器尺寸）：發射器為Box，Sphere，Grid，Light和OBJ時，會出現該選項，XYZ軸可單獨設置參數。發射器為Layer和Layer Grid時，只出現Z參數，X和Y大小由層的大小控制。

Pre Run（發射額外設置/預運行）：粒子發射是一個從無到有的過程，修改該參數可以讓我們在第一幀就看到粒子。

Periodicity Rnd（周期運行）：用於以隨機間隔發射粒子。僅在使用「方向擴散」為0的定向發射器時才有用。我試了試，好像就是讓粒子與粒子之間的間隔有一個隨機。

Lights Unique Seeds（設置唯一）：當有多個燈光作為發射器的時候，默認每個燈光發射出來的軌跡是一模一樣的，勾選該選項可以讓每個燈光的軌跡不同。

Random Seed（隨機種子）：當動畫模擬出現問題的時候，可以更改該參數用於刷新。

Grid Emitter（網格發射器）

網格發射器很簡單，當發射器為網格或者圖層網格時，激活該選項。

當我們選擇為網格發射器時，每一個網格都會發射粒子，所以Particles in X, Y, Z我覺得翻譯為xyz軸網格數量更準確。

Periodic Burst（周期性發射）：當選擇類型為周期性發射，整個網格同時會發射粒子。

Traverse（遍歷）：當選擇類型為遍歷時，粒子將沿網格依次發射。

Lights Emitter（燈光發射器）

燈光發射器是Particular常用的發射器類型之一，它可以指定合成當中的燈光作為發射器，沿著燈光運動的路徑發射粒子。

由於我們C4D裡的燈光是可以導入AE的，所以在C4D中通過各種方式來控制燈光的運動形態，然後再導入AE使用Particular的燈光發射器來發射粒子是非常常用的一種技法。

將發射器模式改為燈光發射器之後，需要點擊Choose Names然後輸入合成中燈光圖層的首字母來判定哪些燈光圖層發射粒子，經測試，中文名稱的話輸入第一個漢字是可以識別的。

選擇燈光發射器以後，粒子/秒修改器將會被激活，我們不僅可以通過發射器基本設置中的粒子/秒來控制粒子的數量，還可以通過燈光本身的強度、陰影深度以及陰影擴散的數值來控制。

Layer Emitter（圖層發射器）

當發射器為圖層或者圖層網格時，激活該選項。

圖層發射器也是Particular常用的發射器類型之一，它可以通過自定義的圖層來發射信息，由於圖層的很多信息都可以用來驅動粒子的屬性，所以圖層發射器常常可以做出很多很棒的效果。

Layer（圖層）：使用圖層發射器，首先需要把圖層轉為3D圖層，除了可以選擇圖層作為發射器以外，還可以選擇圖層的蒙板以及效果作為發射器。

Layer Sampling（圖層採樣）：圖層採用中，當前時間和當前幀選項效果一樣，當圖層的圖像消失時，粒子也隨之消失，粒子出生時間則是圖像消失以後，粒子仍然會存在。

Layer RGB Usage（圖層RGB使用情況）：當中的參數代表著使用圖層的某些信息來驅動粒子的某些屬性。

OBJ Emitter（OBJ發射器）

當發射器為OBJ發射器時，激活該選項。

OBJ發射器是Particular3.0才新增的一個功能，你可以選擇預設的OBJ作為發射器，也導入自己的OBJ模型或者OBJ序列作為發射器。

Refresh（刷新）：當obj進行了修改以後，發現粒子沒有變化時，可以點擊此按鈕。

Emit From（發射源自）：這個和XP粒子一樣，可以分別從點、邊、面以及體積發射粒子。

Normalize（標準化）：官方解釋是為了保證導入obj對象在發射器中心並且適合發射器大小，不管它吧，默認勾選。

Text/Mask Emitter（文本/蒙板發射器）

當發射器為文本/蒙板發射器時，激活該選項。

文本/蒙板發射器是Particular4.1新增的功能，可以使用該功能很輕鬆的做出文本描邊動畫等效果，需要注意的是，蒙板也可以是一個開放的路徑，因此該功能還可以做出滅霸響指的效果哦。

