觀察者網·大橘財經訊（文/呂棟 編輯/尹哲）在集成電路製造領域，光刻機被稱為是推動製程技術進步的「引擎」，而光刻膠就是「燃料」。
未來幾年，隨著中芯國際、長江存儲、長鑫存儲等晶圓廠進入產能擴張期，高端光刻膠的國產化替代迎來重要窗口。
12月17日晚間，南大光電公告披露，其控股子公司寧波南大光電材料有限公司（下稱：寧波南大光電）自主研發的ArF光刻膠產品近日成功通過客戶使用認證，可用於90nm-14nm甚至7nm技術節點。
「本次產品的認證通過，標誌著『ArF光刻膠產品開發和產業化』項目取得關鍵性的突破，成為國內通過產品驗證的第一隻國產ArF光刻膠，為全面完成項目目標奠定堅實的基礎。」公告中寫道。
南大光電內部人士今天在接受觀察者網採訪時透露，ArF光刻膠生產線已建成，可根據客戶需要量產。
受上述消息影響，創業板上市的南大光電今天高開近14%，最終收漲8%。
不過，需要注意的是，截至今年上半年，光刻膠業務還未給南大光電貢獻營收。該公司坦言，ArF光刻膠存在穩定量產周期長、風險大等特點，後續是否能取得下遊客戶訂單存在較多不確定性。
最近三年，南大光電淨利潤增速驟降，2019年扣非淨利潤僅為上市前的五分之一。
公告截圖
量產階段仍存諸多風險
觀察者網梳理相關資料發現，光刻膠是一種對光敏感的混合液體，可以通過光化學反應，經曝光、顯影等光刻工序將所需要的微細圖形從光罩（掩模版）轉移到待加工基片上。
依據使用場景，待加工基片可以是集成電路材料、顯示面板材料或者印刷電路板（PCB）。
因此，按應用領域分類，光刻膠又可分為PCB光刻膠、顯示面板光刻膠、半導體光刻膠及其他光刻膠。目前，國產光刻膠以PCB用光刻膠為主，顯示面板、半導體用光刻膠供應量佔比極低。
浙商證券2020年4月研報截圖
作為技術難度最大的光刻膠品種，半導體光刻膠也是國產與國際先進水平差距最大的一類。
長時間以來，為滿足集成電路對密度和集成度水平的更高要求，光刻機不斷通過縮短曝光波長的方式，提高極限解析度。
目前，光刻機光源波長由紫外寬譜逐步縮短至g線（436nm）、i線（365nm）、KrF（248nm）、 ArF（193nm）、F2（157nm），以及最先進的EUV(<13.5nm)線水平。
本次南大光電通過客戶認證的光刻膠，就是ArF光刻膠。
國元證券2019年1月研報截圖
南大光電錶示，ArF光刻膠材料可以用於90nm-14nm甚至7nm技術節點的集成電路製造工藝，廣泛應用於高端晶片製造（如邏輯晶片、 AI晶片、5G晶片、大容量存儲器和雲計算晶片等）。
認證評估報告顯示，「本次認證選擇客戶50nm快閃記憶體產品中的控制柵進行驗證，寧波南大光電的ArF光刻膠產品測試各項性能滿足工藝規格要求，良率結果達標。」
南大光電認為，本次通過客戶認證的產業化意義大。
「本次驗證使用的50nm快閃記憶體技術平臺，在特徵尺寸上，線製程工藝可以滿足45nm-90nm光刻需求，孔製程工藝可滿足65nm-90nm光刻需求，該工藝平臺的光刻膠在業界有代表性。」公告中稱。
至於為何選在50nm快閃記憶體產線驗證，南大光電內部人士向觀察者網表示，該公司產品分別在不同客戶處驗證，有邏輯有存儲的。因為存儲的先通過，就先公告，其他的還在努力中。
不過，該人士並未向觀察者網透露，公告中的客戶是國內或者國外廠商。
IC光刻流程圖
目前，全球光刻膠市場基本被美日大型企業壟斷，中國大陸內資企業所佔市場份額不足10%。
2019年，日韓貿易爭端中，日本就曾通過禁運光刻膠對整個韓國半導體行業造成打擊。
為支持國內企業加大光刻膠開發力度，2000年以來，我國出臺多項政策支持半導體行業發展。
