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ASML 1nm光刻機研究進展:摩爾定律尚未結束
隨著5nm光刻技術的大規模生產和3nm的突破，摩爾定律的終結變得越來越難以捉摸。可以肯定的是，隨著過程的進一步改進，其成本將成倍增加。根據日本媒體Mynavi的報導，歐洲微電子研究中心IMEC執行長兼總裁Luc Van den hove在最近一次在線活動的在線演示中表示，與ASML合作已朝著更先進的光刻技術取得了進展。本月中旬，ITF論壇在日本東京舉行。
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ASML已基本完成1nm晶片的EUV光刻機設計
在論壇上，與荷蘭商半導體大廠艾司摩爾 （ASML） 合作研發半導體光刻機的比利時半導體研究機構 IMEC 正式公布了 3 納米及以下工藝的在微縮層面的相關技術細節。x9IEETC-電子工程專輯根據其所公布的內容來分析，ASML 對於 3 納米、2 納米、1.5 納米、1 納米，甚至是小於 1 納米的工藝都做了清楚的發展規劃，代表著 ASML 基本上已經能開發 1 納米工藝的光刻設備了。
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日本光學技術全球第一,為啥造出頂尖光刻機的偏偏是荷蘭ASML?
眾多網友痛定思痛，一致支持我們國內大力研發光刻機產品，用於組建我們的晶片生產線。光刻機是什麼呢？光刻機號稱是人類最精密複雜的機器，全球能夠生產頂尖光刻機的廠商只有一家，那就是荷蘭的asml，市面上絕大多數的光刻機產品都來自於asml。晶片是怎麼形成的？光刻機是怎麼工作的呢？
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ASML新動態: 1nm光刻機都已經來了嗎?
ASML已完成1nm晶片EUV光刻機設計，並加強與臺積電和三星的合作ASML對中國大陸市場出口持開放態度，EUV等出口許可證半導體光刻與刻蝕論壇2020將於2020年12月30-31日上海召開，光刻產業鏈國際動態與國產化發展機遇將是重要內容。
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ASML正式官宣,1nm光刻機設計完成,說好的摩爾定律呢?
雖然，ASML的光刻機設備處於技術的天花板，國內想趕超不是一件易事，但之前有專家表示，半導體精準度已經向3nm邁進，而這幾乎已經逼近極值，摩爾定律即將走到盡頭。也就是說，2、3nm晶片可能會成為極限，國內的晶片廠商還是有機會趕上的，因為對手前方已經沒有路，因此我們可以奮起加速追趕。
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臺積電獨佔ASML過半光刻機產能遠超三星,EUV入華仍遙遙無期
來自國外媒體的報導，近期光刻機生廠商ASML執行長 Peter Wennink正帶領者一眾高管前往三電子，與三星高管就光刻機的供貨進行商談。本次除了技術上的合作和投資以外，關於EUV光刻機的供貨自然是其中的重點，三星晶圓業務的高管表示，希望能夠得到更多的EUV光刻機供貨，並搶在臺積電之前，拿到下一代EUV光刻機。
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一文看懂asml光刻機工作原理及基本構造
目前，國際上半導體晶片製造生產線上的主流光刻設備是248nm（KrF）準分子雷射投影光刻機，並正在向193nm（ArF）準分子雷射投影光刻機過渡。荷蘭ASML公司作為全球三大光刻機集成生產商之一，堅持不懈地進行技術創新以增強其競爭力，在全球光刻機銷售市場上居於領先地位。
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三星攜手ASML開發下一代EUV光刻機方面的合作
打開APP 三星攜手ASML開發下一代EUV光刻機方面的合作 集微網 發表於 2020-12-02 10:53:41 該報導稱，包括CEO Peter Burnink在內的ASML高管於上周訪問了三星的半導體工廠，討論了在EUV光刻機供應和開發方面的合作。
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製造1nm晶片的EUV光刻機:ASML已完成設計
論壇上，與ASML（阿斯麥）合作研發光刻機的比利時半導體研究機構IMEC公布了3nm及以下製程的在微縮層面技術細節。至少就目前而言，ASML對於3m、2nm、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的路線規劃，且1nm時代的光刻機體積將增大不少。
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中科院5nm光刻技術研發成功,但有人卻不看好,這是為什麼?
而我國之所以沒法製造出自己高端的晶片，最核心的一個零部件就是光刻機，目前國自主研發的光刻機跟國際頂尖水平還是有很大的差距的。當前我國真正量產的光刻機只有90納米，雖然28納米光刻機已經取得技術性的突破，預計2021年年底會量產，但跟國際最頂尖的asml的7納米EUV光刻機仍然有很大的差距，這種差距短期之內是不可能彌補的。
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為什麼光刻機比原子彈還難造?