發射源自、圖層採樣以及圖層RGB使用情況和圖層發射器一樣，這裡就不贅述了。

Use Master Layer（使用主系統圖層）：當有多個文本/蒙板發射器時才會出現該選項，如果我們希望都以主系統圖層作為發射器可以勾選該選項，避免一個一個手動選擇。

Match Text/Mask（匹配文本/蒙板）：激活以後，會自動匹配文本/蒙版XY大小，但是仍然可以調整Z軸的參數。

Stroke Edges Sequen（順序描邊）：發射源自選擇為邊的情況下才可使用，它能決定你的路徑運動是同時作用於所有的文本/路徑還是從第一個文本/路徑開始。

Path Start/End（路徑開始/結束）：發射源自選擇為邊的情況下才可使用。

Path Offse（路徑偏移）：發射源自選擇為邊的情況下才可使用。

Loop（循環）：發射源自選擇為邊的情況下才可使用。

Use First Verte（使用第一個頂點）：官方沒有介紹，應該是Particular4.1.2才有的功能，我測試了一下，好像就是改變路徑開始運動的頂點。

發射器終於介紹完了，Particular之所以強大不僅由於發射器種類多種多樣，粒子的類型也是多種多樣的。

Particle Type（粒子類型）

粒子類型一共有十三種。但是大體可以分為三類。

a、默認類：球體、發光球、星形、雲朵、條紋這五種都可以歸為默認類，它們都是由粒子內部系統發射出來的粒子。

b、自定義類：精靈、精靈著色、精靈填充、紋理多邊形、紋理多邊形著色、紋理多邊形填充都可以歸為自定義類，它們都是需要自定義一個圖層來作為粒子形態，也就是我們常說的粒子替代。

著色和填充的區別是著色可以保留亮度信息而填充不能。精靈和紋理多邊形的區別是精靈是始終朝向攝像機的，而紋理多邊形具有3D方向。

需要注意的是，使用圖層替代粒子，圖層不能太大，否則會很卡，官方建議是最多500*500像素即可。

c、特殊類：正方形和圓可以歸為特殊類，雖然他們也是由粒子內部系統發出的粒子，但是有一定的特殊，正方形粒子不能羽化，而圓粒子不受景深影響。

Texture（紋理）：當粒子類型為精靈組或紋理組時激活。

Time Sampling（時間採樣）

時間採樣裡可以詳細說明一下。

a、Current Time（當前時間）：默認選擇是當前時間，如果自定義圖層是靜止圖像，就選它。

b、Start at Birth - Play Once/Loop/Stretch（從出生開始-一次/循環/拉伸）：當自定義圖層是是動畫時，這三個選項均從第一幀開始，需要注意點是拉伸這個選項，指的是對動畫時間的拉伸，讓動畫的時長等於粒子的生命時長。

c、Random - Still Frame/Play Once/Loop（隨機-靜止幀/一次/循環）：相當於從出生開始三個選項，當自定義圖層是動畫時，隨機是指的在動畫裡隨機選取一幀進行後面的行為。

d、Split Clip - Play Once/Loop/Stretch（分割剪輯-一次/循環/拉伸）：分割剪輯的次數由下方的Number of Clips（剪輯數）決定，例如一個30幀的動畫，剪輯數為2，則動畫被剪輯為2個15幀的片段，然後隨機選擇其中一個片段進行後面的行為。

e、Current Frame Freeze（凍結當前幀）：顧名思義。

Number of Clips（剪輯數）：前面提到了，配合時間採樣中的分割剪輯使用。

Subframe Sampling（子幀採樣）：官方介紹是可以檢索介於幀之間的幀，不懂。

Rotation（旋轉）：當粒子類型為非球體或圓形時激活該選項。

Orient to Motion（定向運動）：例如箭頭，啟動以後箭頭始終指向運動的方向。

Aspect Ratio（橫縱比）：調整該數值可以讓粒子在橫縱方向上進行拉伸。

Size/Opacity over Life（尺寸/透明度隨生命變化）：都是通過繪製曲線來控制參數隨生命的變化。

Set Color（設置顏色）：設置顏色裡有四種模式，當選擇模式為非出生時，顏色隨生命變化選項將被激活，當發射器為燈光發射器的時候，使用燈光來控制粒子的顏色會做出很多很棒的效果。

