EVG與DELO合作為晶圓級光學元件和納米壓印光刻技術開發材料並提升...

2020-12-03 OFweek維科網

在 EVG 的 NILPhotonics? 解決方案支援中心,雙方合作研發用於製造光學傳感器的新材料,以及適用於大眾化市場的晶圓級光學元件。

ST. FLORIAN(奧地利)與 WINDACH (德國),2019年11月27日 —— EV 集團 (EVG) 這一全球領先的為微機電系統、納米技術與半導體市場提供晶圓鍵合與光刻設備的供應商,今天宣布與高科技工業粘合劑製造商 DELO 在晶圓級光學元件 (WLO) 領域開展合作。這兩家公司均在光學傳感器製造領域處於領先地位。它們的合作將充分利用 EVG 的透鏡注塑成型與納米壓印光刻 (NIL) 加工設備與 DELO 先進的粘合劑與抗蝕材料,在工業,汽車,消費類電子產品市場開發與應用新型光學設備,例如生物特徵身份認證,面部識別。

目前雙方正在 EVG 的 NILPhotonics? 解決方案支援中心 (位於 EVG 總部,奧地利 Florian)以及 DELO 在德國 Windach 的總部展開合作。雙方致力於改善與加快材料研發周期。EVG 的 NILPhotonics 解決方案支援中心為 NIL 供應鏈的客戶與合作夥伴提供了開放的創新孵化器,旨在通過合作來縮短創新設備與應用的研發與推廣周期。該中心的基礎設施包括最先進的潔淨室與支持 NIL 製造的主要步驟的設備,例如分步重複母版,透鏡模製,以及 EVG 的 SmartNIL? 技術,晶圓鍵合與必要的測量設備。它為晶圓級光學元件開發、原型設計和製造提供了一種獨特的方法,可以方便地接觸最新研發技術與材料。

晶圓級納米壓印光刻和透鏡注塑成型技術確保在如3D感應的應用中使用小尺寸的高解析度光學傳感器

供應鏈合作推動晶圓級光學元件應用

要在下一代光學傳感器的大眾化市場中推廣晶圓級生產,先進的粘合劑與抗蝕材料發揮著不可取代的作用。開發先進的光學材料,需要充分地研究化學、機械與光學特性,以及已被證實的大規模生產(HVM)的可擴展性。擁有在NIL 圖形壓印和抗蝕工藝方面的材料兼容性,以及自動化模製和脫模的專業知識,才能在已驗證的大規模生產中,以最小的形狀因子達到晶圓級光學元件的最佳性能。

材料供應商與加工設備製造商之間的密切合作,促成了工藝流程的研發與改善,確保晶圓級光學元件的高質量和製造的可靠性。EVG 和 DELO 的合作將支持雙方改善工藝流程與產品,並增強雙方的專業技能,從而適應當前與未來市場的要求。雙方的合作提供了成熟的材料與專業的工藝技術,並將加快新產品設計與原型製造的速度,為雙方的客戶保駕護航。

「NILPhotonics 解決方案支援中心的獨特之處是:它解決了行業內部需要用更短時間研發產品的需求,同時保障最高的保密性,」 EV集團的技術研發與 IP 主管Markus Wimplinger說, 「通過與供應鏈的關鍵企業的合作,例如 DELO,我們能夠進一步提高效率,作為與工藝和設備專家們一同研究並建立關鍵的新生產線製造步驟的中心。」

「EVG 和 DELO 分別是晶圓級光學儀器與 NIL 設備與光學材料的技術與市場領先企業。雙方在將技術與工藝流程應用於大規模生產方面有可靠的經驗,」  DELO 的董事總經理 Robert Saller 說道。「通過合作,我們將提供自己獨特的技術,將晶圓級工藝技術應用於光學器件和光電器件製造中,EVG也成為我們最新產品開發的理想合作夥伴。這種合作還將使我們以應用專家和頂級合作夥伴的身份為客戶服務。"