2006年，國務院在《國家中長期科學和技術發展規劃綱要(2006-2020年)》中提出《極大規模集成電路製造技術及成套工藝》項目，因次序排在所列16個重大專項第二位，在業內被稱為「02專項」。
公告顯示，「ArF光刻膠產品開發和產業化」就是南大光電承接國家「02 專項」的一個重點攻關項目。
券商統計的信息顯示，南大光電2017年承接的ArF光刻膠項目總投資額為6.6億元，其中國撥資金1.9億元，地方配套資金1.97億元，使用上市時的超募資金1.5億元及其他自籌資金。
該項目擬通過3年達到年產25噸ArF乾式和浸沒式光刻膠產品的生產規模，預計達產後年銷售收入平均為1.48億元，實現淨利潤0.6億元，投資回收期6.8年（包含3年建設期），內部報酬率為18%。
截至今年上半年，光刻膠業務尚未給南大光電貢獻營收。
該公司在公告中表示，ArF光刻膠產品與客戶的產品銷售與服務協議尚在協商之中。
「尤其是ArF光刻膠的複雜性決定其在穩定量產階段仍然存在工藝上的諸多風險，不僅需要技術攻關，還需要在應用中進行工藝的改進、完善，這些都會決定ArF光刻膠的量產規模和經濟效益。」
深交所互動易截圖
最近三年淨利潤增速驟降
在ArF光刻膠貢獻收入前，南大光電營收來源主要包括MO源產品和特氣產品。
2020年半年報介紹，MO源系列產品是製備LED、新一代太陽能電池、相變存儲器、半導體雷射器、射頻集成電路晶片等的核心原材料，在半導體照明、信息通訊、航空航天等領域有極其重要的作用。
而電子特氣是「集成電路、平面顯示器件、化合物半導體器件、LED、太陽能電池、光纖等電子工業生產中必不可少的基礎和支撐性材料」。
今年5月，南大光電董事長兼總經理馮劍松在業績說明會上稱，該公司將力爭實現「MO源全球第一，電子特氣國內一流，193nm光刻膠成功產業化」。
上半年，南大光電特種氣體業務營收1.88億元，同比增長274.15%；MO源產品實現營收0.68億元，同比下滑23.55%；兩項業務佔比分別為71.73%、25.82%。
事實上，最近幾年，南大光電特種氣體業務持續增長。2017-2019年分別貢獻0.36億、0.78億、1.64億元的收入，營收佔比也從20.16%增長至51.82%。
與此同時，該公司的MO源業務並不太穩定，2018年產量和銷量均創歷史最好水平後，2019年該業務銷售收入下滑2.87%。
2017年以來，南大光電整體營收呈增長態勢，從1.77億元增長至2019年的3.21億元，淨利潤從3384萬元增長至5501萬元，但淨利潤增速從348%驟降至7.36%。
「i問財」截圖
扣除非經常性損益後，南大光電2017年-2019年的淨利潤分別為0.2億元、0.37億元、0.368億元。而登陸創業板之前的2011年，該公司還實現扣非淨利潤1.76億元，是去年扣非淨利的近5倍。
同期，南大光電研發投入分別為3844萬元、3735萬元、6585萬元，佔營收的比重分別為21.69%、16.37%、20.49%，佔淨利潤比重分別為114%、73%、120%。
今年前三季度，南大光電營收大幅增長96.15%，歸母淨利潤增長97%，但主要是出售北京科華股權等帶來的非經常性損益大幅增加。
當季，該公司扣非後淨利潤下滑84.84%，該公司稱主要是攤銷股權激勵成本、研發費用投入及獎金計提增加所致；經營活動產生的現金流量淨額同比下滑189.52%，主要是政府補助款較上年減少及本期撥付前期收到的項目經費給聯合單位所致。
三季度財報截圖
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