PVD鍍膜設備的真空度測量涉及的問題有哪些

在PVD鍍膜設備的真空度測量中，需要用到真空規來對被研究的稀薄氣體壓力進行比較精確的測量，此間，必須考慮以下三個問題：

振華真空多弧離子鍍膜設備

1、首先，要先對被研究的對象有基本的了解，需要涉及以下問題：

（1）所處環境溫度：是否等溫？屬於低溫還是高溫？

（2）氣流的狀態：氣流是瞬態還是穩態？屬於均勻性氣流或是非均勻性氣流？

（3）氣體性質：是否為可凝蒸氣？屬於混合氣體還是單一氣體？是不是具有腐蝕性的氣體？是活潑氣體還是惰性氣體？

（4）是否存在電場、磁場、輻射、加速度、衝擊、振動、帶電粒子等特殊環境條件？

2、再者，按照研究的目的以及研究對象的情況來對真空規進行合理的選用，並深入了解所選用的真空規，以便正確地使用它。主要需要了解真空規的內容有：測量範圍、工作原理、特殊性及其局限性。

3、最後，再對真空規與被測對象之間的相互作用進行落實研究。真空規的引入，可能導致被測對象發生狀態的畸變，而且被測對象也可能導致真空規的性能改變，從而使得真空規的正常工作受到幹擾。

通過上述三大問題我們可以看出，想要對真空環境比較精確地進行壓力的測量，如果單獨研究真空規的話是遠遠不夠的，需對上述三個方面的相關問題對真空測量技術做比較全面的研究。

由於PVD鍍膜設備測量真空壓力的影響因素較多，且不易把控，因此，僅僅考慮測量精度是不夠的。如若無法解決上述三大問題，那麼測量誤差只會更大。因為從我們目前的真空鍍膜應用角度來看，在多數情況下，不需要特別高精度的測量，只是在較少的情況下，才要求誤差不可高於1％的精確程度。當然，這樣的高的精確度，對於滿足粗、低真空環境的壓力測量來說是完全沒有問題的，只是對於更寬的測量範圍來說，就不易做到。