據報導，臺積電已經開始為1nm晶片做準備。知情人士透露，臺積電目前正在籌集更多資金，以購買更多具有ASML先進工藝的EUV光刻機。
在之前的在線活動中，歐洲微電子研究中心IMEC執行長兼總裁Luc Van den hove在一次在線演講中說，與ASML合作，更先進的光刻機取得了進步。
Lucvandenhove表示，IMEC的目標是將下一代高解析度EUV光刻技術和高NA EUV光刻技術商業化。隨著以前的光刻機競爭對手退出市場，ASML掌握了全球主要的先進光刻機生產能力。近年來，IMEC已與ASML合作開發新型EUV光刻機。當前的目標是將工藝規模減小至1nm及以下。
目前，ASML已完成NXE：5000系列高NA EUV曝光系統的基本設計，以用於設備的商業化。您必須至少等到2022年，再等到2023年之前臺積電和三星獲得設備。
據報導，臺積電正在繼續尋找2nm以上先進工藝的生產基地，包括橋頭分公司和蘆竹分公司，臺積電考慮將其用於中長期投資和工廠建設。