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光伏用鍍膜靶材概念股
光伏用鍍膜靶材概念股對於ITO靶材,我國有銦資源優勢,但是一直處於技術弱勢地位,國際高端ITO靶材由JX日礦日石金屬、日本三井礦業、日本東曹、韓國三星、德國及美國的少數幾家公司所壟斷。其中又以日本日礦和三井為主,其兩家幾乎佔據了高端TFT-LCD市場用ITO靶材的全部份額和大部分的觸控螢幕面板市場。
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靶材概念股早盤大跌 安泰科技股價下挫超7%
據最新消息顯示,靶材概念股早盤大跌,安泰科技(000969)股價大跌超過7%,有研新材(600206)跌逾6%,東方鉭業(000962)、江豐電子(300666)等個股也紛紛下挫。那麼,2020年靶材概念股有哪些呢?下面小編就帶投資者們來了解一下吧。
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ITO靶材概念股有哪些?我國特種靶材打破國際壟斷
綜投網(www.zt5.com)3月11日訊 近日,株洲火炬特種高純功能靶材項目舉辦開工儀式項目投資主體為株洲火炬安泰新材料有限公司,總投資10億元,全力打造ITO靶材、鉬靶材、銅靶材、鈦靶材等液晶顯示器使用的各種高端鍍膜材料。項目建成後,將填補國內技術空白,並成為國內最大、種類最全的靶材生產基地。 ITO(銦錫氧化物)是目前大熱的OLED顯示技術的重要結構,柔性OLED則需要高端ITO靶材,目前我國主要依賴進口。
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出口美國鍍膜靶材生產廠家
靶材,是濺射薄膜製備的源頭材料,又稱濺射靶材,特別是高純度濺射靶材應用於電子元器件製造的物理-氣相沉積,不可或缺的環節和材料。靶材的要求非常高,對濺射靶材的金屬材料純度、內部微觀結構等方面都設定了極其苛刻的標準,期實踐才能製成符合工藝要求的產品,因而有實力產出高純電子級靶材的企業與公司並不得多。UVTM還提供矽材料等,矽靶材和晶圓的直徑可達18英寸。目前,矽晶圓主流尺寸為8英寸、12英寸。UVTM的矽靶材作為應用於手機玻璃蓋板的重要靶材產品,已獲得多家手機玻璃蓋板生產客戶的認可,並已實現批量供貨。
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福安金屬鈮靶材廠家直銷
主要包括金屬提純、靶材製造、濺射鍍膜和終端應用等環節。其中,關鍵環節。其中,陶瓷化合物靶材包含氧化物、矽化物、碳化物、硫化物等。2007年,霍尼韋爾抓住中國電子產業蓬勃發展的機會,將電子材料總部遷往上海。此後,便一發不可收拾。2014年,霍尼韋爾研發出等徑角塑型(ECAE)新型靶材,具有更高的材質硬度和更少的雜質顆粒,牢牢把控著國內市場的高端領域。
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鈦鋁金屬靶材_專業的濺射靶材生產廠家
濺射靶材是半導體加工過程中必不可少的,國際半導體產業協會的數據顯示,在半導體製造的材料成本中,濺射靶材所佔的比例為3%。濺射靶材主要用在三個領域,分別是光碟和硬碟製造、LCD和LED面板生產、半導體加工製造。通過回收工業廢料,UVTM可以再加工成純度為5N(99.999%)的金,並與原生金混合,製成半導體級的濺射靶材。
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株洲磁控濺射靶材缺點
株洲磁控濺射靶材缺點氧化錫銻(ATO)是一種新型透明導電氧化物材料,其資源豐富、價格便宜、無毒無汙染,而且具有禁帶寬度大(>3.6eV)、導電性好、可見光透過率高、抗輻射、熱穩定性好等優異性能,用於大面積磁控濺射鍍膜,如建築玻璃,汽車玻璃,低輻射玻璃,薄膜太陽能電池、ATOFilm等工業,增加隔熱性能、隔紫外性能、
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TCTE2017中國(深圳)國際靶材與鍍膜科技裝備展覽會
「TCTE中國(深圳)國際靶材與鍍膜科技裝備展覽會」將於2017年12月5-7日在深圳市大中華文化藝術品交易廣場展館(金田南路)隆重舉辦,為了更好地促進國內外靶材與鍍膜科技裝備產品技術交流,推動靶材與鍍膜科技裝備產品更廣泛的應用,展示近年來國內外靶材與鍍膜新產品、新技術、新設備。
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國產替代系列之靶材行業
被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的源材料,通常稱為靶材。靶材是製備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。WSTS(全球半導體貿易統計組織)的數據顯示,濺射靶材主要應用在平板顯示、記錄媒體、光伏電池、半導體等領域。
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科研光伏電池靶材技術