晶圓級光學元件的應用解決方案

EVG 的晶圓級光學器件解決方案為移動式消費電子產品提供多種新型的光學傳感設備。主要的例子是: 3D 感應,飛行時間,結構光,生物特徵身份認證,面部識別, 虹膜掃描,光學指紋,頻譜檢測,環境感應與紅外線成像。其它應用領域包括汽車照明,光地毯,平視顯示器,車內感應,雷射雷達,內窺鏡照相機醫學成像,眼科設備與手術機器人。EVG 的晶圓級光學儀器解決方案得到公司的 NILPhotonics 解決方案支援中心的支持。

DELO 創新的多功能材料幾乎可以在世界上每部手機上找到。該公司的高科技粘合劑以功能與可靠性聞名於世。根據客戶的專門需求,公司對這些聚合物作出調整,使其具備其它特徵。它們極其適合工業環境,在較短的生產周期時間內粘合各種微小的元件。此外, DELO 紫外線 LED 固化設備與點膠閥的可靠度十分傑出。

關於德路

德路 (DELO) 是世界領先的工業粘合劑製造商,總部位於德國慕尼黑附近的 Windach 。在美國、中國、新加坡及日本均設有子公司。2019財政年,公司的780名員工創造了1.56億歐元的銷售額。該公司產品在全球範圍內廣泛應用於汽車、消費類電子產品與工業電子產品。幾乎每一部智慧型手機與超過一半的汽車上都使用該公司產品。DELO 的客戶包括博世、戴姆勒、華為、歐司朗、西門子以及索尼等。

關於 EV Group (EVG)

EV 集團 (EVG) 是為生產半導體、微機電系統 (MEMS)、化合物半導體、功率器件以及納米技術器件製造提供設備與工藝解決方案的領先供應商。該公司主要產品包括晶圓鍵合、薄晶圓處理、光刻/納米壓印光刻技術(NIL)與計量設備,,以及塗膠機、清洗機與檢測系統。EV集團創辦於1980年,可為遍及全球的眾多客戶與合作夥伴提供各類服務與支持。

