一視同仁？還真信了你的「邪」。
近日，第三屆進口博覽會上，全球最著名的光刻機製造公司ASML（阿斯麥）展示了最新研發可生產7nm晶片的DUV光刻機，但是卻始終不見高端光刻機EUV的身影，著實令人指望。
之前ASML公司表態稱：將對全球客戶一視同仁，可如今的態度，明顯還將繼續禁止國內光刻機進口，封鎖高端晶片製造技術。
科普一下，市面上的光刻機主要分為DUV和EUV兩種，而此次進博會ASML帶來的DUV光刻機是中低端晶片的製造設備。並且它最大的缺點就是成本偏高和良品率不好把控。
而EUV才是高端晶片製造設備，臺積電，三星，高通，都將EUV作為製造晶片的首選。大家熟知的5nm工藝晶片，麒麟9000，高通驍龍875，都是由EUV製造而成的，而EUV恰恰是國內急需的晶片製造核心設備，而多年以來國內晶片未有突破，也是因為EUV是被禁止出口國內的。
高端產品全面封鎖，低端產品卻向國內大肆傾銷，ASML的「一視同仁」著實令人心寒。此前外媒也表示就算是給了中國晶片商最好的光刻機，中國也依然無法製造出最新的、最頂尖的晶片。
這是事實，雖然短期內確實無法突破晶片技術的瓶頸，但也並不意味著我們會一直被動挨打，如今全國的科技企業都在專注於晶片產業的研發，說是「舉國之力」也毫不誇張。
當然也有好消息傳來。近日中芯國際宣布，基於FinFET N+1工藝的晶片終於完成，並一次通過測試。根據測試數據顯示FinFET N+1工藝功率和穩定性方面已經與7nm晶片相差無幾，對比此前的14nm工藝，性能提升20%，功耗降低57%，並且完全不需要EUV光刻機，所有核心技術均由國產自主研發。
這也意味著國內晶片產業成功突破了技術封鎖，邁出高端晶片製造從0到1的歷史性一步。雖然FinFET N+1距離5nm技術還有一段不小的差距，但至少我們邁進了高端晶片自主製造的大門，而「中國芯」也將不再是夢想。
我們擁有全球最大的市場，擁有最忠實的消費者，但卻總是被國外豪強扼住咽喉。而且一切的癥結，就是核心技術的缺失。華為的折戟海外，被晶片封鎖，讓我們的困境瞬間放大無數倍，別人一句話就能完全扼制我們發展，甚至能決定一個品牌的生死。同時也深刻的認識到了，缺乏核心技術支撐，縱使有再高的銷量也只是「卑微的打工仔」而已。
與其渴求ASML的光刻機，不如國內企業攜手並肩共同攻克難題，為了手機屏幕突破技術桎梏，京東方花了14年，耗資3000億，如今終於成長為超越三星的屏幕巨頭。而歷史也不止一次的證實了，在尖端技術的追求上，我們向來不惜成本，終有一天，我們會依靠自主研發敲開高端晶片的大門，而那時將是ASML，三星的末日。