三星攜手ASML開發下一代EUV光刻機方面的合作

2020-12-04 電子發燒友

三星攜手ASML開發下一代EUV光刻機方面的合作

集微網 發表於 2020-12-02 10:53:41

據報導，三星正尋求加強與荷蘭半導體設備製造商ASML的技術和投資合作。

該報導稱，包括CEO Peter Burnink在內的ASML高管於上周訪問了三星的半導體工廠，討論了在EUV光刻機供應和開發方面的合作。

ASML高管與三星副董事長金基南進行了會談。業內人士認為，三星在此次會談中要求ASML供應更多的EUV光刻機，並討論了雙方在開發下一代EUV光刻機方面的合作。

據悉，三星需要更多的EUV光刻機來擴大其在全球晶圓製造市場的份額。然而，作為世界上唯一的EUV光刻機製造商，ASML向臺積電提供的設備要多於三星。

因此三星希望與ASML建立技術聯盟，以確保下一代EUV光刻機的供應。對於ASML來說，與三星的投資合作是必要的，因為開發下一代EUV光刻機需要大量投資。

該報導指出，三星希望投資開發高數值孔徑的EUV光刻機，以提高半導體微製造所需的電路解析度。該設備的價格預計為每臺5000億韓元，比目前的EUV設備高出2到3倍。ASML計劃在2023年年中推出該設備的原型，三星則希望優先獲得ASML的供應，以在技術上領先臺積電。

不過，三星一位官員表示，會議並沒有做出具體的投資決定。他說，ASML高管到訪三星是為了回應李在鎔10月份訪問ASML總部。

另有消息稱，ASML的高管此次還會面了SK海力士總裁李石熙，雙方討論了擴大UV設備供應和促進合作的途徑。
       責任編輯:pj

打開APP閱讀更多精彩內容

聲明：本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內容圖片侵權或者其他問題，請聯繫本站作侵刪。 侵權投訴