相關焦點

  • EVGROUP與INKRON共同開發下代光學組件的高折射率材料和納米壓印光...
    FLORIAN和芬蘭埃斯波—EV Group(EVG),為MEMS、納米科技和半導體市場提供晶圓鍵合和光刻設備的領導品牌供貨商,今天宣布,它和專注於高折射率和低折射率塗層材料的製造商 INKRON開始合作夥伴關係。兩間公司將為開發和生產高質量衍射光學組件(DOE)結構提供優化的製程和相符的高折射材料。
  • 【光刻百科】納米壓印光刻 Nanoimprint Lithography (NIL)
    壓印技術加工技術根據圖形尺寸的大小可分為納米壓印技術和模壓技術。最初提出的納米壓印技術為熱壓印納米技術和室溫納米壓印技術。圖1 納米壓印圖納米壓印是一種全新的納米圖形複製方法。流程圖如圖1所示。目前,這項技術最先進的程度已經達到5nm以下的水平。納米壓印技術主要包括熱壓印(HEL),極紫外壓印(UV-NIL)(包括進一閃光印(S-FIL)),微接觸印刷。納米壓印是加工聚合物結構的最常用方法,它採用高解析度電子束等方法將結構複雜納米結構圖案制在印章上,然後用預先圖案化印章使聚合物材料變形而在聚合物上形成結構圖形。
  • 光刻技術概述及光刻技術的原理
    目前光學光刻技術的發展方向主要表現為縮短曝光光源波長、提高數值孔徑和改進曝光方式。在實用化方面取得最引人注目進展的要數移相掩模技術、光學鄰近效應校正技術和離軸照明技術, 尤其浸沒透鏡曝光技術上的突破和兩次曝光技術的應用, 為解析度增強技術的應用更創造了有利條件。 電子束光刻 電子束光刻技術是微型技術加工發展的關鍵技術,他在納米製造領域中起著不可替代的作用。電子束光刻主要是刻畫微小的電路圖,電路通常是以納米微單位的。
  • 晶圓級超表面光刻技術
    對於大規模的納米結構圖形化,EBL和FIB需要較長的處理時間,因此不適合大規模生產。相比之下,光刻技術能夠在短時間內刻制出大規模的納米結構。近日,新加坡A*STAR微電子研究中心的Nanxi Li等人在Nanophotonics上發表綜述,總結了使用CMOS兼容的光刻技術來製備大面積納米結構超表面的最新工作,主要包括控制步長來光刻超表面器件的開拓性工作,以及採用沉浸式光刻技術製備超表面器件的工作,詳細的介紹了器件的製備步驟和器件性能
  • 柔性納米壓印實現曲面光柵的高效印刻,助力光譜儀的微型化
    林慧團隊從古代活字印刷術中獲得靈感,發明了用於曲面的柔性納米壓印技術,改進了關鍵器件,創新性地將光譜儀與合成生物學大設施、爬壁機器人等新領域結合,碰撞出全新應用場景。將複色光分解為單色光的光柵,是光譜儀運轉的關鍵。用光譜儀測量物品的反射或透射光,將複雜成分的光分解為光譜,然後通過數據分析,就可以知道物品的成分。「其中光柵相當於光譜儀的『心臟』,是核心器件。」林慧表示,他們的研究就是從光柵上下功夫。
  • 什麼是納米材料?什麼是卷對卷工藝?什麼納米壓印光刻?
    納米材料"納米材料" 是一個術語, 包括所有納米材料, 包括工程納米粒子、附帶納米粒子和自然界中存在的納米物體。納米為長度單位,1米=10的9次方納米。納米材料以生物材料或人類活動的副產品的形式存在於自然界中。
  • 柔性納米壓印技術實現光譜儀由大型科研儀器走向便攜應用
    林慧團隊從古代活字印刷術中獲得靈感,發明了用於曲面的柔性納米壓印技術,改進了關鍵器件,創新性地將光譜儀與合成生物學大設施、爬壁機器人等新領域結合,碰撞出全新應用場景。將複色光分解為單色光的光柵,是光譜儀運轉的關鍵。  用光譜儀測量物品的反射或透射光,將複雜成分的光分解為光譜,然後通過數據分析,就可以知道物品的成分。「其中光柵相當於光譜儀的『心臟』,是核心器件。」林慧表示,他們的研究就是從光柵上下功夫。
  • 光電器件微納加工技術——光刻工藝與雷射直寫
    微納加工技術指尺度為亞毫米、微米和納米量級元件以及由這些元件構成的部件或系統的優化設計、加工、組裝、系統集成與應用技術,涉及領域廣、多學科交叉融合,其最主要的發展方向是微納器件與系統(MEMS和NEMS)。 微納製造包括微製造和納製造兩個方面。
  • 光刻技術的發展史
    應用的主要光源從KrF準分子雷射器248納米雷射,ArF準分子雷射器193納米雷射到F2準分子雷射器157納米雷射。當光源波長發展到157納米,由於光刻膠和掩膜材料的局限,圖形對比度低等因素,使得157納米光刻技術的發展受到很大限制。
  • 中國科學院開發的5納米超高精度雷射光刻技術
