北方華創刻蝕機 1000 腔順利交付:12 英寸已實現客戶端 28nm 國產...

2021-01-20 IT之家

IT之家 12 月 11 日消息 據北方華創官方發布, 12 月 1 日,北方華創 lCP 刻蝕機 1000 腔交付儀式在亦莊基地隆重舉行。

IT之家獲悉,北方華創公司於 2001 年成立,開始組建團隊鑽研刻蝕技術,2004 年首臺設備實現成功起輝,2005 年第一臺 8 英寸 ICP 刻蝕機在客戶端上線,並於 2007 年獲得國家科學技術進步二等獎。

在集成電路領域獲得突破的同時,北方華創在積極將刻蝕技術橫向拓展,目前應用領域已覆蓋集成電路、LED、先進封裝、功率半導體、MEMS、化合物半導體、矽基微顯等多個領域。12 英寸 ICP 刻蝕機在實現客戶端 28nm 國產化替代同時,在 14/7nm SADP/SAQP、先進存儲器、3D TSV 等工藝應用中也發揮著重要作用。

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    其中有代表性的是上海中微半導體公司和北京的北方華創科技公司。他們在國產刻蝕機設備技術突破方面有重要的貢獻。在2017年,中微半導體研發的7nm等離子體刻蝕機已經在國際一流的集成電路生產線上量產使用,而2019年12月,中微半導體CEO尹志堯也曾透露,他們5nm蝕刻機已經得到了臺積電認可,將用於臺積電5nm晶片的產線。
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  • 中國半導體行業龍頭企業北方華創未來發展分析
    這三個項目分別是: "14nm立體柵等離子體刻蝕機研發及產業化"項目,經費資金9423萬元; "28-14nm原子層沉積系統(ALD)產品研發及產業化" 項目,經費資金4811萬元; "14-7nm CuBS多工藝腔室集成裝備研發及產業化"項目,經費資金4746萬元; 事實上,這三個項目的研發總經費分別是12.35億元、5.51
  • 國內刻蝕機供應商崛起有望
    (2)技術上,國內公司奮力趕超,在先進位造工藝上已與國外公司站在同樣起跑線上。中微半導體在介質刻蝕領域一騎絕塵,7nm製程已實現量產,並成功進入臺積電產線;5nm製程正在研發,有望在該領域彎道超車;電容型介質刻蝕設備已進入全球前三。同時其已切入TSV矽通孔刻蝕設備和金屬硬掩膜刻蝕設備。其8英寸和12英寸設備國內市佔率超過50%。
  • 國內最具優勢的半導體設備——刻蝕機的突圍
    來源:每日財報作者:劉雨辰如果目前在光刻機領域我們還無力做出改變,那麼已經佔據優勢的刻蝕機領域勢必會成為國產替代的先鋒  近期關於華為已經沒有晶片的信息被外界熱議,國產晶片的發展前途也再次成為熱點。目前普遍採用多重模板工藝原理,即通過多次沉積、刻蝕等工藝,實現10nm 線寬的製程。根據相關數據,14nm製程所需使用的刻蝕步驟達到64次,較 28nm提升60%;7nm製程所需刻蝕步驟更是高達140次,較14nm提升118%,這就直接增加了刻蝕工藝的資本支出。
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    2020年11月25日,北方華創(002371)自主研發的真空超導材料熱處理設備順利完成客戶驗證,該產品作為超導加速腔鈮三錫材料(Nb3Sn)鍍膜工藝的關鍵設備,是繼特大型真空排氣臺後,北方華創在大科學裝置方面取得的又一重大進展。
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    北方華創:公司刻蝕機、PVD、CVD、清洗設備、立式爐五大類產品均在國內主流生產線上獲得批量應用 2020-05-13 16:25:02   同花順(300033)金融研究中心5月13日訊,有投資者向北方華創