光晶片的電極製作,經常用到一個設備,叫電子束蒸發
電子束蒸發,是一種物理氣相沉積技術,可以得到高精度高純度的金屬膜
沉積,是指懸浮顆粒逐步沉降的過程。金屬顆粒,一步步沉積在材料表面,形成金屬膜,用來做電通道接觸,俗稱金屬電極
沉積,有固相沉積,比如咱們能看到的沉積巖,一層層的固體顆粒在重力作用下沉降,日久天長形成的一層層巖石。
液相沉積,是以液體的形式在材料表面附著後再固化,形成的薄膜
氣相沉積,是金屬氣化後,沉積到材料表面,固化,形成薄膜。
氣相沉積的最大特點,是均勻。
氣相沉積,是咱們光晶片、電晶片各道工序常用的的一種技術類別。
能產生化學反應的氣體,叫化學氣相沉積,咱們做雷射器外延生長的MOCVD就是一種化學氣相沉積技術,幾種氣體產生反應,生產化合物
電子束蒸鍍,是一種物理氣相沉積技術,不產生化學反應,只把金屬材料氣化。
產生電子束,不是難題,高壓槍給電子加速
電子束,一般分為環形槍,直型槍和e型槍,e型槍是一種常用的方法,摒棄了前兩種電子槍的缺點。只是有些貴
所謂的e型,就是用磁環來控制電子束的方向,讓它們做270度左右的拐彎。拐的彎像字母「e」
改變電子束方向,是為了讓電子束精準的落在咱們的金屬材料上。
電子束的動能,在與金屬接觸的局部地區,轉化為熱能,可以產生三千攝氏度以上的高溫,高溫使得金屬材料熔化請氣化,氣相沉積唄,首先得有產生氣體材料。
用電子蒸鍍,就是一般的蒸發設備很難產生這麼高的局部溫度,要麼是像鋼廠一樣是大面積熔化金屬,這太浪費,要麼就是單點產生不了超高溫,沒有金屬氣化物。
在咱們需要做電極的材料上,氣相離子,透過擋板,一層層沉積
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