Unmult（去黑）：如果你替換的圖像沒有Alpha通道，可能會導致有很多黑色的區域，可以嘗試開啟這個選項去黑。

Blend Mode over Life（混合模式隨生命變化）：當混合模式為正常/疊加隨生命變化或正常/屏幕隨生命變化時，該選項激活。

粒子板塊雖然我都弄成了一張圖，但是解釋的內容還是很多的，希望各位鹿友可以多注意查看，接下來是陰影板塊了，好累啊。

Shading（陰影）

陰影板塊默認是關閉的，開啟以後，需要在合成中創建燈光才能看到粒子。

Light Falloff（燈光衰減）：兩種燈光衰減方式，自然（Lux）更加真實，但是渲染會更慢。

Nominal Distance（目標距離）：假設燈光強度為100，目標距離是250，則在距離燈光250像素處的燈光強度為100，距離越近相當越大。使用這個參數是一個很少的擴展燈光的方法，而不用一味的調整燈光的強度導致局部過亮。

Ambient（環境）：參數控制粒子反射多少的環境光，需要在合成中新建環境光才有效。

Reflection Map（反射貼圖）：可以加載一張貼圖讓粒子反射環境。

Shadowlet Settings（子陰影設置）：子陰影指的是讓粒子自身產生陰影，讓粒子更有體積感。

Placement（布局）：這個選項官方說明也是不常用，大家了解一下就行，默認情況下是自動，項目的意思是通過一個燈光來控制子陰影的深度，總是在前和總是在後指的是子陰影和粒子的前後關係。

接下來就是物理場了，Particular參數最多的三個板塊就是發射器、粒子以及物理場。物理場有三個模式：空氣、反彈、以及流體（4.0新增），讓我們挨個來看看吧。

Physics Model Air（物理場空氣模式）

Particular物理場默認選擇的是空氣場，在選擇模式為Air或Bounce的前提下，重力和物理時間因素兩個選項可用。

Air空氣場下面又有風場、湍流場以及球形場。

Physics Time Factor（物理時間因素）：這個參數很有用，它可以通過打關鍵幀來控制粒子運動的快、慢以及靜止。

Motion Path（運動路徑）：這也是個很有用的功能，它可以通過一個燈光的位移來控制粒子運動的方向，新建燈光命名必須是Motion Path1、2、3等。

這裡需要區分一下它和燈光發射器的區別，燈光發射器也可以通過燈光的位移來控制粒子的運動方向，但它的原理是發射器位置的改變，而運動路徑是在不改變發射器位置的前提下，來控制粒子的運動方向。

Air Resistance（空氣阻力）：很有用，可以讓粒子運動起來更加優雅。

Air Resistance Rotation（空氣阻力旋轉）：勾選以後空氣阻力不僅可以影響運動速度，還可以影響旋轉。

Spin Amplitude/Frequency（自旋幅度/頻率）：這兩個數值共同決定粒子沿隨機的圓形軌道運動的頻率以及大小。

Fade-in Spin [sec]（漸入旋轉[秒]）：讓粒子漸漸的進入旋轉，過渡更自然。

Turbulence Field（湍流場）：湍流場的工作原理不是流體動力學，而是靠分形雜色（可以查看AE-特效-雜色和顆粒-分形雜色）來實現影響粒子的位置和運動。

詳細原理大家感興趣的話可以看看官方手冊，有詳細的解釋。

Affect Size（影響尺寸）：讓湍流場影響粒子的尺寸。

Affect Position（影響位置）：讓湍流場影響粒子的位置，這個看起來自旋的兩個參數效果很像，但是湍流是靠分形雜色來實現來替換粒子位置，運動的軌道也不是隨機圓形。