相關焦點

  • 三星希望優先獲得ASML High-Na EUV光刻機
    IT之家12月1日消息 據韓國媒體businesskorea報導，三星電子正在尋求加強與荷蘭半導體設備製造商ASML的技術和投資合作。上周，包括執行長Peter Burnink在內的ASML高管參觀了三星電子的半導體工廠，討論了在EUV光刻設備供應和開發方面的合作。ASML官員與三星電子副董事長金基南及其他三星重要高管進行了會談。
  • 臺積電獨佔ASML過半光刻機產能遠超三星,EUV入華仍遙遙無期
    來自國外媒體的報導，近期光刻機生廠商ASML執行長 Peter Wennink正帶領者一眾高管前往三電子，與三星高管就光刻機的供貨進行商談。本次除了技術上的合作和投資以外，關於EUV光刻機的供貨自然是其中的重點，三星晶圓業務的高管表示，希望能夠得到更多的EUV光刻機供貨，並搶在臺積電之前，拿到下一代EUV光刻機。
  • 三星希望優先獲得 High-Na EUV 光刻機設備
    據韓國媒體businesskorea報導，三星電子正在尋求加強與荷蘭半導體設備製造商ASML的技術和投資合作。　　上周，包括執行長Peter Burnink在內的ASML高管參觀了三星電子的半導體工廠，討論了在EUV光刻設備供應和開發方面的合作。ASML官員與三星電子副董事長金基南及其他三星重要高管進行了會談。
  • 下一代EUV光刻機售價遠超3億美元?但臺積電和三星非買它不可
    在研發方面，產業鏈業者們正在積極開發全新EUV光刻技術，但與當前已經正式出貨的EUV光刻機相比，新一代EUV光刻機的技術不僅更加複雜，價格也將更加昂貴。以荷蘭光刻機大廠ASML為例，目前正在開發全新EUV光刻機，包括新一代系統，但據傳言每套設備售價遠超3億美元，到目前為止，外界尚不清楚新一代EUV光刻機將會在什麼時候出貨。
  • ASML 1nm光刻機研究進展:摩爾定律尚未結束
    在論壇上，與ASML合作開發光刻技術的比利時半導體研究組織IMEC在微尺度級別上宣布了3nm及以下工藝的技術細節。至少就目前而言，ASML為3m ，2nm， 1.5nm，1nm甚至Sub 1nm制定了清晰的路線圖，而1nm時代將使光刻機的尺寸大大增加。
  • 三星希望先於臺積電獲得阿斯麥高數值孔徑EUV光刻機
    據國外媒體報導，全球第一大晶片代工商臺積電，能夠獲得大量的晶片代工訂單，除了領先的製程工藝，還得益於阿斯麥所供應的大量先進的光刻機，在第二代7nm和5nm所需要的極紫外光刻機方面，尤其如此，他們獲得的極紫外光刻機的數量，遠多於三星。
  • 外媒:三星希望先於臺積電獲得阿斯麥高數值孔徑EUV光刻機
    【TechWeb】12月2日消息，據國外媒體報導，全球第一大晶片代工商臺積電，能夠獲得大量的晶片代工訂單，除了領先的製程工藝，還得益於阿斯麥所供應的大量先進的光刻機，在第二代7nm和5nm所需要的極紫外光刻機方面，尤其如此，他們獲得的極紫外光刻機的數量，遠多於三星。
  • ASML新動態: 1nm光刻機都已經來了嗎?
    ASML已完成1nm晶片EUV光刻機設計，並加強與臺積電和三星的合作ASML對中國大陸市場出口持開放態度，EUV等出口許可證半導體光刻與刻蝕論壇2020將於2020年12月30-31日上海召開，光刻產業鏈國際動態與國產化發展機遇將是重要內容。
  • 一文看懂asml光刻機工作原理及基本構造
    asml光刻機工作原理 　　 　　上圖是一張ASML光刻機介紹圖。下面，簡單介紹一下圖中各設備的作用。 　　        主流光刻機的基本構造 　　光刻機的光源是核心， EUV是下一代光刻的利刃
  • 1納米EUV光刻機要來了!
    imec執行長兼總裁Luc Van den hove做了主題演講，概述了該公司的研究，該公司和ASML密切合作，共同開發了下一代高解析度EUV光刻技術，即High NA EUV。他強調說，通過將光刻技術投入實際使用，摩爾定律將不會終止，並且該工藝將繼續改進到1 nm或更小。
  • ASML已基本完成1nm晶片的EUV光刻機設計
    在論壇上，與荷蘭商半導體大廠艾司摩爾 （ASML） 合作研發半導體光刻機的比利時半導體研究機構 IMEC 正式公布了 3 納米及以下工藝的在微縮層面的相關技術細節。x9IEETC-電子工程專輯根據其所公布的內容來分析，ASML 對於 3 納米、2 納米、1.5 納米、1 納米，甚至是小於 1 納米的工藝都做了清楚的發展規劃，代表著 ASML 基本上已經能開發 1 納米工藝的光刻設備了。
  • 為什麼光刻機比原子彈還難造?
    光刻機，這個生僻的工業製造設備名稱，在 2020 年成為了網絡熱搜詞：它和下一代工業革命的核心產品，晶片，關係密切。沒有高精度的晶片，那些改變人類生活和經濟的核心技術，如人工智慧，虛擬實境（VR）, 物聯網，下一代無線通信，都不可能實現。
  • ASML 將於 2021 年推下一代 3nm EUV 光刻機
    IT之家2月19日消息  IT之家獲悉，ASML正在研發新一代EUV光刻機EXE:5000系列，最快會於2021年面世。據IT之家了解，現在ASML銷售的光刻機主要為NXE:3400B和改進型的NXE:3400C，結構上相似。
  • 重要性不亞於ASML EUV光刻機,國產5nm蝕刻機被臺積電三星爭相下單
    數據顯示，全球範圍內晶片製造企業可以說屈指可數，而能夠量產7nm以下工藝的晶片企業，目前僅有三星和臺積電等少數企業。據了解，先進位程工藝的晶片之所以難產，一方面是因為技術難度大，另外一方面是需要ASML的EUV光刻機等設備。
  • 什麼是光刻機?一臺上億的ASML光刻機工作原理分享
    另一方面，也和尼康自身技術實力不足有關，尼康的光刻機相對於ASML有不少瑕疵，在作業系統上設計的架構有缺陷，而且尼康的光刻機的實際性能和尼康官方宣傳的有不小差距，這使得臺積電、Intel、三星、格羅方德等晶圓大廠不可能為了省一點錢去賣有瑕疵的產品。 目前，尼康的高端光刻機基本被ASML吊打，主流半導體產線中只有少數低階老機齡的光刻機還是尼康或者佳能，其他基本都是ASML的天下。
  • 日本光學技術全球第一,為啥造出頂尖光刻機的偏偏是荷蘭ASML?
    眾多網友痛定思痛，一致支持我們國內大力研發光刻機產品，用於組建我們的晶片生產線。光刻機是什麼呢？光刻機號稱是人類最精密複雜的機器，全球能夠生產頂尖光刻機的廠商只有一家，那就是荷蘭的asml，市面上絕大多數的光刻機產品都來自於asml。晶片是怎麼形成的？光刻機是怎麼工作的呢？
  • ASML高管訪問三星,尋求技術與合作
    12月2日，據"臺灣經濟日報"報導，EUV光刻機製造商ASML的執行長Peter Wennink帶領高管們拜訪三星，尋求技術和投資合作三星希望能在臺積電之前擁有下一代的ASML EUV設備供應。業內人士表示，三星正在積極追趕臺積電，但臺積電在高良速率和低功耗方面具有優勢。在7nm製程方面，臺積電首先推出了FinFet 架構的 7nm 技術，然後使用 EUV 的 N7 + 製程。在5nm方面，三星和臺積電仍有20%的產能差距。
  • 荷蘭ASML突破1nm光刻機,那中國訂購的EUV光刻機呢?
    ASML突破1nm光刻機目前世界上等級最高，技術最尖端的光刻機設備是EUV光刻機。這類光刻機用波長在10到14nm的極紫外光作為光源，幾乎每一個EUV光刻機的零部件都至關重要。甚至有的零部件想要調試完成，需要經過上百萬次的試驗，花費十年時間也不為過。
  • 三星尋求加快5nm及3nm晶片製程工藝研發,加速購買EUV光刻機
    10月27日消息，據國外媒體報導，在2015年為蘋果代工的A9晶片在iPhone 6s上的續航能力不及臺積電所生產晶片一事出現之後，三星就再也未能獲得蘋果A系列處理器的代工訂單，蘋果的訂單也就全部交給了臺積電。
  • ASML(阿斯麥)已基本完成 1nm 光刻機設計
    IMEC公司執行長兼總裁Luc Van den hove首先發表了主題演講，介紹了公司研究概況，他強調通過與ASML公司緊密合作，將下一代高解析度EUV光刻技術——高NA EUV光刻技術商業化。IMEC公司強調，將繼續把工藝規模縮小到1nm及以下。包括日本在內的許多半導體公司相繼退出了工藝小型化，聲稱摩爾定律已經走到了盡頭，或者說成本太高，無利可圖。