中國半導體行業起步較晚，很多技術都是源自海外，尤其是10nm製程以下工藝，就非常依賴海外AMSL光刻機技術。作為國產晶片巨頭，中芯國際本有望在去年就引入ASML Euv光刻機，但因為特殊原因被叫停了，如今ASML官方只為中國用戶供貨EDV光刻機，這顯然是無法滿足國產手機的發展需求的！就拿麒麟9000和蘋果A14晶片來說，其工藝達到了5nm，目前只有臺積電可以為其代工晶片業務，高通、聯發科等只是負責晶片設計！
種種跡象表明，要想強大中國的晶片製造領域，光刻機可以說是重中之重。晶片作為科技產業的技術制高點，全球掌握晶片製造技術國家不到10個，中芯國際已經攻下14nm工藝製程，其代工的晶片已經可以滿足國內70%以上的市場需求了，但國產光刻機技術還是頗為落後的，和ASML之間還有很大差距。光刻機技術很難被攻破，更不可能被「山寨」，光是調光刻機中的一個小零件就花了整整十年的時間去調試。
儘管如此，中國半導體公司還是沒有放棄前進的腳步，也是逐漸打破海外技術壟斷。作為光刻機的三大核心子系統，投影物鏡、工件臺以及光源顯得格外重要。早在2001年荷蘭ASML就推出了雙工件臺系統，極大程度提升了晶片製造的效率，該技術一度被海外企業壟斷，但根據華卓精科官網顯示，其生產的光刻機雙工件臺已經打破了ASML公司的技術壟斷，成為全球第二家掌握雙工件臺核心技術的公司，對國產光刻機具有極大的推進作用。
影響光刻機性能的兩大核心部件，一個是EUV曝光系統，其它一個就是雙工臺，雖說中國在Euv光刻機製造領域較為落後，但在工件臺領域卻走在世界前面。在2000年前，光刻設備只有一個工件臺，到了2001年荷蘭推出了Twinscan雙工件臺系統，光刻機能在一個功工件臺上就完成曝光晶圓片，大大簡化了流程，生產效率提升了35%！較單工臺設備每小時80片的效率來說，雙工件臺的生產速度高達每小時270片~300片。
在意識到了ASML雙工臺技術的領先優勢之後，國產科技公司也開始研發這項精密儀器，並且在該領域取得成績！清華大學機械工程系教授朱煜牽頭作用下，華卓精科公司的光刻機雙工臺件宣布研發成功，中國打破ASML技術壟斷。報導消息顯示，圍該項目組「完成專利申請231項（其中國際發明專利41項），已獲得授權122項，成為世界上第二家掌握雙工件臺核心技術的公司。到了2021年，華卓精科將會會推出可用於浸沒式28nm光刻機的DWSi系統雙工件臺。
據了解，華卓精科雙工件臺廣泛被上海微電子採用，後者恰恰是國產光刻機巨頭。作為晶片製造業的精密儀器，華卓精科雙工件臺的一臺設備售價高達6000萬，對中國半導體產業來說，其背後的價值遠遠高於價格本身。目前，上海微電子已經成功研究了22nm光刻機，和ASML的Euv光刻機還是有一定的差距，但可以滿足部分晶片的製造需求，另外，中芯國際已經開始量產14nm了，成為了全球第五的晶圓廠！
在中芯國際、上海微電子和華卓精科的努力之下， 中國已經逐漸打破外國巨頭的壟斷局面，在光刻機雙工臺技術領域無懼ASML斷供，對此你們作何評價？