晶片危機
2020年對於我們國內而言是艱難的一年,因為川普和美國對華為公司進行了嚴格的晶片封鎖,而這不僅僅是華為面臨的主要問題,更是國內晶片事業的一次危機!
大家都知道,國內的晶片事業相比於美國等發達國家來說不僅起步較晚,而且長期受到國外的技術封鎖和人才壟斷,這也直接導致了國內在晶片方面一直處於落後的水平,對晶片的進口存在著很大的依賴。
這次美國對華為的晶片封鎖更是無限放大了這一點,讓我們意識到國內要想實現技術自主還有很長的路要走。目前國內在這方面主要的薄弱點就是晶片的生產與封裝,這點也是華為現在最大的問題。
華為除了是我們熟知的手機廠商外,還是國內最大的半導體公司之一,它旗下的海思已經能夠獨立設計出高端的晶片了,在晶片設計上面,可以說華為已經追平了世界頂尖水平,但是華為最大的痛點就在於無法生產晶片。
那麼華為的晶片供應從哪來呢?之前臺積電一直是華為最主要的晶片供應商,基本掌握著華為高端晶片的命脈。也就是說,離開了臺積電,華為高端晶片的供應就無法得到保障,而限制臺積電為華為供應晶片正是美國這次晶片封鎖的主要手段。
很多人可能會問,華為怎麼不找國內大陸的晶片代工廠來合作呢?為什麼非要拘泥於臺積電呢?其實華為也有考慮過這點,但是目前國內的晶片代工廠實在是難堪大任!
國內最先進的晶片代工廠是中芯國際,目前快要達到量產7nm工藝晶片的技術,而華為下一代的晶片採用的是5nm水平,光是這點中芯國際就很難企及了。而臺積電已經觸摸到3nm晶片的門檻了,可見中芯國際和臺積電的差距是非常巨大的!
差距並非光刻機
這個時候可能又有人會問了,為什麼中芯國際和臺積電差距這麼大呢?是不是因為臺積電有高端光刻機而中芯國際沒有呢?
誠然,光刻機的差距是我們必須正視的一個問題,因為沒有高端光刻機就無法生產出高端工藝水平的晶片。目前臺積電從ASML公司進口了兩臺最先進的EUV光刻機用於5nm晶片的生產,而中芯國際在這方面還是空白。
所以說光刻機是臺積電和中芯國際拉開差距的主要因素之一,但是最主要的差距並不在於此,也就是說中芯國際和臺積電的差距並非在與光刻機!
美籍華人院士吐露真相
既然中芯國際和臺積電的差距並不在於光刻機,那麼究竟是什麼因素導致了臺積電領先了這麼多呢?近日,美籍華人院士馬佐平針對這一問題發表了自己的觀點,他認為中芯國際的主要差距在與人才的數量和質量。
據馬院士介紹,臺積電作為世界上最大的晶片代工廠擁有數以萬計的專業技術人才,而中芯國際在國內只有寥寥三四百的人才骨幹,並且人才質量還無法勝出。這樣一來,臺積電想要和中芯國際拉開差距自然就是輕而易舉的事了。
所以說,技術和設備的落後並不可怕,可怕的是缺少相關的人才,只要人才的數量和質量都提上去了,攻克技術和設備的問題就不是那麼困難了。
總結
雖然專家的話一向都很不靠譜,但是馬院士這次針對國內晶片危機發表的看法無疑是很有道理的,因為人才的缺失一直都是國內晶片事業的主要問題。希望國內以後能針對這個問題作出合理的舉措,讓更多的人才願意投入到晶片研究這份事業中!
對於馬佐平院士的話,你們怎麼看呢?你們認同他的觀點嗎?