Scale（級別）：相當於分形雜色的尺寸。

Octave Multiplier/Scale（八度乘數/音階）：和湍流的工作原理有關，總之大家記住是用來控制湍流對粒子的影響程度就行了，詳細原理還是查看官方手冊吧。

Evolution Speed（演化速度）：演化速度控制湍流場隨時間變化的速度。

Evolution Offset（演化偏移）：類似演化的時間隨機種子。

Move with Wind（隨風而動）：配合風場使用。

Bounce（反彈）

反彈力總體屬性還是比較簡單的，常用於模擬一些下雨的場景，它可以最多指定兩個圖層分別為地面和牆面來發生碰撞，且地面和牆面圖層必須靜止。

Floor/Wall Layer（地板/牆面模式）：可以指定圖層的大小或者Alpha或者無限來進行碰撞。

Fluid（流體）

流體動力學是Particular4.0新增的功能，它可以幫助我們更好的使用粒子模擬類似液體的形態，今天我們要製作的漩渦線條效果就會用到它。

另外一點需要額外注意的是，當我們存在多個流體系統的時候，流體與流體之間是可以發生交互的，大家可以幻想一下七龍珠裡衝擊波對撞的樣子。

Fluid Force（流體力）：流體有三種模式。

僅浮力和旋流：粒子受到向上或向下的浮力，且繞整個軸旋轉。

渦流環：粒子受到向上或向下的浮力，力是多組小的圓環。

渦流管：顆粒受到向上或向下的浮力，力是單個渦流。

Visualize Relative Density（相對可視化密度）：相對可視化密度有兩個選項：不透明度：粒子越多，流體力越大，越透明。亮度：粒子越多，流體力越大，越亮。

