ASML高管再放狠話!EUV光刻機只有ASML能造:無法山寨

2020-12-08 騰訊網

【12月4日訊】相信大家都知道，目前製造7nmEUV、5nm晶片產品，都無法離開高端EUV 極紫外線光刻機設備，但在全球範圍內，只有荷蘭ASML公司可以生產EUV極紫外線光刻機，所以全球性晶片代工企業如果想要製造7nm EUV、5nm晶片產品，就必須要購買荷蘭ASML公司生產的EUV光刻機設備，但從目前的情況來看，即便是一臺EUV光刻機售價高達1.2億歐元，但也處於供不應求的局面，幾乎所有的EUV光刻機設備都被Intel、臺積電、三家所「買斷」，尤其是全球晶片代工巨頭—臺積電，成為了全球擁有最多EUV光刻機的企業；

對此三星李在鎔親更是親自前往ASML公司求取EUV光刻機，終於在12月1日，ASML高管集體造訪三星，包括執行長Peter Burnink，意味著ASML公司將會為三星提供更多的EUV光刻機設備。

對此也有很多網友們非常好奇，為何只有荷蘭ASML公司可以生產EUV光刻機設備呢？.

確實在全球光刻機市場中，主要有荷蘭ASML、中國上海微電子、日本佳能、日本尼康這四家光刻機設備廠商，但唯獨ASML公司掌握了高端EUV光刻機設備製造技術，當然ASML公司之所以能夠生產製造EUV光刻機設備，也是因為得到了全球各國頂尖技術的支持，尤其是波長為13.5納米的極紫外光線，由于波長非常的短，所以需要特殊的設備、方法才能夠製造出紫外光線；而製造極紫外線光的公司就是來自於ASML公司在2012年收購的Cymer公司，這家公司在2014年生產製造了250W的穩定的二氧化碳雷射，可以實現極紫外光線的生產；對於極紫外線（EUV）製造此前小編也曾介紹過；

即便有了，最後還需要卡爾蔡司提供的布拉格反射器（Distributed Bragg Reflector）將四散的極紫外線（EUV）收集起來，再按照指定的方向投射出一束光，用於後續的晶片光刻製造，可以說在整個EUV光刻機設備中大大小小的幾十萬個零部件中，除了ASML公司製造以外，均來來自於全球各國最頂尖的技術以及設備，而這些廠商以及技術幾乎都是與ASML深度捆綁，所以面對如此之多的頂尖技術，也是難倒了很多光刻機設備廠商，畢竟強如ASML公司都無法自己一個人完成EUV光刻機設備生產製造。

或許也是因為掌握著「頂尖的供應鏈」能力，ASML公司高管也曾豪言：「即便是ASML公司公開EUV光刻機圖紙，全球任何一個國家都無法進行復刻山寨，即便是中國華強北也不行。」

