據報導，臺積電正在籌集更多的資金，為的是向ASML購買更多更先進位程的EUV光刻機，而這些都是為了新製程做準備。
在不久前舉辦的線上活動中，歐洲微電子研究中心IMEC執行長兼總裁Luc Van den hove在線上演講中表示，在與ASML公司的合作下，更加先進的光刻機已經取得了進展。
臺積電開始為1nm製程準備：採購最先進EUV光刻機
Lucvandenhove表示，IMEC的目標是將下一代高解析度EUV光刻技術高NA EUV光刻技術商業化。由於以前的光刻競爭對手已經退出市場，ASML把握著全球主要的先進光刻機產能，近年來，IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機，目前目標是將工藝規模縮小到1nm及以下。
目前，ASML已經完成了NXE:5000系列的高NA EUV曝光系統的基本設計，至於設備的商業化。要等到至少2022年，而等到臺積電和三星拿到設備，之前要在2023年。
據報導，臺積電正為2nm之後的先進位程持續覓地，包含橋頭科、路竹科，均在臺積電評估中長期投資設廠的考量之列。
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http://news.zol.com.cn/759/7596263.html news.zol.com.cn true 中關村在線 http://news.zol.com.cn/759/7596263.html report 895 據報導，臺積電正在籌集更多的資金，為的是向ASML購買更多更先進位程的EUV光刻機，而這些都是為了新製程做準備。在不久前舉辦的線上活動中，歐洲微電子研究中心IMEC執行長兼總裁Luc Van den hove在線上演講中表示，在與ASML公司的合作下，更加先進的光刻機已經取得了...