厲害!中國5納米光刻機關鍵技術被攻克,未來將會打破壟斷嗎

2020-11-22 騰訊網

進入現代社會，我們的技術可以如此迅速地發展，最重要的環節之一就是晶片，中科院再次傳來好消息。

他們突破了5nm光刻機的製造工藝，他們能有這麼樣的好成績，也是離不開強有力地支持半導體領域的研究與開發，所以才湧現出了華為，中芯國際，中興通訊等優秀公司，我們已經在晶片設計，研究和開發方面擁有最先進的技術。

主要原因是我們缺少最先進的光刻機，目前只有荷蘭的ASML公司能夠生產光刻機，並且已經聚集了一百多位專家。

儘管如此，仍然沒有什麼可以絆倒中國的，研究人員仍在盡力徵服相關技術，而且不久前，作為行業領導者，上海微電子成功地自主研發了28納米光刻機。

許多人可能會感到驚訝，最先進的技術已達到5納米，當我們只有28納米時，我們能為之高興嗎？實際上我們可以從另一個角度考慮它。

一旦西方國家完全禁止向我們提供光刻機，我們也可以依靠當前技術生產相應的晶片，而不必說供應已完全中斷，我們的目標不是到此為止，這次中國科學院採取了另一種方法來徵服5nm光刻的關鍵技術。

這個好消息來自中國科學院蘇州研究所，他們沒有遵循ASML公司的技術進行研發，而是選擇了另一條新技術路線，一種新型的5納米高精度雷射光刻技術也應運而生，這也意味著我們有可能直接從28納米工藝躍升至5納米，從而打破西方國家的壟斷。

荷蘭的ASML光刻機已收集了許多西方國家共同開發的專利，並已申請了專利技術，我們不能在光刻機的獨立研發過程中使用它，經過這麼多年，他們一直在使用光刻機，有無數專利，可以想像對我們來說，實現光刻機的本地化有多麼困難。

我們必須突破所有技術障礙，在這個過程中，我們必須獨立創新，走不同的道路，這次它可以繞開其所有專利以取得突破，這將極大地促進後續發展。那麼你們覺得這次真的會打破荷蘭ASML長達數十年的壟斷嗎？