在半導體濺射靶材方面,國內與國際差距主要在濺射靶材上遊材料(超高純原材料方面)與服務於集成電路先進位程的新產品。靶材是廣泛應用於半導體、磁記錄、平面顯示等領域的核心材料,市場前景廣闊。據統計,2011年全球靶材市場容量約為400億元,市場需求量以每年超過30%的速度快速增長。
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新樂G6.5ITO靶材龍頭企業
新樂G6.5ITO靶材龍頭企業磁控濺射鍍膜技術具有易於大面積鍍膜、工業化生產以及薄膜品質、成分、結構、均勻性等易於調控的優勢,是產業化製備氧化物薄膜材料的重要方法之一,製備的氧化物薄膜材料在液晶面板、觸控螢幕、薄膜太陽能電池、發光二極體等產業上獲得了廣泛應用。
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合肥氧化鈮靶材主要用途
在濺射靶材應用領域中,半導體晶片對濺射靶材的要求是比較高的,要求靶材純度很高,一般在5N(99.999%)以上。半導體產業對濺射靶材和濺射薄膜的品質要求非常高,隨著更大尺寸的矽晶圓片製造出來,相應地要求濺射靶材也朝著大尺寸、高純度的方向發展,同時也對濺射靶材的晶粒晶向控制提出了更高的要求。
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PVD鍍膜及其常用的靶材
來源:江豐電子按使用的原材料材質不同,濺射靶材可分為金屬/非金屬單質靶材、合金靶材、化合物靶材等。超高純金屬及濺射靶材是電子材料的重要組成部分,濺射靶材產業鏈主要包括金屬提純、靶材製造、濺射鍍膜和終端應用等環節,其中,靶材製造和濺射鍍膜環節是整個濺射靶材產業鏈中的關鍵環節。
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【靶材專家】中國新型顯示行業靶材國產化新進展
主持人: 現在非常有幸請到隆華科技四豐電子、晶聯光電的靶材業務負責人張總給我們講一下關於靶材行業的發展現狀。靶材市場,在全球大概是千億級別的市場,靶材是顯示半導體、光伏和未來很多光學器材上的必備材料,而且這些材料的特性和種類是隨著未來智能化、電子化程度提高需求增加。
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株冶集團:ITO靶材項目是公司的重點轉型項目之一
同花順金融研究中心3月25日訊,有投資者向株冶集團提問, 請問董秘陳湘軍先生,貴公司ITO靶材項目還在做嗎?株洲火炬安泰新材料有限公司也做ITO靶材項目了,以前不是說ITO靶材在國內沒有競爭對手嗎?公司回答表示,ITO靶材是國家重點鼓勵發展的新材料產品,ITO靶材項目是公司的重點轉型項目之一,已列入湖南有色金屬控股集團有限公司2019-2022年發展規劃。隨著國內液晶面板行業的高速發展,國內已有不少廠商和科研院所開展了ITO靶材研究和試驗,部分廠商已開始銷售ITO靶材產品。我公司對株洲火炬安泰新材料有限公司具體的運營情況不太了解。
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半導體國產化:靶材(附深度)
雖然靶材正在晶圓製造和晶片封裝領域用量不大,根據SEMI的統計數據,靶材在晶圓製造及封裝過程成本佔比均約在3%左右,但是由於濺射靶材的品質直接影響導電層、阻擋層的均勻程度及性能,進而影響晶片傳輸速度及穩定性,因此靶材是半導體生產的核心原材料之一。
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7nm工藝的挑戰:江豐電子已掌握7nm工藝濺射靶材核心技術
半導體製造不僅需要先進的光刻機,材料也是其中重要的一環,主要包括矽片、光刻膠、高純度試劑、CMP材料,濺射靶材也是其中之一。國內濺射靶材行業龍頭公司江豐電子日前表示該公司已經掌握了用於7nm工藝節點的金屬濺射靶材核心技術,目前正在積極與客戶溝通評價事宜。
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濺射靶材市場容量巨大,景氣度不斷增加
現在的濺射技術已經成為一個相當成熟的工藝,並且廣泛應用於半導體、光伏、顯示屏等各個產業。超高純金屬及濺射靶材是電子材料的重要組成部分,濺射靶材產業鏈主要包括金屬提純、靶材製造、濺射鍍膜和終端應用等環節,其中,靶材製造和濺射鍍膜環節是整個濺射靶材產業鏈中的關鍵環節。
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靶材
濺射靶材的工作原理:濺射是製備薄膜材料的主要技術之一,它利用離子源產生的離子,在真空中經過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發生動能交換,使固體表面的原子離開固體並沉積在基底表面,被轟擊的固體即為濺射靶材。靶材發展趨勢是:高濺射率、晶粒晶向控制、大尺寸、高純金屬。
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電子產業原材料之靶材行業深度報告:輔芯助屏,濺射全球
1、 靶材概況靶材:濺射薄膜製備的源頭材料,又稱濺射靶材,特別是高純度濺射靶材應用於電子元器件製造的物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)工藝,是製備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。