高純/超高純靶材是實現濺射鍍膜的關鍵。主流PVD鍍膜技術主要包括濺射鍍膜及真空蒸鍍，其中濺射鍍膜主要用於大面積基板材料鍍膜，蒸發鍍膜主要用於小尺寸基板材料鍍膜，靶材是實現PVD鍍膜的關鍵，並且靶材的純度直接決定了最終的電子器件或光學元器件的質量和性能，因此提純及純度控制是靶材製造的關鍵，一般要求高純度、高緻密度、成分與組織結構均勻、晶粒尺寸細小，目前濺射靶材產品純度一般4-6N。
上遊高純金屬材料長期壟斷在美日德企業，國內廠商正努力尋求突破。高純濺射靶材是隨半導體產業的發展而興起，美、日企業對核心技術嚴密把控，掌握行業主導權，並且全球半導體工業的區域集聚性造就了濺射靶材企業的聚集度同樣較高。下遊領域包括半導體、平板顯示、太陽能LOW-E玻璃等，全球靶材市場規模呈現快速成長的勢頭。濺射靶材行業受益於下遊如平板顯示器、半導體、太陽能電池、光磁記錄媒體、光學元器件等快速發展，2016年全球濺射靶材市場規模約113.6億美元，到2019年將超過163億美元，CAGR達13%。
由於長期依賴進口，靶材生產國產化需求日益迫切，將加速本土化發展，國家產業投資基金、各項政策支持，半導體產業鏈包括材料等都將取得快速進步，並且目前材料國產化率較低，從國家意志層面也有迫切實現國產化的需求。近年來國內面板、半導體產業發展迅速，國內企業在江豐電子、阿石創等企業的努力下，在靶材生產技術及市場方面均取得了突破，已有國內龍頭企業打入核心客戶產業鏈中。
投資建議：隨著此類新興材料公司的不斷上市，濺射靶材領域重點關注江豐電子(國內最大的半導體晶片用濺射靶材生產商，實現從0到1突破)及阿石創(綜合型PVD鍍膜材料廠商)，關注有研新材(有研億金：國內規模最大的金屬靶材產業基地，多次參與國家項目)、隆華節能(四豐電子、晶聯光電：鉬靶材、ITO靶材國內龍頭企業)。