光伏用鍍膜靶材概念股

2020-11-22 邯鄲之窗

光伏用鍍膜靶材概念股

對於ITO靶材,我國有銦資源優勢,但是一直處於技術弱勢地位,國際高端ITO靶材由JX日礦日石金屬、日本三井礦業、日本東曹、韓國三星、德國及美國的少數幾家公司所壟斷。其中又以日本日礦和三井為主,其兩家幾乎佔據了高端TFT-LCD市場用ITO靶材的全部份額和大部分的觸控螢幕面板市場。我國ITO靶材產業發展現狀及其對我國觸控面板產業的影響。

根據應用領域的不同,靶材的材料、形狀也會有所差異。根據形狀可分為長(正)方體形、圓柱體形、無規則形以及實心、空心靶材。柱形磁控測射靶的優點是結構緊湊,靶材利用率較平面矩形靶高.但缺點是在濺射時。面板靶材:主要用於製作ITO玻璃及觸控屏電極平板。顯示行業主要在顯示面板和觸控屏面板兩個產品生產環節需要使用靶材濺射鍍膜。用於高畫質電視、筆記本電腦等。平板顯示靶材技術要求也很高,它要求材料高純度、面積大、均勻性程度高。鋁、銅、鉬、鉻等,主要應用於薄膜太陽能電池,太陽能靶材技術要求高、應用範圍大。信息存儲靶材的原材料有鉻基、鈷基合金等,用於光碟機、光碟、機械硬碟、磁帶等。信息存儲靶材具備高存儲密度、高傳輸速度等特性。

研製出適用不同應用領域的濺射靶材產品,才能在全球濺射靶材市場中佔得一席之地。UVTM自主創新開發的能力,TFT-LCD用高品質ITO靶材,正式投入量產。自此,我國突破了大尺寸高端ITO靶材的國外技術壁壘,在顯示面板產業重要材料國產化的道路上又前進了一步。目前,司生產的矽靶材作為應用於手機玻璃蓋板的重要靶材產品,已獲得多家手機玻璃蓋板生產客戶的認可,並已實現批量供貨。靶材的應用領域雖多,但是佔比並不均勻。示、信息存儲、太陽能電池、半導體四個領域的應用佔比合計達到94%,下遊應用集中度很高。先進的電子計算機和獲取、處理、存儲、傳遞各種信息的自動化設備都需要儲存器,括磁信息存儲、磁光信息存儲和全光信息存儲等。磁存儲器如磁碟、磁頭、磁鼓、磁帶等是利用磁性材料的鐵磁特性實現信息存儲的。

隨著晶片的使用範圍越來越廣泛,晶片市場需求數量增長,對於鋁、鈦、鉭、銅這四種業界主流的薄膜金屬材料的需求也一定會有增長。種薄膜金屬材料的其他方案,所以這四種材料目前看不到被替代的風險。在競爭格局上,由於濺射鍍膜工藝起源於國外,所需要的濺射靶材產品性能要求高,產主要集中在美國、日本少數幾家公司,產業集中度相當高。以霍尼韋爾(美國)、日礦金屬(日本)、東曹(日本)等為代表的濺射靶材生產商佔據全球絕大部分市場份額。握濺射靶材生產的核心技術以後,實施極其嚴格的保密措施,限制技術擴散,同時不斷進行橫向擴張和垂直整合,將業務觸角積極擴展到濺射鍍膜的各個應用領域。市場的主動權,並引領著全球濺射靶材行業的技術進步。

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    用於製備薄膜材料的物質被稱為 PVD鍍膜材料。濺射鍍膜和真空蒸發鍍膜是最主流的兩種 PVD 鍍膜方式。濺射靶材具有高純度、高密度、多組元、晶粒均勻等特點,一般由靶坯和背板組成。靶坯屬於濺射靶材的核心部分,是高速離子束流轟擊的目標材料。靶坯被離子撞擊後,其表面原子被濺射飛散出來並沉積於基板上製成電子薄膜。
  • 靶材在真空鍍膜中的應用
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    電路磁控濺射靶材背管中國集成電路材料現狀如何?靶材是薄膜製備的關鍵原料之一,半導體在靶材應用中約佔10%。2016年靶材市場增速達到20%,2017年-2019年仍將保持複合增速13%,到2018年全球靶材市場空間達到983億元,超越全球金屬鈷和碳酸鋰合計941億元的市場,未來潛力巨大。
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    相比PVD另一大工藝真空鍍膜,射鍍膜工藝可重複性好、膜厚可控制,可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜,合力強等優點,已成為製備薄膜材料的主要技術。PVD鍍膜目前主要有三種形式,分別是濺射鍍膜、蒸發鍍膜以及離子鍍膜。主要包括金屬提純、靶材製造、濺射鍍膜和終端應用等環節。其中,關鍵環節。其中,陶瓷化合物靶材包含氧化物、矽化物、碳化物、硫化物等。
  • 國產替代系列之靶材行業
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