摩爾定律曾經是半導體行業的絕對真理，人們曾經對此深信不疑，但是隨著5nm工藝的大規模量產和3nm取得突破，一切似乎都開始變得不一樣，日前，ASML宣布完成1nm光刻機的設計，加深了這種質疑。
1nm光刻機
在前不久舉行的一次線上活動中，歐洲微電子研究中心IMEC宣布，與ASML公司合作研發的光刻機項目已經取得了突破。目前ASML把握著全球主要的先進光刻機產能，近年來，IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機，目前目標是將工藝規模縮小到1nm及以下。
優先供貨臺積電
據悉，從7nm開始，臺積電已經在開始採用NA＝0.33的EUV光刻設備，與前代相比，更高解析度的設備帶來了頻率和功耗的提升，也為目前臺積電5nm製程提供了基礎。隨著工藝的不斷進步，更加複雜的光刻系統還將導致設備變得更大，而未來1nm光刻機的價格也將達到新高，不出意外，首批用戶依舊是臺積電。
目前我國的半導體行業距離世界先進水平還存在著一定的差距，在ASML已大規模量產5nm工藝，3nm工藝取得突破，並且完成1nm光刻機設計的前提下，我國相關企業還需要努力。