濺射靶材是利用物理氣相沉積技術製備電子薄膜材料的被轟擊材料,廣泛應用於半導體晶片、太陽能電池、平板顯示、信息存儲等領域,其中半導晶片用濺射靶材技術要求最高,具有規模化生產能力的企業數量也相對較少,主要分布在美國、日本等國家和地區。
中國濺射靶材行業起步較晚,目前仍然屬於一個較新的行業,受益於國家戰略的支持,已經開始出現少量專業從事高純濺射靶材研發和生產的企業(如江豐電子,有研新材等),並成功開發出一批高端應用領域的濺射靶材,為高純濺射靶材大規模產業化提供了良好的研發基礎和市場化條件。
國內外濺射靶材的發展差距在哪裡?國內又有哪些企業正在奮力追趕?為幫助您更加了解高純濺射靶材行業發展趨勢,新材料在線編寫了《2019年高純濺射靶材行業研究報告》,為您答疑解惑、提供方向性的思路和思考。
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來源: 新材料在線