製造1nm晶片的EUV光刻機:ASML已完成設計

2020-12-03 快科技

本月中旬，在日本東京舉辦了ITF論壇。

論壇上，與ASML（阿斯麥）合作研發光刻機的比利時半導體研究機構IMEC公布了3nm及以下製程的在微縮層面技術細節。

至少就目前而言，ASML對於3m、2nm、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的路線規劃，且1nm時代的光刻機體積將增大不少。

據稱在當前臺積電、三星的7nm、5nm製造中已經引入了NA=0.33的EUV曝光設備，2nm之後需要更高解析度的曝光設備，也就是NA=0.55。好在ASML已經完成了0.55NA曝光設備的基本設計（即NXE：5000系列），預計在2022年實現商業化。

至於上文提到的尺寸為何大幅增加就是光學器件增大所致，潔淨室指標也達到天花板。

阿斯麥目前在售的兩款極紫外光刻機分別是TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C，3600D計劃明年年中出貨，生產效率將提升18%。

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    對於晶片製程，其最關鍵的一個環節就是光刻機。而全球最大的光刻機製造商ASML如今已經基本完成了1nm光刻機的設計工作。在近期的ITF論壇上，與ASML（阿斯麥）合作研發光刻機的比利時半導體研究機構IMEC公布了3nm及以下製程的在微縮層面技術細節。
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    在論壇上，與荷蘭商半導體大廠艾司摩爾 （ASML） 合作研發半導體光刻機的比利時半導體研究機構 IMEC 正式公布了 3 納米及以下工藝的在微縮層面的相關技術細節。x9IEETC-電子工程專輯根據其所公布的內容來分析，ASML 對於 3 納米、2 納米、1.5 納米、1 納米，甚至是小於 1 納米的工藝都做了清楚的發展規劃，代表著 ASML 基本上已經能開發 1 納米工藝的光刻設備了。
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  • ASML正式官宣,1nm光刻機設計完成,說好的摩爾定律呢?
    事實上，國內的光刻機設備與國外還有很大的差距，目前最先進的光刻機設備為EUV光刻機，能夠滿足生產7nm、5nm、3nm等晶片的生產需求，而這一設備的持有者正是來自荷蘭的ASML。因此，全球範圍內想造出最先進的晶片，也就離不開ASML的EUV光刻機設備，這也是華為被「卡脖子」的一個重點。
  • ASML(阿斯麥)已基本完成 1nm 光刻機設計
    IMEC公司執行長兼總裁Luc Van den hove首先發表了主題演講，介紹了公司研究概況，他強調通過與ASML公司緊密合作，將下一代高解析度EUV光刻技術——高NA EUV光刻技術商業化。IMEC公司強調，將繼續把工藝規模縮小到1nm及以下。包括日本在內的許多半導體公司相繼退出了工藝小型化，聲稱摩爾定律已經走到了盡頭，或者說成本太高，無利可圖。
  • 荷蘭巨頭1nm光刻機迎新突破!中國訂購的EUV光刻機呢?
    據TechWeb網站11月30日最新報導，近日荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）又送來一則好消息，該司已經與比利時半導體研究機構IMEC共同完成了1nm光刻機的設計工作。據了解，先進位程的光刻機對於曝光設備的解析度要求更高。與此同時，ASML已經完成了0.55NA曝光設備的基本設計工作。按照阿斯麥的計劃，預計相應的曝光設備全線準備好之後，會在2022年實現商業化。
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    眾多網友痛定思痛，一致支持我們國內大力研發光刻機產品，用於組建我們的晶片生產線。光刻機是什麼呢？光刻機號稱是人類最精密複雜的機器，全球能夠生產頂尖光刻機的廠商只有一家，那就是荷蘭的asml，市面上絕大多數的光刻機產品都來自於asml。晶片是怎麼形成的？光刻機是怎麼工作的呢？
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  • ASML基本設計完成1nm光刻機
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  • ASML新動態: 1nm光刻機都已經來了嗎?
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    11月中旬，與ASML（阿斯麥）合作研發光刻機的半導體研究機構IMEC公布了3nm及以下製程的在微縮層面技術細節。而就目前來說，ASML對於3、2、1nm都做了非常清晰的規劃，並且也公布了1nm的很多細節，從光刻機的體積來看，確實小了很多。
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    打開APP 為何只有荷蘭ASML才能製造頂尖EUV光刻機設備? 商業經濟觀察 發表於 2020-12-03 13:46:22 自從晶片工藝進入到7nm工藝時代以後，需要用到一臺頂尖的EUV光刻機設備，才可以製造7nm EUV、5nm等先進位程工藝的晶片產品
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    【12月4日訊】相信大家都知道，目前製造7nmEUV、5nm晶片產品，都無法離開高端EUV 極紫外線光刻機設備，但在全球範圍內，只有荷蘭ASML公司可以生產EUV極紫外線光刻機，所以全球性晶片代工企業如果想要製造7nm EUV、5nm晶片產品，就必須要購買荷蘭ASML公司生產的EUV光刻機設備，但從目前的情況來看，即便是一臺EUV
  • 90nm國產光刻機對比5nm ASML光刻機,差距很大
    打開APP 90nm國產光刻機對比5nm ASML光刻機，差距很大 佚名 發表於 2020-04-13 17:22:30 從去年開始，華為開始被一些科技企業斷供，現在又有消息稱要從晶片產業鏈上限制，對此華為徐直軍霸氣回應稱那麼蘋果手機在國內也要被禁售。隨著華為關注度提升後，臺積電，ASML，中芯國際等企業也備受關注，很多網友關注國產光刻機發展到了什麼地步，與ASML的差距還有多少，接下來就說一說國產光刻機和全球最強的ASML光刻機的差距。
  • 誰說7nm工藝是晶片極限?有了EUV光刻機,5nm以後都不是事!
    一顆晶片的生產製造需要許多環節，但是光刻機肯定是其中最複雜，最難攻克的關鍵一環，全球雖說生產光刻機的廠商有很多，但是能夠真正量產EUV光刻機的就只有荷蘭ASML一家，也正因為有了ASML的EUV光刻機，業界才可以生產出7nm以下工藝的晶片，今年就會有5nm工藝的晶片誕生，比如華為麒麟
  • ASML 將於 2021 年推下一代 3nm EUV 光刻機
    IT之家2月19日消息  IT之家獲悉，ASML正在研發新一代EUV光刻機EXE:5000系列，最快會於2021年面世。差別在於NXE:3400C採用模塊化設計，將平均維護時間從48小時縮短到8-10小時；NXE:3400C的產量也從125WPH提升到了175WPH。這兩款EUV光刻機屬於第一代，物鏡系統的NA（數值孔徑）為0.33。在光刻機的解析度公式中，NA數字越大，代表光刻機精度更高。ASML現在在研發新一代EUV光刻機EXE:5000系列，NA為0.55。
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    阿斯麥公司生產的 EUV 光刻機 | www.asml.com光刻機，這臺可以賣到上億歐元的精密設備，是通過紫外光作為 " 畫筆 "，把預先設計好的晶片電子線路書寫到矽晶圓旋塗的光刻膠上，精度可以達到頭髮絲的千分之一。舉個例子，華為海思成功設計開發了麒麟系列晶片，想要真正做成手機晶片，就需要臺積電利用光刻工藝來進行代工製造。