好了今天就為大家介紹到這裡，我們下一期再見！

突破！中科院攻克5納米光刻機關鍵技術，要打破壟斷了嗎！

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    今天跟大家聊一聊：中科院再次傳來好消息，他們突破了5納米光刻機的製造工藝，這次真的要打破荷蘭ASML長達幾十年的壟斷了嗎？而最主要的原因就是我們缺少了最為先進的光刻機，西方國家對於光刻機的相關技術嚴防死守，我們想要突破也變得異常的困難，目前沒有任何一個國家能夠自主研發出高端的光刻機，而荷蘭ASML公司能夠生產出光刻機，也是集齊了百家所長，雖然如此但是還是沒有什麼能夠難倒中國，科研人員還是全力攻克相關技術，就在前不久也迎來了好消息，作為業界領頭羊的上海微電子，成功自主研發出了28納米的光刻機
  • 媒體:國產22納米光刻機治不了中國的"芯"病
    （原標題：國產22納米光刻機治不了咱們的「芯」病！）消息傳著傳著，就成了謠言——《國產光刻機偉大突破，國產晶片白菜化在即》《突破荷蘭技術封鎖，彎道超車》《厲害了我的國，新式光刻機將打破「晶片荒」》……筆者正好去中科院光電所旁聽此次驗收會，寫了報導，還算熟悉，無法苟同一些漫無邊際的瞎扯。中科院研製的這種光刻機不能（像一些網媒說的）用來光刻CPU。它的意義是用便宜光源實現較高的解析度，用於一些特殊製造場景，很經濟。
  • 中科院研發者回應5納米光刻技術突破ASML壟斷
    《納米快報》（Nano Letters）上發表了題為《超解析度雷射光刻技術製備5納米間隙電極和陣列》（5 nm Nano gap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography）的研究論文，介紹了該團隊研發的新型 5 納米超高精度雷射光刻加工方法。
  • 國產22納米光刻機治不了咱們的「芯」病!
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  • 中科院突破5nm光刻技術壟斷？事實殘酷卻又是把雙刃劍
    （記者 陳洲）這半年來，關於中科院「突破ASML的壟斷」、「不用EUV光刻機就能造成5nm晶片」的消息刷爆了自媒體圈。然而，情況真是這樣嗎？《財經》新媒體近日的報導道出了事實真相：今年7月，中科院蘇州所聯合國家納米中心在《納米快報》上發表了題為《超解析度雷射光刻技術製備5納米間隙電極和陣列》的研究論文，介紹了該團隊研發的新型5 納米超高精度雷射光刻加工方法。
  • 中科院突破5nm光刻技術壟斷?事實殘酷卻又是把雙刃劍
    中科院突破5nm光刻技術壟斷？然而，情況真是這樣嗎？《財經》新媒體近日的報導道出了事實真相：今年7月，中科院蘇州所聯合國家納米中心在《納米快報》上發表了題為《超解析度雷射光刻技術製備5納米間隙電極和陣列》的研究論文，介紹了該團隊研發的新型5 納米超高精度雷射光刻加工方法。
  • 科技日報:中科院國產22納米光刻機治不了咱的「芯」病
    消息傳著傳著，就成了謠言——《國產光刻機偉大突破，國產晶片白菜化在即》《突破荷蘭技術封鎖，彎道超車》《厲害了我的國，新式光刻機將打破「晶片荒」》……筆者正好去中科院光電所旁聽此次驗收會，寫了報導，還算熟悉，無法苟同一些漫無邊際的瞎扯。中科院研製的這種光刻機不能（像一些網媒說的）用來光刻CPU。
  • 中科院公開發聲:打破ASML5nm光刻機壟斷,這是誤讀
    但是除了這些之外，在晶片界科技含量最高，集成度最複雜的還是光刻機。一臺光刻機10萬個零部件，普通的汽車也只有幾千個零部件。相差的不是一點兩點，尤其是高端EUV光刻機，ASML每年的產量都十分有限。用EUV光刻機才能夠製造5nm晶片，所以一臺5nm光刻機的重要性不言而喻。
  • 除了光刻機,還有蝕刻機!國產廠商攻克5nm技術,臺積電已下單
    而關於晶片，相信大家都已經因為華為這兩年的遭遇已經基本了解，而在晶片製造中，重要的關鍵設備便是：光刻機！不過除了光刻機之外，還有一種關鍵設備，重要程度僅次於光刻機，那就是蝕刻機！為什麼這麼說呢？由於目前光刻機是被荷蘭的ASML公司以及日本的尼康及佳能壟斷。中國也有不少光刻機的廠商，例如上海微電子，中電科45所等，但是技術目前還與荷蘭ASML公司有著差距，因為國產的技術目前最高在28nm晶片，而荷蘭ASML公司已經給臺積電供貨5nm技術的EUV光刻機了。
  • 中國押注的碳基晶片，能繞開EUV光刻機嗎？
    ，是因為他在碳基電子學領域，發展了整套碳基CMOS（互補金屬氧化物半導體）集成電路無摻雜製備新技術，首次製備出性能接近理論極限，柵長僅5納米的碳管電晶體，綜合性能超越矽基器件十餘倍。新材料將通過全新物理機制實現全新的邏輯、存儲及互聯概念和器件，那麼到時候，晶片設計廠商、晶片設備廠商、晶圓加工廠商原有的壟斷格局將徹底打破，所有的技術積累都將全部清零，主導國家將會獲得新一代技術控制權。