    中國科學院蘇州研究所和國家納米中心在《納米快報》上發表了題為「製備5納米間隙電極的超解析度雷射光刻技術」。「超解析度雷射光刻技術在5 nm納米間隙電極和陣列上」的研究論文介紹了該團隊開發的新的5 nm超高精度雷射光刻處理方法。
  • 光刻技術的歷史與現狀
    隨著雙重圖形曝光技術的發展,以英特爾(Intel)為代表的晶片製造商已經宣布正式放棄157納米的光刻技術,從90納米工藝一直到未來的45納米工藝都依賴於193納米光刻技術。而隨著浸沒式光刻技術和解析度增強技術的發展,光刻精度和性能不斷提高。
  • 深度解析光刻技術的歷史與現狀
    應用的主要光源從KrF準分子雷射器248納米雷射,ArF準分子雷射器193納米雷射到F2準分子雷射器157納米雷射。當光源波長發展到157納米,由於光刻膠和掩膜材料的局限,圖形對比度低等因素,使得157納米光刻技術的發展受到很大限制。
  • 摩爾定律全靠它 CPU光刻技術分析與展望
    ● 二次曝光和二次圖形曝光技術    遠紫外光刻技術存在的問題為一批新興技術提供了契機,譬如沉浸式光刻、無掩膜光刻和納米壓印光刻。遠紫外光刻技術會出現在16納米階段。同時VLIW對無掩膜光刻和納米壓印光刻較為悲觀。其執行長G. Dan Hutcheson認為「除了研究領域外,無掩膜光刻不可能取得成功。納米壓印光刻技術也在半導體行業沒有用武之地。」
  • 深度:光刻技術的​歷史與現狀
    應用的主要光源從KrF準分子雷射器248納米雷射,ArF準分子雷射器193納米雷射到F2準分子雷射器157納米雷射。當光源波長發展到157納米,由於光刻膠和掩膜材料的局限,圖形對比度低等因素,使得157納米光刻技術的發展受到很大限制。
  • 探究3D傳感和近眼顯示應用的關鍵技術
    本課程內容精彩紛呈,涵蓋了微納光學的基礎理論和製造工藝,又從反射型微光學元件(MEMS微鏡)、衍射型微光學元件(DOE)、導波微光學元件、光學相控陣(OPA)、超表面等典型微光學元件入手,詳解其設計、製造、測試、評價參數和應用案例,同時針對典型微光學元件開設了建模與仿真分析實操課程。本課程旨在幫助微光學元件產業鏈上下遊相關人員了解技術背景和發展脈絡、提升專業技能。
  • 中科院深圳先進院林慧:從「光」出發,開闢光譜技術創新應用
    將複色光分解為單色光的光柵是關鍵。「光柵相當於光譜儀的『心臟』,是核心器件,與傳統的平面光柵相比,凹面衍射光柵具有像差校正性能,可以代替多個光學元件,起到簡化光路的作用,極大地推動光譜儀器的小型化和輕型化。」林慧介紹說。在研發微型光譜儀的過程中,林慧發現,雖然凹面光柵具有集成化優勢,但目前的微納製作工藝大多適用於平面元件,曲面元件製作起來難度不小。
  • 1納米需要什麼樣的光刻機?
    打開APP 1納米需要什麼樣的光刻機? 日本的曝光設備廠家也在研發階段放棄了EUV曝光技術(這對實現超微縮化是必須的),而imec和ASML合作拿公司的命運做賭注,時至今日一直在研發 。 Imec公布了1納米以後的邏輯半元件的技術藍圖 Imec在ITF Japan 2020上公布了3納米、2納米、1.5納米以及1納米及後續的邏輯元件的技術藍圖。
  • 行業科普|光學原理:製作衍射光學元件的主要技術——雷射直寫
    技術簡介雷射直寫是製作衍射光學元件的主要技術之一,它利用強度可變的雷射束對基片表面的抗蝕材料實施變劑量曝光,顯影后便在抗蝕層表面形成要求的浮雕輪廓。雷射直寫製作衍射光學元件(DOE)是把計算機控制與微細加工技術相結合,為DOE設計和製作的方法提供了極大的靈活性,製作精度可以達到亞微米量級。
  • 1納米EUV光刻機要來了!
    imec執行長兼總裁Luc Van den hove做了主題演講,概述了該公司的研究,該公司和ASML密切合作,共同開發了下一代高解析度EUV光刻技術,即High NA EUV。他強調說,通過將光刻技術投入實際使用,摩爾定律將不會終止,並且該工藝將繼續改進到1 nm或更小。
  • 中科院5nm光刻技術另一面:擁有這項光刻技術的企業多家已上市
    起因是中科院蘇州納米所研究員張子暘與國家納米科學中心研究員劉前等合作在《納米期刊》上發表了題為《超解析度雷射光刻技術製備5nm間隙電極和陣列》的論文,闡述了該團隊開發的新型5nm超高精度雷射光刻加工方法,即通過自主研發的具有完全智慧財產權的雷射直寫設備,利用雷射與物質非線性相互作用來提高解析度。