​《Science》:傳統手藝再創新!手撕膠帶也能撕出釐米級單層二維晶體

2021-01-16 高分子科學前沿

從2004年石墨烯的發現開始,二維材料的研究成為一個非常活躍的領域。對那些具有同質或者異質結構單層二維材料的研究有可能發現新的物理現象和量子材料。雖然這種單層二維材料具有很多特殊「本領」,如何大規模、高質量的生產宏觀尺寸的單層二維材料是這種材料商業化應用亟待解決的關鍵問題。液相剝離法可以進行規模化生產,但是只能得到幾個微米的材料,而且質量不高;化學氣相沉積製備的材料缺陷密度高,性能不佳。迄今為止,要想製備出高質量的單層二維材料,還得靠「祖傳」的膠帶法,其尺寸一般小於100 mm,材料屈服強度很低。為了大規模、高質量製備出大尺寸單層二維van der Waals晶體材料,哥倫比亞大學Xiaoyang Zhu教授課題組對傳統的手撕膠帶工藝進行了改進提出了一種金膜膠帶法,首先在膠帶上製備一層超平整的金膜,利用金膜與晶體材料之間的強大的van der Waals(vdW)力將塊狀晶體層層剝離為單層二維材料,這種方法製備的二維材料尺寸取決於塊狀晶體的尺寸,一般為毫米或者釐米級,收率接近100%。這一成果將單層二維材料的尺寸和收率提高了20~30倍。圖1. 層層剝離大尺寸單晶示意圖。(A)製備方法;(B)層層剝離示意圖;(C)從釐米尺寸WSe2單晶上連續剝離六層單層二維晶體材料。為了製備出大尺寸二維單晶,最關鍵的一步是製備出超級平坦的金膜,研究者在高度拋光的矽晶片表面蒸鍍一層金膜,用熱敏膠帶和聚乙烯吡咯烷酮(PVP)中間層將金膜剝離下來。這種超平整的金膜表面粗糙度達到原子級,與塊狀晶體表面之間接觸時會產生強大且均勻的vdW力,足以從塊狀晶體上層層剝離出單層二維晶體。撕下熱敏膠帶,洗掉PVP層,蝕刻掉金膜,就能得到具有宏觀尺寸(大小通常為毫米~釐米之間)的單層膜。製備的單層二維晶體尺寸取決於塊狀晶體的尺寸,也就是說塊狀晶體尺寸有多大,撕下來的單層二維晶體尺寸就有多大。研究者將剝離的單層二維晶體尺寸與塊狀晶體尺寸的面積比稱作剝離收率,發現這種方法的收率接近100%。而且這種方法適用面廣,可以剝離WS2、MoS2、WSe2、MoSe2、ReS2等多種晶體。圖2. 本文的方法與傳統膠帶法製備的單層材料光致發光譜和密度分布對比。為了證實新方法製備的多種單層二維晶體材料(WS2、MoS2、WSe2、MoSe2)的性能,研究者與傳統膠帶法製備的材料進行對比。發現新方法製備的材料性能與傳統方法製備的材料性能接近或者更好,兩種方法製備的MoS2和MoSe2單層二維晶體的光致發光譜(PL)幾乎相同,PL圖像直方圖顯示新方法製備的材料PL強度與傳統膠帶法的PL強度一致或更高。對於WS2和WSe2晶體,由於存在暗激子和多體態,這兩種方法的PL光譜比較複雜,但是新方法製備的材料總體PL強度與傳統膠帶法相當或更高。這些都說明新方法製備的大尺寸二維晶體材料質量與傳統方法不相上下。在製備出大尺寸單層二維晶體的基礎上,研究者將單層晶體進行人工堆疊,製備出超薄的具有非線性光學特性的材料。單層二維晶體具有天生的反演對稱性破缺,具有超強的非線性磁化率,反映在了其強烈的二次諧波產生(SHG)中。但是在塊狀晶體中相鄰層的晶體取向彼此反向對齊,SHG響應較小。研究者將得到的單層二維晶體重新堆疊成偶數(或奇數)的人工晶體,研究了人工堆疊1~5層的MoSe2人工晶體的SHG響應。發現在極薄的厚度下,材料的SHG響應取決於相鄰層的相長幹涉,接近二次光學響應的理想極限,由於在納米尺度上相位失配可以忽略,才實現了接近完美的相干增強。隨著人造晶體厚度的增加,相干響應可能達到20 nm。圖4. 宏觀MoSe2/WSe2異質雙層。(A)在SiO2/Si襯底上毫米級MoSe2/WSe2異質結構的光學圖像;(B)沿Γ–K方向測量的毫米級MoSe2/WSe2異質結構的ARPES圖;(C)h-BN包裹的MoSe2/WSe2異質雙分子層間激子的低溫(4 K)PL光譜。研究者將不同的單層二維單晶片層進行堆疊,得到了MoSe2/WSe2異質雙層結構,尺寸為4 mm,扭曲角為3.0±0.5°。發現在角度分辨光發射光譜圖(ARPES)中,晶體在Γ–K方向的ARPES譜與理論計算非常吻合,BN封裝的異質雙分子層低溫PL分析表現出電荷分離的層間激子的主要輻射複合,這與傳統膠帶法製備的MoSe2/WSe2異質雙分子層中的結果也非常吻合。新方法製備的異質雙層樣品中源於單層的層內激子被完全淬滅,說明了MoSe2/WSe2界面質量非常高。為了製備出大尺寸、高質量的單層二維晶體,哥倫比亞大學Xiaoyang Zhu教授課題組在傳統膠帶法的基礎上提出一種金膜膠帶法,利用原子級平整的金膜與塊狀晶體產生的強大而均勻的VdW力,實現了塊狀晶體的層層剝離,製備出大尺寸、高質量的單層二維晶體材料,宏觀尺寸達到微米~釐米級,收率接近100%,與傳統方法相比,新方法製備的材料尺寸和收率提高了20~30倍。PL分析發現,新方法製備的材料性能與傳統方法製備的材料性能接近或更好,通過單層二維晶體的人工堆疊,實現了超薄二維材料完美的光學響應。https://science.sciencemag.org/content/367/6480/903/tab-pdf

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來源:高分子科學前沿

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