  • 中國科學院開發的5納米超高精度雷射光刻技術
    中國科學院蘇州研究所和國家納米中心在《納米快報》上發表了題為「製備5納米間隙電極的超解析度雷射光刻技術」。「超解析度雷射光刻技術在5 nm納米間隙電極和陣列上」的研究論文介紹了該團隊開發的新的5 nm超高精度雷射光刻處理方法。
  • 厲害了!中科院首創2納米晶片關鍵技術,還要依賴光刻機嗎?
    晶片是當前中國技術領域的熱議話題，在美國的一再幹擾以及中國企業的團結努力下，我國晶片技術的發展可謂一波三折，時而讓人憂慮，時而讓人振奮。那麼如今中國晶片技術究竟發展到了哪一程度，有消息稱中科院首創了2納米晶片的關鍵技術，這一技術在生產過程中是否還要依賴先進的高端光刻機，中國晶片是否就此迎來轉機，今天我們要為大家一一揭秘。中國晶片的發展與幾大企業密切相關，首先此次晶片危機事件的主角，同時也是我國優秀的晶片研發企業的華為。
  • 碳基晶片關鍵技術被北大攻克，未來不需要光刻機？任正非說出實情
    不過，最近北大大學就有了新的突破，彭練矛的團隊，成功地使用碳納米管研製出了晶片，性能超過了同樣工藝級別的矽晶片，可能有助於解決未來摩爾定律遇到的瓶頸，甚至可以幫助國產晶片「彎道超車」。華為所需要的晶片是很高端的，對於光刻機的要求很高，難不成這種新型碳基晶片還不需要光刻機？或許這種新的碳基晶片真的不需要晶片。未來不需要光刻機現代的晶片製作工藝都是源於老美，具體一點就是來自加利福尼亞的矽谷。
  • 中科院首創2納米晶片關鍵技術,還依賴光刻機嗎中國晶片迎轉機
    完全是免費訂閱，請放心關注今天跟大家聊一聊：中國在晶片領域可以說一路波折，由於缺乏關鍵設備光刻機，我們在該領域也很難有所突破，那中芯國際是如何逆轉實現量產14納米晶片的呢？並掌握2納米的關鍵技術的，本期我們就來一起了解一下。
  • 國產晶片又獲新突破:7nm ArF光刻膠技術,打破日本、美國壟斷
    最近的華為晶片「斷供」，就是源於荷蘭ASML光刻機，特別是EUV設備，一直是世界技術壟斷的，如果不能突破這些技術，我們將受制於人。為了不被卡脖，我國光刻領域的科技公司---華卓精科，傳來了一個喜人的消息：華卓精科突破了光刻機雙工件的核心技術，打破ASML光刻機在工件臺上的全球技術壟斷，成為世界第二家掌握雙工件核心技術的科技公司，並且部分技術和設備已經達到世界領先水平。我國的科技公司，能夠打破ASML光刻機部分的技術壟斷，實乃振奮人心。
  • 中國已造出22納米光刻機,更為精密的5納米需要多久?
    就算送給中國圖紙也造不出光刻機，那麼是否圖紙免費送來也造不出光刻機呢？如今中國用實力打臉西方專家，目前22納米光刻機已經安排上了，這也標誌著中國如今已經成功突破了光刻機這個難關，既然中國現在已經能夠造出22納米的光刻機了，那麼更加精密的5納米光刻機還需要多久呢？看來這一天也已經不久了。
  • 中國開發了5納米雷射光刻機？
    ASML透露，美國阻止ASML向國內交付最新生產的光刻機設備，美國這樣做大大延緩了國內半導體行業的發展速度，同時因為光刻工藝直接影響著半導體線路的線寬，進而影響著集成電路的性能與消耗，因此光刻機成為半導體行業最為關鍵的設備，但是目前EUV光刻機還不夠成熟，集成電路產能和速度都不夠快，因此在早期可能只有一部分採用EUV光刻完成，其餘的部分依舊會採用沉浸式光刻和多重成像技術。
  • 不僅要攻克光刻機，中科院多點開花，又一項技術壁壘被打破
    其中，光刻機成為中科院將要攻克的重要對象。除光刻機外，中科院還多點開花，又成功打破了一項技術壁壘。據悉，該項目投資共計10.5億元。若是中科院新型量產化項目建設成功，中國OELD產量有望得到提升，將提高我國的話語權，更有希望打破韓國企業的壟斷地位。
  • 為什麼荷蘭ASML可以壟斷光刻機?
    美國又一次升級了實體清單，在半導體方面開始限制中國。在這種情況下，華為只能被迫給臺積電追加訂單，因為很有可能在120天之後，臺積電就會拒絕給華為代工生產。對於半導體行業來說，最重要的就是光刻機，目前世界上主流的光刻機已經被荷蘭的ASML公司所壟斷，今年3月份的時候，我國的中芯國際在荷蘭進口了一臺光刻機，這則消息居然能夠成為新聞。為什麼光刻機被荷蘭ASML所壟斷，或者是說為什麼我國製作不出屬於自己的光刻機？
  • 面對美國的晶片攻勢,中國押注碳基晶片,能繞開EUV光刻機嗎
    ，是因為他在碳基電子學領域，發展了整套碳基CMOS（互補金屬氧化物半導體）集成電路無摻雜製備新技術，首次製備出性能接近理論極限，柵長僅5納米的碳管電晶體，綜合性能超越矽基器件十餘倍。 那麼碳基晶片出現之後，可以繞開EUV光刻機嗎，實現晶片的自主可控嗎？