中科院5nm光刻技術，突破ASML壟斷？看研發者是怎麼說的

2020-12-02 網際網路亂侃秀

眾所周知，今年7月份的時候，網上傳出一則重大消息，那就是中科院發布了一篇文章《超解析度雷射光刻技術製備5納米間隙電極和陣列》，這篇文章介紹了中科院團隊研發的一種新型的5nm超高精度雷射光刻加工方法。

於是網友們沸騰了，把它與5nm光刻機聯繫起來，說中國有了5nm光刻技術，打破了ASML的封鎖，還有什麼彎道超車，不需要極紫外錢也能實現5nm等等。

但當時，中科院沒有對這些傳聞做太多的回應，但在近日，該項目的研發者之一，中科院研究員、博士生導師劉前面對媒體採訪時表示，這是一個誤讀，這一技術與極紫外光刻機技術是兩回事。

我們知道晶片的製造過程，是先通過雷射把晶片設計圖寫到光掩膜板上，再通過光刻機，把光掩膜板上的電路圖投射到塗有光刻膠的矽晶圓表面，形成電路圖。

每一顆晶片，都需要一套光掩膜板，可以說掩膜板就是光刻機在製造晶片時的母板，也是光刻工序前的一項工作，更是晶片製造過程中必不可少的一個的一個步驟。

而中科院研發的5nm超高精度雷射光刻加工方法，它的主要用途是製作光掩模。而EUV光刻機是設備本身製造出極紫光線，然後再利用極紫光線投射光掩膜板，進行光刻。

可以說兩種技術完全兩碼事，用途完全不一樣，類型也完全不一樣，兩者的關係是晶片製造過程中的前後工序，所以所謂的突破ASML的封鎖真的就是個誤會。

當然，目前國內製作的掩模版主要是中低端的，裝備材料和技術大多來自國外，而中科院的這一技術，有望提高國內的技術水平。

不過要注意的是，目前這項技術更多的還是處於理論上的，要實現真正的商用，還有很大一段距離，雖然意義非凡，但大家且慢激動，更不需要沸騰。

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    近日，中國科學院官網上發布的一則研究進展顯示，該團隊研發的新型5nm超高精度雷射光刻加工方法，隨後這被外界解讀為，已經5nm ASML的壟斷，對此相關人士也是進行了回應。
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    中科院突破5nm光刻技術壟斷？中科院研發的5nm超高精度雷射光刻加工方法的主要用途是製作光掩模，因為目前國內製作的掩模板主要是中低端的，裝備材料和技術大多來自國外。消息一出，網友熱情開始冷卻，但此事其實是把雙刃劍，一方面，5nm晶片設備的掣肘依然存在；另一方面，最少說明我們在5nm相關的光刻領域又前進了一步，一口氣吃不成胖子，腳踏實地才能在5G時代打造出100%的國產晶片。
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  • 中科院的5nm光刻技術,和ASML的5nm光刻機是兩碼事
    但這麼重要的設備，國內水平較為落後，目前還在90nm節點，只能用於90nm晶片的製造，屬於低端產品，而ASML最強，可用於5nm晶片的生產，中間隔了10年以上的技術。但重要的是當晶片進入到7nm時，必須要用到EUV光刻機，即紫外線光刻機，波長為19.3nm的光源，這種光刻機只有ASML能夠製造，而中國芯要實現7nm或以下技術，就得看ASML的臉色，要看對方賣不賣EUV光刻機給你。
  • 中科院5nm光刻技術突破西方壟斷,實情是怎樣的呢?
    中國科學院早前發表論文，介紹最新研發的一種「5納米超高精度雷射光刻加工方法」，燃起國內晶片業起飛的希望。但事實證明仍空歡喜一場，負責撰寫的中科院學者昨日（1日）開腔，形容是外界誤讀。 該篇論文7月發表，隨後在國際知名期刊《納米通訊》（Nano Letters）刊登。
  • 中國將突破ASML在極紫外光刻技術上的壟斷?
    打開APP 中國將突破ASML在極紫外光刻技術上的壟斷？ 雪花 發表於 2020-12-02 10:10:18 近日，中國科學院官網上發布的一則研究進展顯示，該團隊研發的新型5nm超高精度雷射光刻加工方法，隨後這被外界解讀為，已經5nm ASML的壟斷
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    今年7月，中國科學院官網上發布了一則研究進展，中科院蘇州所聯合國家納米中心在《納米快報》（Nano Letters）上發表了題為《超解析度雷射光刻技術製備5納米間隙電極和陣列》（5 nm Nano gap
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    中科院的5nm雷射光刻，是否意味著擺脫了EUV？眾所周知，半導體製造領域，要想生產5nm晶片，必須要使用荷蘭ASML的EUV光刻機，而荷蘭的ASML是全球唯一的能夠量產EUV光刻機的公司，我國大陸至今沒有一臺EUV光刻機，可以說是一項「卡脖子」的技術。
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    今年7月，在中國科學院官網上發布了一則研究進展，中科院蘇州所聯合國家納米中心在《納米快報》上發表了題為《超解析度雷射光刻技術製備5納米間隙電極和陣列》的研究論文，介紹了該團隊研發的新型 5 納米超高精度雷射光刻加工方法。
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    我們一直有這樣的一種構想，我們的光刻機技術，能否將荷蘭ASML的光刻機取代呢？然後，這種構想，在中科院5nm雷射光刻技術的研究發布以後，似乎變得越發肯定。但是，事實真的如此？我們真的能夠取代荷蘭ASML嗎？帶著這個疑問，我們一起來看一下。
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    打開APP 90nm國產光刻機對比5nm ASML光刻機，差距很大 佚名 發表於 2020-04-13 17:22:30 那麼這個水平和ASML相比如何呢，ASML早在2018年就將其光刻機賣給三星和臺積電大規模量產7nm高端晶片，臺積電錶示現在已經開始試產5nm晶片，今年下半年大規模量產。經過對比，可以微電子光刻機技術與世界先進水平的ASML光刻機還有很大的差距，至少25年。
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    」論文的通訊作者、中科院研究員、博士生導師劉前在接受媒體採訪時澄清，這一技術與高端光刻機採用的極紫外光刻技術（EUV）是兩回事。5nm光刻技術獲突破的新聞，中科院蘇州納米技術與納米仿生研究所張子暘研究員，與國家納米科學中心劉前研究員合作，在《納米外報》上發表了一篇研究論文，述了該團隊開發的新型5nm超高精度雷射光刻加工方法。