半導體材料國產化進程加速,高純靶材企業迎機遇

　　投資要點

　　√高純/超高純靶材是實現濺射鍍膜的關鍵。目前主流的PVD鍍膜技術主要包括濺射鍍膜及真空蒸鍍，其中濺射鍍膜主要用於大面積基板材料鍍膜，蒸發鍍膜主要用於小尺寸基板材料鍍膜，濺射靶材及蒸鍍靶材是實現PVD鍍膜的關鍵。PVD鍍膜的應用領域廣泛，並且靶材的純度直接決定了最終的電子器件或光學元器件的質量和性能，因此提純及純度控制是靶材製造的關鍵，一般要求高純度、高緻密度、成分與組織結構均勻、晶粒尺寸細小，目前濺射靶材產品純度一般99.99%-99.9999%（即4-6N）。

　　√上遊高純金屬材料長期壟斷在美日德企業，國內廠商正努力尋求突破。產業鏈各環節參與企業數量基本呈金字塔型分布，具有一定的區域特性，上遊高純金屬行業集中於美日德，具有較強的議價能力，主導產業發展。高純濺射靶材是隨半導體產業的發展而興起，美、日企業對核心技術嚴密把控，掌握著行業主導權，並且全球半導體工業的區域集聚性造就了濺射靶材企業的聚集度同樣較高。

　　√下遊領域包括半導體、平板顯示、太陽能LOW-E玻璃等，全球靶材市場規模呈現快速成長的勢頭。濺射靶材行業受益於下遊如平板顯示器、半導體、太陽能電池、光磁記錄媒體、光學元器件等快速發展，2016年全球濺射靶材市場規模約為113.6億美元，其中平板顯示（含觸控屏）用靶材為38.1億美元、半導體用靶材11.9億美元、太陽能電池用靶材23.4億美元、記錄媒體靶材33.5億美元；到2019年，全球濺射靶材市場規模將超過163億美元，年複合增長率達13%。

　　√由於長期依賴進口，靶材生產國產化需求日益迫切，將加速本土化發展，國家產業投資基金、各項政策支持，半導體產業鏈包括材料等都將取得快速進步，並且目前材料國產化率較低，從國家意志層面也有迫切實現國產化的需求。近年來國內面板、半導體產業發展迅速，國內企業在江豐電子、阿石創等企業的努力下，在靶材生產技術及市場方面均取得了突破，已有國內龍頭企業打入核心客戶產業鏈中。

　　√投資建議：濺投射靶材行業作為重點鼓勵發展的戰略性新興產業，近年來國家出臺了一系列產業政策引導濺射靶材工業健康穩定發展。「十三五」提出，到2020年重大關鍵材料自給率達到70%以上，初步實現我國從材料大國向材料強國的戰略性轉變。隨著此類新興材料公司的不斷上市，濺射靶材領域重點關注江豐電子（國內最大的半導體晶片用濺射靶材生產商，實現從0到1突破）及阿石創（綜合型PVD鍍膜材料廠商），關注有研新材（子公司有研億金：國內規模最大的金屬靶材產業基地，多次參與國家項目）、隆華節能（子公司四豐電子、晶聯光電：鉬靶材、ITO靶材國內龍頭企業）。

　　投資案件

　　關鍵假設點

　　政府的政策支持在集成電路產業的發展中起到決定作用，半導體產業的發展是蘊含著國家意志在裡面的，大基金一期成立三年投資了接近60個項目，涵蓋整個集成電路的產業鏈，材料必然成為大基金後續布局的重要方向。超高純靶材主要在半導體及面板領域使用，也是我國企業需要重點突破的領域。近年來國內優秀企業已經進入國際/國內核心客戶供應鏈中，未來將逐步提升國產材料的使用比例，加速國產化進程。

