中科院再傳喜訊，打破西方技術壟斷，或將突破5nm光刻機技術

2020-08-28 探魚

眾所周知，我國在近些年來取得了肉眼可見的進步，如今，我國的眾多領域都有了巨大的轉變，但這些成就都離不開我國科研人員的不斷努力。我們都知道，我國在科技技術上的起步要晚於西方國家，但也讓我國的科技發展遇到了限制，那就是他們對我國進行封鎖。雖然我國華為研發出了5G，但要想有高端的晶片還是離不開光刻機的支持。據了解，我國的中科院再次傳來喜訊，更是打破了西方的技術壟斷，或將突破荷蘭的5nm光刻機技術！


西方國家壟斷技術

我們都知道，隨著我國的發展，以美國為首的國家就頻繁來針對我們，所以他們也是制裁我國的晶片，最終也是給我們帶來了巨大的打擊。而面對他們這樣的做法，我國也是沒有氣餒，也是不斷在進行努力。我們都知道西方國家掌握著核心技術，而他們自然不會輕易的將技術進行出口，而他們這樣做也是害怕我國實現彎道超車超越他們。


中科院再傳喜訊

如今，面對西方國家的壓力之下，我國的科研人員都在繼續繼續努力，也是傳來了眾多的喜訊，我們都知道以往我國的光刻機處於90nm工藝上，因此與那些發達國家相比還是相差甚遠。但是荷蘭的ASML公司也是目前最為頂尖的光刻機研發企業，而我國在那時也是向他們進口EUV光刻機，但由於美國的阻止，最終也是讓我們以失敗告終。面對這樣巨大的壓力我國也是研發出了28nm的光刻機，隨後經過科研人員多年的努力頭突破了10nm和7nm的工藝。


打破西方技術壟斷

而這一點點的成就和進步，也說明我國的科技實力也是不容小覷的，如今，中科院也再次傳來喜訊，也是成功打破了西方的技術壟斷，而我國5nm工藝的技術或將實現突破。而這個消息肯定會讓西方國家都大吃一驚，如果這個技術得到完美的突破，那麼將會研發出更高端的晶片。


結語

如今，我國在科技領域上，還是需要更加的努力才行，儘管取得了如此巨大的進步，但我們與西方國家對比還有很長的一段距離。所以相信我們國家的科研人員和國家餓大禮支持下，肯定會在更上一層樓，除此之外，我們還是需要大量的技術人才，對於這件事你們有什麼看法呢？

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  • 中科院5nm光刻技術突破西方壟斷,實情是怎樣的呢?
    中國科學院早前發表論文，介紹最新研發的一種「5納米超高精度雷射光刻加工方法」，燃起國內晶片業起飛的希望。但事實證明仍空歡喜一場，負責撰寫的中科院學者昨日（1日）開腔，形容是外界誤讀。 該篇論文7月發表，隨後在國際知名期刊《納米通訊》（Nano Letters）刊登。
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    荷蘭ASML迎來技術突破前段時間，歐洲微電子研究中心IMEC執行長Luc Van den hove，在線上演講中，帶來了ASML研究的最新進展。他表示，IMEC同ASML多年來密切合作，正在研究新一代EUV光刻機，希望能將工藝規模縮小至1nm乃至以下。同時，它們正推進下一代高解析度EUV光刻技術高NA EUV光刻技術商業化。
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    但這麼重要的設備，國內水平較為落後，目前還在90nm節點，只能用於90nm晶片的製造，屬於低端產品，而ASML最強，可用於5nm晶片的生產，中間隔了10年以上的技術。但重要的是當晶片進入到7nm時，必須要用到EUV光刻機，即紫外線光刻機，波長為19.3nm的光源，這種光刻機只有ASML能夠製造，而中國芯要實現7nm或以下技術，就得看ASML的臉色，要看對方賣不賣EUV光刻機給你。
  • 中科院迎來好消息,5納米光刻機關鍵技術被攻克,要打破壟斷了嗎
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    雖說目前也有中國企業在晶片製造領域全球領先，但這類企業所需要的技術、設備無一不依賴美國，而當供應鏈無法為晶片設計廠商做後盾時，必然會被卡脖子。因此，目前中國相關製造企業，開始加速推進技術以及高端設備的自研，其中雖然光刻機製造商尚未突破西方國家的技術封鎖，但一家中國蝕刻機巨頭，成功給國產光刻機樹立了榜樣，這位巨頭正是中微半導體。