本報訊(記者黃辛)中國科學院寧波材料技術與工程研究所科研人員開發出一種超黑高穩定性的光吸收塗層技術,可應用於抑制光學器件中雜散光的幹擾、提高太陽能光熱轉化效率等領域。該成果近日發表於《材料化學雜誌》並申報兩項發明專利。
這種塗層採用物理氣相沉積技術,可在金屬、陶瓷、高分子等絕大多數常用材料表面塗覆,甚至可以在柔性高分子薄膜表面塗覆,塗層結合力高,塗層的物理化學性能穩定、硬度高。
該塗層為TiAlN三元陶瓷,在波長200納米到2500納米範圍內的光吸收係數超過95%,覆蓋近紅外、可見光以及紫外,在現有陶瓷光吸收塗層中波長範圍最寬、吸收率最高,但製備方法卻很簡單。該塗層具有精巧的納米結構,底層為層狀結構,有利於提高其在各種基體材料上的附著力;中部為柱狀結構,柱狀界面可多次反射吸收光的能量;頂部為錐形結構,有利於入射光的導入。
相關論文信息:Journal of Materials Chemistry C, 2018,6, 8646-8662
《中國科學報》 (2018-09-20 第4版 綜合)