2005/04/21 09:19:12 點擊 3371 次
——這是世界上第一款能對非導電樣品和有汙染樣品進行超高分辨表徵的掃描電鏡
2005年3月1日, FEI公司發布了其Nova系列掃描電鏡(SEM)和雙束電鏡(DualBeam)產品的最新成員：Nova NanoSEM。該產品是世界上第一款可以對有機材料、基板、多孔材料、塑料以及高聚物材料等有電荷積累的樣品和/或汙染性樣品進行超高分辨表徵的低真空場發射掃描電子顯微鏡（FEG-SEM）。作為FEI公司引領市場的眾多設備中最新的一員，Nova NanoSEM為用戶在納米研究、開發與生產的相關工作提供了更多的可能。
Nova NanoSEM的出現為那些非導電的以及有汙染的納米材料研究和開發者們帶來了新的表徵手段。與NanoSEM同時發布的FEI Helix探測技術將浸入式透鏡和低真空掃描電鏡兩種技術成功地組合在一起，這在場發射掃描電鏡的歷史上還是第一次。在給用戶帶來超高解析度的同時，還能在低真空環境下有效地抑制非導電材料的電荷積累效應。Nova NanoSEM的這種新技術還可以有效地抑制由前道樣品處理過程所引起的電子束誘導汙染。
「Nova NanoSEM所獨有的電子光學系統和信號採集系統使之成為那些每天要面臨不斷增長的各種應用與挑戰的客戶的更有力的工具」，FEI掃描電鏡和小型雙束電鏡(DualBeam)的產品經理Tony Edwards稱，「FEI一直以其獨特的ESEM技術在非導電樣品免鍍層的觀測上獨佔鰲頭。現在這種領先的低真空技術與超高分辨技術的結合使其在這種目前仍然極具挑戰性樣品的觀測上進一步拓展了它的優勢」。
除了低真空條件下二次電子和背散射電子成像以外，Nova NanoSEM還具有浸入式透鏡的技術和FEI所特有的使用電子束進行納米結構沉積的氣體化學技術，所有的這些特點使之成為納米結構與納米材料研究領域中最先進、最理想的掃描電鏡。
隨著材料、器件和生物樣品越來越複雜，尺度越來越小，人們對FEI公司在各個領域中所提供的各種納米表徵設備都提出了更高的要求。2004年，FEI公司成為第一個能夠提供解析度小於一埃（一埃等於一百億分之一米）或原子尺度的商業透射電子顯微鏡的電子光學生產廠家。NanoSEM及其相關納米技術表徵設備的不斷發展使FEI公司繼續在各種納米材料的高分辨表徵與分析中保持著領先地位。
關於FEI 公司：
FEI 公司服務於納米技術的裝備，以聚焦離子束和電子束技術為特色，提供最高解析度小於一埃的3D 特徵描述、分析及修改功能。公司在北美和歐洲擁有研究開發中心，在全球四十多個國家經營銷售和提供維修服務。FEI 公司將納米尺度呈獻給研究人員和生產廠商，協助將本世紀一些最傑出的理念變成現實。更多的信息可在FEI 公司網站上找到：http://www.feicompany.com
中文版譯註：
(1) 任何中文版疑義，以英文版為準。英文版見FEI公司網站: http://www.feicompany.com
(2) 1納米等於10埃。
[來源：賽默飛電鏡(原FEI)]
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