近年來二維材料PN結已成為基礎科學和應用物理學的聚焦點之一,它不僅能結合不同材料的優點,而且能夠通過界面處高效地電荷傳輸調控來實現新的功能。PN結結區的內建電勢及層間複合,決定了整流特性及光電性能,這將有效地調節電學性能和光探測性能,因而在微電子和光電子領域,如光電器件、光發射器、隧道二極體和場效應電晶體等,都有巨大的應用前景。到目前為止,範德華外延生長是一種有效地構築二維材料異質結的方法,相比傳統的外延生長技術,它對不同材料間的晶格匹配度要求更低,且界面乾淨,保證了界面處電荷的高效傳輸。由於二維P型半導體材料的稀缺,導致僅有少數幾種二維材料PN結被合成出來(限制在WSe2/MoS2 和WSe2/WS2 等)。目前大多數二維PN結的構築只能通過電柵控制、特殊金屬接觸及化學摻雜等方法獲得材料的P型特性,然而,上述方法較為複雜同時也存在穩定性的問題,這在一定程度上限制了二維PN結的研究。
近日,來自華中科技大學材料科學與工程學院的翟天佑教授課題組,通過範德華外延生長的方法合成了p-GaSe/n-MoS2面間PN結,並結合理論計算和實驗,對該異質結進行了仔細研究。GaSe的存在有效地減小了MoS2表面O2/H2O的吸附, 且兩種材料的界面存在電勢差有效地促進了電子空穴的分離,使得少數載流子空穴的壽命很大程度上被抑制,因而實現了MoS2的響應速度近三個數量級的提升。通過化學氣相沉積外延生長GaSe/MoS2面間PN結的製備簡單,能有效調節材料的光電性能,是目前較為簡單的提升硫化鉬響應速度的方法之一。這種通過範德華外延生長的PN結來提升響應速度的方法,為增強二維材料光電性能的研究提供了新的思路。
相關論文在線發表在Small (DOI: 10.1002/smll.201702731)上。
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