中國5nm光刻技術突破，高漲的市場情緒下，相關標的具有交易機會

據中科院7月7日官網報導稱，近日，中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所研究員張子暘與國家納米中心研究員劉前合作，在Nano Letters上發表了題為5 nm Nanogap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography的研究論文，報導了一種新型5nm超高精度雷射光刻加工方法。

基於光熱反應機理，研究團隊設計開發了一種新型三層堆疊薄膜結構。在無機鈦膜光刻膠上，採用雙雷射束（波長為405nm）交疊技術，通過精確控制能量密度及步長，實現了1/55衍射極限的突破（NA=0.9），達到了最小5nm的特徵線寬。研究團隊利用這種超分辨的雷射直寫技術，實現了納米狹縫電極陣列結構的大規模製備。

這就預示著我們國家量產5nm晶片的日子很快就會到來，一定程度上讓我們的關鍵卡脖子的技術有望得到突破，一切都有了很大的轉機，中科院這次真是立功了！

這次該團隊研發的是有完全的智慧財產權的雷射直接設備，利用雷射與物質的非線性相互作用來提高加工解析度，有別於傳統的縮短雷射波長或增大數值孔徑的技術路徑，打破了傳統雷射直寫技術中受體材料為有機光刻膠的限制，可使用多種受體材料，擴展了雷射直寫的應用場景。

當然和荷蘭的阿麥斯光刻機技術還是有所區別的，但我們的技術也能夠實現大規模的製備了，首先是解決了別人對我們的卡脖子問題，這樣以來美帝想置我們於死地的想法就破滅了，希望儘快能夠實現商業生產，這樣以來阿麥斯的光刻機對我們的限制也就意義不大了，到時我們國內的企業也就能夠有了更多選擇權。

這種技術解決了高效和高精度之間的固有矛盾，開發的新型微納加工技術在集成電路、光子晶片、微機電系統等眾多微納加工領域展現了廣闊的應用前景。

這個大的突破來的有點突然，估計市場短時間內還有質疑聲，但只要有大突破就會有大機會，市場現在情緒面高昂，只要有題材推動，機會就會迅速產生：

1、蘇大維格300331：公司此前牽頭的國家重大科學儀器設備開發專項「納米圖形化直寫與成像檢測儀器的研發與應用」項目由公司聯合中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所、中國科學院上海光學精密機械研究所等 6 家單位共同完成。

2、清溢光電688138：公司主要採用雷射直寫法生產集成電路掩膜版，客戶包括中芯國際。

3、賽微電子300456：賽微電子在互動平臺稱，ASML為公司商業合作夥伴，公司瑞典與北京分別擁有數臺光刻機；此外公司一直為全球光刻機巨頭廠商提供透鏡系統MEMS部件的工藝開發與晶圓製造服務，該廠商目前為公司MEMS業務的前十大客戶。

4、柏楚電子688188：公司研發微米級控制精度的精密微納加工控制系統及上位機應用方案。實現系統方案在超快雷射脆薄性材料加工領域中的量產。

5、藍英裝備300293：公司控股子公司UCM AG為荷蘭的阿麥斯公司提供精密清洗解決方案。

其他題材機會也會在更多的光刻機（膠）板塊中產生，畢竟市場的資金量充足，活躍資金也會接力推升，這只是一種導火索。