分子束外延(MBE)技術是指在超高真空條件下,一種或幾種組分的熱原子束或分子束噴射到加熱的襯底表面,與襯底表面反應,沉積生成薄膜單晶的外延工藝。到達襯底表面的組分元素與襯底表面不但要發生物理變化(遷移、 吸附和脫附等),還要發生化學變化(分解、化合等),最後利用化學性能與襯底結合成為緻密的化合物。
分子束外延的晶體生長速度慢(約1um/h),生長溫度低,可隨意改變外延層的組分和進行摻雜,可在原子尺度範圍內精確地控制外延層的厚度、異質結界面的平整度和摻雜分布。目前已發展到能一個原子層接一個原子層精確地控制生長的水平。
分子束外延是製備半導體多層單晶薄膜的外延技術,現在已擴展到金屬、絕緣介質等多種材料體系,成為現代外延生長技術的重要組成部分。
分子束外延也是目前生長半導體晶體、半導體超晶格的關鍵設備,所用的原料純度非常高。可以製備:III-V族化合物半導體GaAs/AlGaAs;IV族元素半導體Si、Ge;II-VI族化合物半導體ZnS, ZnSe等。
Alfa Aesar為MBE設備提供全套純元素蒸發源,單質純度及物料形態多種可選,例如:
貨號
產品描述
038624
鍶, 蒸餾枝形片狀 99.95%
044037
鈰棒, 6.35mm (0.25in) 直徑, 99.9% (去除 Ta)
011009
錫粒, 3mm (0.1in), Puratronic®, 99.9999%
040292
鑭棒, 6.35mm (0.25in) 直徑, 99.9% (REO)
000428
銻粒, 1.5-5mm (0.06-0.2in), Puratronic®, 99.9999%
036208
硒粉, -200 目, 99.999%
042388
鈦柱, 6.35mm (0.25in) 直徑 x 6.35mm (0.25in) 長, 99.98%
042333
鎳柱, 3.175mm (0.125in) 直徑 x 3.175mm (0.125in) 長, Puratronic®, 99.995%
012134
硼片, 晶狀,20mm (0.8in)或更小, 99.5%
011442
鐵棒, 5mm (0.2in) 直徑, Puratronic®, 99.995%
010351
鉭箔, 0.025mm (0.001in) 厚, 硬質, 99.95%
010046
鉬箔, 1.0mm (0.04in) 厚, 99.95%
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