全球最先進的1nm EUV光刻機業已完成設計

2020-12-06 電子發燒友

全球最先進的1nm EUV光刻機業已完成設計

賈徵 發表於 2020-12-02 16:55:41

想想幾年前的全球半導體晶片市場,真的可謂哀嚎一片,一時間摩爾定律失效的言論可謂此起彼伏。但是在今天,我們不僅看到5nm工藝如期而至,臺積電宣布2nm獲得重大進展,就連光刻機的老大ASML也傳來捷報,全球最先進的1nm EUV光刻機業已完成設計。

ASML已完成1nm光刻機設計

近日,與ASML(阿斯麥)合作研發光刻機的比利時半導體研究機構IMEC公布了3nm及以下製程的在微縮層面技術細節。具體來看,ASML對於3m、2nm、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的路線規劃,且1nm時代的光刻機體積將增大不少。

顯然,1nm光刻機需要更強大的物理極性,2nm之後需要更高解析度的曝光設備。目前已經投入量產的7nm、5nm工藝已經引入了0.33NA的EUV曝光設備,而ASML已經完成了0.55NA曝光設備的基本設計,預計在2022年實現商業化。

很高興看到摩爾定律又起效了!
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  • 荷蘭巨頭1nm光刻機迎新突破!中國訂購的EUV光刻機呢?
    據TechWeb網站11月30日最新報導,近日荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)又送來一則好消息,該司已經與比利時半導體研究機構IMEC共同完成了1nm光刻機的設計工作。據了解,先進位程的光刻機對於曝光設備的解析度要求更高。與此同時,ASML已經完成了0.55NA曝光設備的基本設計工作。按照阿斯麥的計劃,預計相應的曝光設備全線準備好之後,會在2022年實現商業化。
  • ASML已基本完成1nm晶片的EUV光刻機設計
    x9IEETC-電子工程專輯根據其所公布的內容來分析,ASML 對於 3 納米、2 納米、1.5 納米、1 納米,甚至是小於 1 納米的工藝都做了清楚的發展規劃,代表著 ASML 基本上已經能開發 1 納米工藝的光刻設備了。
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    論壇上,與ASML(阿斯麥)合作研發光刻機的比利時半導體研究機構IMEC公布了3nm及以下製程的在微縮層面技術細節。至少就目前而言,ASML對於3m、2nm、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的路線規劃,且1nm時代的光刻機體積將增大不少。
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