Particular最後整體變化及能見度參數，在簡單的說說，簡紹完這兩個板塊，這款插件大部分參數，朋友們應該大致有一個認識了，如果需要中文版插件或者有其他疑問歡迎你給我留言，我會一一回復，後期呢，等我以視頻和文字形式來一起學習AE 的基礎後，再會回過頭來講解其他粒子插件 和 牛頓流體 光效插件 表達式 。在每天更新AE同時，我會另外開始開展c4d基礎學習交流，和每天一個案例分析，不知道能不能忙得過來。有喜歡的朋友就給個關注吧，讓我們一起交流進步，謝謝
「整體變化」這個版塊下大致就是對粒子XYZ位置整體的偏移和XZY三軸的一個整體旋轉，這個參數是粒子的整體變化，並不會移動圖層位置和發射器中心點，相反它是基於發射器的中心點的一種偏移，參數很簡單，看圖就知道了，這裡就不嘮叨了。
「能見度」簡單的來講就是粒子在一個空間範圍內的可見性，「遠端消失」表示粒子在Z軸的遠處多少位置時就完全看不到。「遠處開始消失」表示從Z軸那個位置就開始消失直到 到「遠端消失」的Z軸位置完全消失，一般這個參數是起到一個類似於透明度的漸變，從「遠處開始消失」到「遠處消失」的一個透明度為零的過程，一般「遠處消失」這個參數數值要大於「遠處開始消失」的參數值。
「近端消失」這個參數你可以這樣理解，Z軸位置從0到正數，0你若是理解為近端，那麼大於0的正數方向則為遠端，所以近端消失表示在靠近0或者等於0的位置消失，這裡的消失是指看不到，而並非沒有了，所以「近端消失」要小於「近端開始消失」的值，這樣會有一個跟遠端消失到遠端開始消失一樣的漸變過渡。 自己要想驗證而清楚看到效果，開始在發射器類型設置為網格，發射器下的「速率」設置為零，調整XYZ發射器的尺寸和XYZ粒子的數量，然後按上面講的去操作就能清楚看到效果，加深你對這兩組參數的理解。
「遠處近處曲線」表示消失方式是一個線性還是一個平滑的設置，類似線性過度或者平度過度的方式吧。最後講下最重要的一點「陰暗來源圖層」為了你們理解，比方的講Z軸粒子很多很長，中間有一個三維圖層的Z軸在粒子遠端和近端之間，但是承載粒子的圖層在這個三維層序列的上面，所以不管怎麼看粒子始終在這個圖層上面，並沒有形成假三維的遮擋關係，這個時候我們需要在「陰暗來源圖層」中設置這個三維層，然後在「陰暗隱藏方式」參數中選擇地面或者牆面，這樣粒子與這個三維圖層之間形成一個良好的三維遮擋關係，這個參數還有更好的使用方式，配合C4D可以做出十分優秀的效果，下次我講完基礎教程，回過頭講粒子時在以視頻案例形式好好詳細的講下。