Global Fluid Controls（流體全局設置）

關於流體方面，這裡還有一個全局設置，這裡的參數會影響合成中所有有流體的粒子系統。

Fluid Time Factor（流體時間因素）：數值越小，粒子流體速度越慢。

Simulation Fidelity（模擬真度）：數值越高越精準，但是模擬的速度越慢。

Aux System（子粒子系統）

子粒子系統經常用於製作粒子的拖尾，但是它和XP粒子的拖尾不一樣，它更像是XP粒子的產卵場。

子粒子系統的很多參數也是和主粒子一樣的，所以這裡就不贅述相同的內容了。

需要注意的是，子粒子系統中的重力、空氣阻力、風的影響以及湍流位置只會對子粒子產生影響，且物理場下的參數僅在空氣和流體模式下才有效。

Emit（發射）：可以選擇是持續發射還是發生碰撞時發生，發生碰撞時發射常用於製作雨落到地面的效果。

Emit Probability（發射概率）：按照主粒子數量的百分比來進行發射。

Start/Stop Emit（開始/停止發射）：可以設置子粒子在主粒子生命的百分之多少時開始發射和停止。

Inherit Main Velocity（繼承主粒子速度）：子粒子可以設置自己的速度，也可以讓它繼承主粒子速度。

Type（類型）：子粒子可以設置自己的粒子類型，各種類型的操作方法和主粒子一樣，也可以讓它直接繼承主粒子。

Color From Main（繼承主粒子顏色）：顏色同樣可以繼承主粒子或者設置自己的顏色。

最後剩下的三個板塊是世界變換、可見性以及渲染，參數不多但是都很實用，我這裡就直接一次性備註出來了。

World Transform（世界變化）

世界變化是一個很簡單且很實用的板塊，可以調整粒子在世界坐標系裡的位置，當我們調整好的粒子狀態與攝像機位置不太匹配的時候，可以使用該功能。

Visibility（可見性）

Far/Near Vanish(遠/近不可見）：我們可以通過這兩項參數設置遠、近距離攝像機多少的粒子不可見，這樣可以加快渲染顯示。

Far/Near Start Fade（遠/近淡出）：讓遠/近不可見過渡更柔和。

Z Buffer（Z緩衝區）：通常配合三維軟體使用，加載一張深度通道的圖來讓粒子與對象產生交互，具有遮擋關係。

Z at Black/White（Z黑/白色區）：配合Z緩衝區功能使用，讓交互過渡更加自然。

Obscuration Layer（遮罩層）：設置一個圖層，讓粒子和該圖層產生交互，具有遮擋關係。

Also Obscure With（同時遮罩）：在設置遮罩層的同時，還可以設置層發射器、地面、牆壁或所有為遮罩。

Rendering（渲染）

Acceleration（加速）：3.0版本以後新增了GPU加速的選項，GPU加速有直接/流動兩種模式，直接更精確，但是提高速度沒那麼明顯，流動模式反之並且不會渲染例如混合模式等功能。另外一點需要注意的是，GPU加速的只是圖像處理，換言之如果因巨量的粒子而產生的卡頓，GPU也無法加速。

Particle Amount（粒子數量）：控制粒子的可見數，以加快預覽。

Depth of Field（景深）：開啟景深後，景深的類型有正方形/光滑兩種類型，光滑更真實，渲染更慢。

Motion Blur（運動模糊）：開啟運動模糊以後，可以使用合成設置來控制運動模糊，也可以直接在Particular裡設置。

Ocpacity Boost（透明度提升）：可以強制提高粒子的透明度。

Disregard（忽略）：可以忽略攝像機運動/以及物理時間因素帶來的模糊，物理時間因素指的是例如一個爆炸的粒子效果，當我們凍結時間的時候，時間突然停頓，運動模糊應該也會停頓，選擇物理時間因素以後，即使凍結時間仍然會有運動模糊。

啊啊啊，終於可以開始今天的小案例了，老實說，上面的內容我寫了5天啊。

好了，開始吧，由於粒子方面其實發射器也是蠻重要的，所以我這裡先用C4D做了一個簡單的模型用來當做發射器。

首先打開C4D新建一個平面，尺寸可以大一點，然後給平面一個置換變形器：

著色器面板給一個噪波貼圖，全局縮放大一點：

置換的強度大一點，然後就可以導出obj文件了：

打開AE，新建合成，導入obj文件，這個不用說吧：

新建純色圖層，給純色圖層添加Trapcode-Particular：

發射器類型選擇為OBJ發射器，選擇從模型的表面發射粒子，發射器的尺寸可以適當改大一些：

新建一個攝像機，調整好視角，粒子數量可以多一點，這樣方便觀察：

粒子的尺寸可以小一點，然後物理場裡將模式切換為流體，模式為僅浮力和旋流，關掉浮力，持續模式為在開始，讓它只在Y軸上發生作用：

讓粒子的尺寸以及透明度都隨生命有一個變化，然後生命，尺寸以及透明度都給一點隨機：

顏色也隨生命而變化，選一個漸變色吧，然後混合模式為Add：

當流體場的尺寸大一些，打開子粒子系統，選擇持續發射，每秒發射數量多一些，生命給點隨機：

同樣混合模式Add，尺寸和不透明度隨生命變化同時給點隨機：

顏色讓它繼承主粒子的顏色：

剩下就是調整細節了，例如發射器的方向、粒子的數量、尺寸等，這個真的沒有固定可言，多多嘗試吧：

你還可以做個攝像機動畫，把景深打開，不過我總覺得AE的攝像機不好用，可能是自己弄不好吧：

可以再給個發光特效：

如果覺得不夠亮，還可以將粒子層複製一層出來疊加一下：

我最後換了一個漸變色，然後加了點文字導出來看看靜圖和動圖的效果吧：

動圖

靜圖

感覺靜圖比動圖好看，沒有XP粒子做出來那麼整齊，嘛~大概就這樣吧。

今天的內容很長，我同樣把備註好的圖給大家整理好了，供有需求的鹿友查看：

好啦，今天的內容就分享到這裡，想要插件、源文件、原視頻以及備註的童鞋後臺撩我獲取吧！

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