最後：對於目前全球只有ASML能生產EUV光刻機設備一事，各位小夥伴們，你們對此都有什麼樣的看法和意見呢？歡迎在評論區中留言討論，期待你們的精彩評論！

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  • 為何EUV光刻機只有ASML能造?光EUV就已經難倒大家了
    眾所周知，當晶片進入到7nm以後，在生產中必須需要用到一種設備，那就是EUV光刻機，也就是極紫外線光刻機。目前全球僅有一家廠商能夠生產EUV光刻機，那就是荷蘭的ASML，所以全球的有實力的、想進入7nm或更低製程的晶片企業，都眼巴巴的盯著ASML，想要購買ASML的EUV光刻機。那麼問題就來了，為何EUV光刻機這麼難生產，只有ASML能造，其它廠商都造不出來？
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    ASml作為全球技術最強悍的光刻機製造企業，目前壟斷了全球高端光刻機90%以上的市場份額，幾乎所有牛逼的晶片製造廠家都離不開asml，比如在2017年全球光刻機總出貨量是294臺，其中asml就佔到了198臺，光刻機出貨量佔全球市場份額的68%，而在EUV高端光刻機上，Asml的出貨量是11臺，全球佔有率100%。
  • EUV光刻機製造究竟有多難,全球只有ASML才能造?
    眾所周知，當晶片工藝邁入7nm之後，就會用到一種光刻機，那就是EUV光刻機，也就是極紫外一光刻機，但這種光刻機目前只有荷蘭的ASML才能造。那麼問題就來了，EUV光刻機的製造的難點究竟是什麼，為何只有ASML能造，像佳能、尼康、中國的上海微電子都不能製造？
  • 為什麼光刻機比原子彈還難造?
    一臺荷蘭阿斯邁光刻機內部的紫外光源 | www.asml.com光刻的原理和過程一般是這樣的：首先製備出晶片電路圖的掩膜版，然後在矽片上旋塗上光刻膠，利用紫外光源通過掩膜版照射到光刻膠上。經過對準曝光後，紫外光照射到區域的光刻膠會因為化學效應而發生變性，再通過顯影作用將曝光的光刻膠去除，下一步採用幹法刻蝕將晶片電路圖傳遞到矽晶圓上。
  • 為何只有荷蘭ASML才能製造頂尖EUV光刻機設備?
    打開APP 為何只有荷蘭ASML才能製造頂尖EUV光刻機設備?，但就在近日，又有外媒豪言：這種頂尖的EUV極紫外光刻機，目前全球只有荷蘭光刻機巨頭ASML能造，對此也有很多網友們感覺到非常疑惑，為何只有荷蘭ASML可以造頂尖EUV光刻機設備呢？
  • 日本光刻機巨頭再放狠話!ASML不再是唯一選擇:合作研發設備
    【11月29日訊】相信大家都知道，此前就曾有媒體爆料：「荷蘭光刻機巨頭ASML高管曾豪言：「即便是參照圖紙也未必能生產出一臺高端光刻機，因為就連ASML公司也都無法大量生產高端EUV光刻機設備；」 如此可見，一臺頂尖的EUV光刻機設備製造難度，當然也從側面反映了，全球光刻機市場依舊以中低端的DUV光刻機為主，畢竟在很多晶片領域
  • ASML 1nm光刻機研究進展:摩爾定律尚未結束
    隨著5nm光刻技術的大規模生產和3nm的突破，摩爾定律的終結變得越來越難以捉摸。可以肯定的是，隨著過程的進一步改進，其成本將成倍增加。根據日本媒體Mynavi的報導，歐洲微電子研究中心IMEC執行長兼總裁Luc Van den hove在最近一次在線活動的在線演示中表示，與ASML合作已朝著更先進的光刻技術取得了進展。本月中旬，ITF論壇在日本東京舉行。
  • 中科院5nm光刻技術研發成功,但有人卻不看好,這是為什麼?
    而我國之所以沒法製造出自己高端的晶片，最核心的一個零部件就是光刻機，目前國自主研發的光刻機跟國際頂尖水平還是有很大的差距的。當前我國真正量產的光刻機只有90納米，雖然28納米光刻機已經取得技術性的突破，預計2021年年底會量產，但跟國際最頂尖的asml的7納米EUV光刻機仍然有很大的差距，這種差距短期之內是不可能彌補的。
  • 三星攜手ASML開發下一代EUV光刻機方面的合作
    該報導稱，包括CEO Peter Burnink在內的ASML高管於上周訪問了三星的半導體工廠，討論了在EUV光刻機供應和開發方面的合作。 ASML高管與三星副董事長金基南進行了會談。業內人士認為，三星在此次會談中要求ASML供應更多的EUV光刻機，並討論了雙方在開發下一代EUV光刻機方面的合作。
  • 一文看懂asml光刻機工作原理及基本構造
    在半導體晶片製造設備中，投資最大、也是最為關鍵的是光刻機，光刻機同時也是精度與難度最高、技術最為密集、進步最快的一種系統性工程設備。光學光刻技術與其它光刻技術相比，具有生產率高、成本低、易實現高的對準和套刻精度、掩模製作相對簡單、工藝條件容易掌握等優點，一直是半導體晶片製造產業中的主流光刻技術。
