隨著科技的迅速發展，信息化的時代走進人們的生活，人們越來越依賴電子產品，甚至可以說是生活的必需品，而構成這些電子產品的核心就是晶片。
目前5nm晶片生產工藝，臺積電和三星今年就要開始量產，中國的晶片製造工藝還一直處於追趕的狀態。
中芯國際作為我國最大的晶圓代工廠，自去年年底已經量產14納米工藝，該工藝帶來了1%的營收，760萬美元的收入，可謂是取得了很不錯的成績。
據了解，中芯國際的12nm的改進版和已經量產的14nm工藝技術，兩者都是該公司是第一代Fin FET工藝。
像N+1、N+2Fin FET這樣先進的工藝也在加緊研發中，前者相當於7nm的低功耗版，後者則是7nm工藝的高性能版。
關鍵點是：沒有高端EUV光刻機的中芯國際，7nm工藝拿什麼生產、何時能量產？
最新消息稱，在7nm工藝技術上，在今年第四季度中芯國際將實現小規模生產，，而這個消息比之前的爆料要好了很多，進度更快。
可是前不久全球唯一一家能夠生產EUV光刻機的荷蘭ASML，因受美國的壓力而無法無期，無法向中芯國際交付EUV光刻機。
看到這裡不懂晶片製造的小夥伴可能會有疑問：沒有EUV光刻機怎麼還能實現7nm工藝？
根據中芯國際聯席CEO梁孟松表示，在當前的環境下，對於N+1、N+2代工藝，EUV工藝不會使用到這兩項工藝上。等相關設備到齊以後，可能會在N+2工藝上採用EUV技術，但是N+2工藝的光罩只進行幾層，而大規模向EUV光刻技術轉型這樣的進展，在之後更先進的工藝中才會進行。
在7nm工藝節點上，已經發展了3種類型，其中N7與N7P製造工藝可以不採用EUV光刻技術，而N7+工藝才會使用EUV工藝技術，不過就算使用EUV技術，其光罩層數也非常少。
在5nm工藝節點上，EUV光刻技術就得到了充分的利用，且光罩層數可達到14層之多，屬業界較高的技術水平。
根據梁孟松的表示，中芯國際7nm工藝技術的發展路線與臺積電相差不大，雖然現在差距很大，但是現在也已經能夠量產14nm晶片了。
其實對工藝要求沒有太高的產品可以考慮中芯國際，這也是華為在晶片困難時期，把海思一部分14nm晶片訂單交給中芯國際代工。
那麼我們有沒有想過，這背後到底發生了什麼，為什麼中芯國際能夠在這麼短的時間取得如此大的突破？
要知道，中國半導體的龍頭企業非中芯國際莫屬，從2000年建立以來，這一路上沒少吃苦頭，期間發生千變萬化的局勢更是令人頭昏眼花。開業十餘年虧了九年，技術專利訴訟，CEO替換、創始人出局、派系鬥爭等等，中國半導體產業都寄託於這家公司，曾經是多麼狼狽不堪。
中芯國際前期的發展除了張汝京和邱慈雲等人外，這位半導體人才梁孟松，短短298天時間，就攻克了14nm工藝技術的難關，而且還將該工藝良產率提升至95%。
曾經梁孟松在臺積電的研發技術創新這一塊，排在前十位的頂尖人才，由於差別待遇，在2009年離開臺積電。過後半年左右，三星將梁孟松招入門下，而三星當時處於28nm工藝向20nm工藝發展的一個過程，此時梁孟松提議直接研發14nm工藝，直接跨越了20nm與16nm這道門檻，這其中的技術難度可想而知！
在半導體領域梁孟松是頂尖的人才，加上此前在臺積電豐富的研發經驗，把14nm研發問世後，整整領先臺積電半年之久。
為此三星搶走臺積電蘋果公司A9處理器的訂單，高通一大半訂單也向三星靠攏。這徹底惹怒了臺積電，直接控告梁孟松授予臺積電研發技術秘密給三星的罪名，最終法院宣判梁孟松在2015年12月30日之前，不得以任職或者其他形式繼續為三星提供服務。而且限制期結束後，也不允許到臺積電的競爭對手工作。
三星的合同期滿結束後，梁孟松便接收到了中芯國際的邀請，梁孟松經過三家換門的坎坷經歷後，於2017年10月加入中芯國際。
隨著梁孟松的加入，中芯國際是否會在短時間內躋身世界一流水平，做到當初三星跨域性的成就？
其實想趕上臺積電和三星還是非常困難的，首先中興國際如果像當初三星那樣跳躍性地突飛猛進，是否會引來三星的起訴，再次重演臺積電對梁孟松控告的事件，這些都是不確定的。
其次，由於《瓦森納協議》規定中，發達國家不能將某些高精端的技術設備出口給中國，中芯國際很難買到最先進的光刻機來生產晶圓。想要搞好半導體，無非兩樣東西：錢和人才！中國早期發展半導體可以說是，靠著張汝京、蔣尚義等一批半導體專家從0到1走出來的。
但是人才短缺的問題也一直伴隨著，與半導體的日夜輪班研發相比，更多人選擇如今快速發展，且光鮮亮麗的網際網路行業，或者是一些其他的行業，最終結果會怎麼樣？正所謂一將難求，千軍難道！這個短板是時候要補齊了。