光刻機，這個生僻的工業製造設備名稱，在 2020 年成為了網絡熱搜詞：它和下一代工業革命的核心產品，晶片，關係密切。沒有高精度的晶片，那些改變人類生活和經濟的核心技術，如人工智慧，虛擬實境（VR）, 物聯網，下一代無線通信，都不可能實現。
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光刻機進入3nm工藝,為什麼國產光刻機18年,還在90nm?
光刻機進入3nm工藝，為什麼國產光刻機18年，還在90nm？晶片的大量生產需要依靠光刻機來進行，一個總體的匯合，而我國的光刻機研製技術和其他國家的差距是非常大的，目前為止，世界上最高技術的光刻機可以到3納米的晶片研製，但是我國的光刻機技術還停留在90納米。
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ASML(阿斯麥)已基本完成 1nm 光刻機設計
IMEC公司執行長兼總裁Luc Van den hove首先發表了主題演講，介紹了公司研究概況，他強調通過與ASML公司緊密合作，將下一代高解析度EUV光刻技術——高NA EUV光刻技術商業化。IMEC公司強調，將繼續把工藝規模縮小到1nm及以下。包括日本在內的許多半導體公司相繼退出了工藝小型化，聲稱摩爾定律已經走到了盡頭，或者說成本太高，無利可圖。
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90nm國產光刻機對比5nm ASML光刻機,差距很大
打開APP 90nm國產光刻機對比5nm ASML光刻機，差距很大 佚名 發表於 2020-04-13 17:22:30 隨著華為關注度提升後，臺積電，ASML，中芯國際等企業也備受關注，很多網友關注國產光刻機發展到了什麼地步，與ASML的差距還有多少，接下來就說一說國產光刻機和全球最強的ASML光刻機的差距。 國產最先進的光刻機來自上海微電子（SMEE），成立至今已有18年，目前這家科技企業所能生產的最頂級的晶片製造工藝是90nm。
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三星尋求加快5nm及3nm晶片製程工藝研發,加速購買EUV光刻機
加速購買EUV光刻機 外媒：三星尋求加快5nm及3nm晶片製程工藝研發 失去了蘋果訂單的三星，雖然依舊獲得了高通等公司的訂單，但在晶片製程工藝方面，三星也要落後於臺積電一段時間，相同的製程工藝，臺積電都是率先大規模投產。
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1納米EUV光刻機要來了!
imec執行長兼總裁Luc Van den hove做了主題演講，概述了該公司的研究，該公司和ASML密切合作，共同開發了下一代高解析度EUV光刻技術，即High NA EUV。他強調說，通過將光刻技術投入實際使用，摩爾定律將不會終止，並且該工藝將繼續改進到1 nm或更小。
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從光刻機的發展,看懂ASML為何是不可取替
，其中 ArF 浸沒式光刻機 63%， ArF乾式光刻機 2%， KrF 光刻機 10%， EUV 光刻設備 21%，檢測設備及 I-line1%。， 在 2012 年， 光刻技術缺少革命性的變化， 摩爾定律開始出現速度趨緩的跡象，當年全球半導體產業營收出現了 2.6%的負成長，不復以往動輒兩位數字的成長表現， 並在2015 年出現了 2.3%的負成長。
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ASML公布製造1nm的最強光刻機
11月中旬，與ASML（阿斯麥）合作研發光刻機的半導體研究機構IMEC公布了3nm及以下製程的在微縮層面技術細節。而就目前來說，ASML對於3、2、1nm都做了非常清晰的規劃，並且也公布了1nm的很多細節，從光刻機的體積來看，確實小了很多。
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荷蘭ASML突破1nm光刻機,那中國訂購的EUV光刻機呢?
ASML突破1nm光刻機目前世界上等級最高，技術最尖端的光刻機設備是EUV光刻機。這類光刻機用波長在10到14nm的極紫外光作為光源，幾乎每一個EUV光刻機的零部件都至關重要。甚至有的零部件想要調試完成，需要經過上百萬次的試驗，花費十年時間也不為過。
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什麼是光刻機?一臺上億的ASML光刻機工作原理分享
掩膜臺：承載掩模版運動的設備，運動控制精度是nm級的。 物鏡：物鏡用來補償光學誤差，並將線路圖等比例縮小。 矽片：用矽晶製成的圓片。矽片有多種尺寸，尺寸越大，產率越高。題外話，由於矽片是圓的，所以需要在矽片上剪一個缺口來確認矽片的坐標系，根據缺口的形狀不同分為兩種，分別叫flat、 notch。