  • 華為有能力造出自己的光刻機嗎?
    簡單說，我們的光刻機還處在小學文化水平，別人已是高中甚至大學文化水平了。因此，即便華為有能力、有資金研究光刻機，但在幾年甚至幾十年內也無法生產、製造出當前最尖端的光刻機。----這就是現實！　　光刻機是全球公認的高精尖技術，如果沒有強大的研發投入根本無法製造，涉及5萬多個零件，內有」載底片和載膠片「兩個同步運動的工作檯，誤差在2納米以下，由靜到動，加速度如同發射飛彈。集成精度也非常高，數百億電晶體。高端光刻機號稱世界最精密的儀器。因此，製造手機晶片的光刻機企業少之極少。價格嘛，上億美元/臺。
  • 臺積電獨佔ASML過半光刻機產能遠超三星,EUV入華仍遙遙無期
    來自國外媒體的報導，近期光刻機生廠商ASML執行長 Peter Wennink正帶領者一眾高管前往三電子，與三星高管就光刻機的供貨進行商談。本次除了技術上的合作和投資以外，關於EUV光刻機的供貨自然是其中的重點，三星晶圓業務的高管表示，希望能夠得到更多的EUV光刻機供貨，並搶在臺積電之前，拿到下一代EUV光刻機。
  • 荷蘭ASML：公開圖紙也造不出來？中科院：全力攻克光刻機
    導讀：荷蘭ASML：公開圖紙也造不出來？中科院：全力攻克光刻機！，而國產最先進的光刻機也僅僅只有28nm工藝水平，這與荷蘭ASML公司所研發的5nm的EUV光刻機相比，還有很大的差距！，這一公司幾乎掌握著全球最頂級光刻機的所有話語權；正因為如此，讓荷蘭ASML公司說話的時候也非常的硬氣，曾經ASML公司在接受採訪的時候表示：就算是公開光刻機的圖紙，中國也造不出來先進的EUV光刻機！
  • 手握半數EUV光刻機,ASML是關鍵
    而且華為是在多個領域發展，臺積電則把研發費用基本全部投資在晶片製造上，當然這也說明晶片製造的確是個燒錢的產業……但除了投入研發資金之外，臺積電能在技術和規模上有這麼大的領先優勢，關鍵還是在晶片製造最重要的一環——光刻機這部分，臺積電實在是比其他晶片製造廠商強出太多了，特別是在世界最領先的EUV光刻機上，目前沒有任何一家廠商能和臺積電相比。
  • 三星希望優先獲得ASML High-Na EUV光刻機
    上周，包括執行長Peter Burnink在內的ASML高管參觀了三星電子的半導體工廠，討論了在EUV光刻設備供應和開發方面的合作。ASML官員與三星電子副董事長金基南及其他三星重要高管進行了會談。三星電子副會長李在鎔沒有參加會議。
  • 難倒華為的「EUV光刻機」 究竟有多難製造?
    眾所周知，華為Mate40系列或許是麒麟晶片的「絕唱」之作，原因不是麒麟晶片不行，而是無法繼續生產，敗給了「EUV光刻機」。究竟可以製造5nm，甚至是7nm、10nm晶片的光刻機，生產難度有多高？保證這些電晶體同時工作，便需要極為精細的光刻機。據了解，每一臺高端光刻機都集成了機械、精密儀器、自動化、高分子物理與化學等技術。最厲害的是EUV高精度光刻機，可以把一根頭髮分成幾萬份。這其中，最厲害的光刻機公司來自荷蘭ASML。不過，對於光刻機技術，該公司很有信心，別人無法超越，ASML公司高管就曾豪言：「即便是公開圖紙，中國也無法山寨出高端的光科技設備。」
  • 荷蘭ASML突破1nm光刻機,那中國訂購的EUV光刻機呢?
    ASML突破1nm光刻機目前世界上等級最高，技術最尖端的光刻機設備是EUV光刻機。這類光刻機用波長在10到14nm的極紫外光作為光源，幾乎每一個EUV光刻機的零部件都至關重要。甚至有的零部件想要調試完成，需要經過上百萬次的試驗，花費十年時間也不為過。
  • 中國光刻機比ASML早近20年,為何被ASML反超?原因很現實
    中國光刻機比ASML要早現在華為的事情鬧得風風火火，很多人都知道了光刻機是怎麼一回事！我們的光刻機落後，製造不出來高端的光刻機，這一點是很多人都知道，但是我們的光刻機起步很早，並沒有想像中的那麼晚！早在1965年的時候，中科院就研究出了65式接觸式光刻機；1980年，清華大學已經成功研製出了3微米工藝的光刻機！與此同時，荷蘭ASML這時候還有沒成立，到了1984年，ASML才成立！
  • ASML來了,能夠製造7nm等先進位程晶片的光刻機也來了
    而臺積電晶片製造技術之所以先進，還拿下了很多晶片訂單，這是因為臺積電安裝了很多的EUV光刻機。 據了解，EUV光刻機是生產7nm以下晶片的必要設備，還能大大提升晶片的良品率，而臺積電到2021年底將安裝超50臺EUV光刻機，佔全球市場的一多半。