自雷射器發明以來,人們就一直致力於通過原子能級躍遷來獲得更短的雷射波長。X射線自由電子雷射的出現為原子X射線雷射的產生提供了很好的泵浦源。文中應用X射線自由電子雷射來電離原子內K殼層電子,從而實現了原子能級間的粒子數反轉,並且獲得了波長為1.46nm(對應於849eV的單光子能量)的氖離子Kα受激輻射光。本實驗中所得到的原子X射線雷射脈衝,無論是在更短波長還是更高強度等方面,都優於以往所見報導的實驗成果。另外與X射線自由電子雷射相比,該原子X射線雷射具有更為優越的單色性、波長穩定性和時間相干性。該原子X射線雷射可以被應用於高分辨光譜學和X射線非線性光學等領域內。
實驗裝置如下圖(a)中所示,由直線電子加速器相干光源(LCLS)輸出的X射線自由電子雷射(XFEL)單光子能量為960eV。X射線脈衝被聚焦至壓強約為500torr的氖氣中,焦斑半徑為1~2μm。單脈衝能量為0.02~0.27mJ,而脈衝寬度為40~80fs,於是聚焦後的光場強度可以達到2×10^17Wcm^-2。
光柵光譜儀探測結果如圖(b)中所示,其中較寬偏暗的譜線為透過的X射線自由電子雷射。而比較亮的細譜線則為部分氖離子的Kα輻射光,其單光子能量為849eV。其產生機理如圖(c)所示,由於K殼層電子的光電離,在兩能級間實現了粒子數反轉,從而使Kα受激輻射光放大成為可能。
上圖三次實驗結果所用入射脈衝能量均約為0.25mJ,而入射單光子能量略有變化。透射的X射線自由電子雷射與Kα受激輻射光的衰減因子分別為2.5×10^3和2。 由於受到光譜儀解析度的限制,測得Kα輻射光譜的半高全寬約為2eV。Kα輻射主譜峰兩邊伴生的旁瓣很可能是由光譜儀光柵產生的鬼線。