　　有別於大眾的認識

　　全球面板及半導體工業的區域集聚性造就了濺射靶材企業的聚集度同樣較高。國內企業突破日美壟斷是必然趨勢，難點在於1、高純度金屬被海外企業壟斷，2、靶材製造具有較高的技術壁壘，3、客戶認證難度大、周期長，因此行業內公司具有非常高的稀缺性及較強的護城河。國內面板行業及半導體產業的發展都進入到了拐點階段，後續加強材料的自主化率及國產化率是必然進程，靶材在這兩個產業中雖然用量佔比較低，但是靶材的質量卻決定了最終產品的質量及性能。因此國內企業突破上述難點後，業績爆發指日可待。

　　核心假設風險

　　1、現有濺射靶材廠商加大投入力度，或有新的競爭對手進入，會導致市場競爭加劇、利潤水平下滑；

　　2、新產品、新技術研發失敗，或對相關產品、技術的市場發展趨勢錯誤判斷，收益未達預期；

　　3、下遊應用市場下滑，市場需求萎縮。

　　PVD鍍膜是薄膜材料製備的主流技術，關鍵在於靶材，產品可分為濺射靶材及蒸鍍靶材，其中濺射靶材可用於大面積基板材料鍍膜，蒸鍍靶材主要用於小尺寸基板材料鍍膜。PVD鍍膜下遊領域廣泛，主要包括平板顯示、半導體、太陽能電池、光磁記錄媒體、光學元器件等。濺射靶材是各類薄膜材料的關鍵材料，應用領域廣泛，種類繁多，其純度、密度、品質等對最終的電子器件或光學元器件的質量和性能起著重要作用，目前濺射靶材產品純度一般在99.99%-99.9999%（即4-6N）。上遊材料長期壟斷在美日德企業，國內廠商正努力尋求突破。

　　1. 濺射靶材行業基本情況

　　1.1濺射鍍膜是PVD鍍膜的主要形式，關鍵在靶材

　　薄膜製備技術主要包括物理氣相沉積（PVD）技術和化學氣相沉積（CVD）技術。PVD技術指在真空條件下採用物理方法，將某種物質表面氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子，並通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基板材料表面沉積具有某種特殊功能的薄膜材料的技術。

　　PVD技術已成為主流，主要包括濺射鍍膜和真空蒸發鍍膜。濺射鍍膜是指利用離子源產生的離子，在真空中經過加速聚集，而形成高速度的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發生動能交換，使固體表面的原子離開固體並沉積在基板材料表面的技術。被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜材料的原材料，稱為濺射靶材。

　　濺射靶材主要由靶坯、背板(或背管)等部分構成，種類頗多。其中，靶坯是高速離子束流轟擊的目標材料，屬於濺射靶材的核心部分，在濺射鍍膜過程中，靶坯被離子撞擊後，其表面原子被濺射飛散出來並沉積於基板上製成薄膜材料；由於濺射靶材需要安裝在專用的設備內完成濺射過程，設備內部為高電壓、高真空的工作環境，多數靶坯的材質較軟或者高脆性，不適合直接安裝在設備內使用，因此，需與背板(或背管)綁定，背板(或背管)主要起到固定濺射靶材的作用，且具備良好的導電、導熱性能。靶材是磁控濺射過程中的基本耗材，不僅使用量大，而且靶材質量的好壞對金屬薄膜的性能起著至關重要的決定作用， 因此，靶材是磁控濺射過程的關鍵材料。

　　濺射鍍膜技術被公認為起源於1842 年Grove 在實驗室發現的陰極濺射現象，具有可重複性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所製備的薄膜具有純度高、緻密性好、與基板材料的結合力強等優點，已成為製備薄膜材料的主要技術之一，各種類型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應用。因此，濺射靶材這一具有高附加值的功能材料， 在巨大市場需求的拉動下已成為目前市場應用量最大的 PVD 鍍膜材料，全球各靶材廠商正在不斷探索和完善靶材製備技術，研發新的高品質濺射靶材。

　　真空蒸發鍍膜是指在真空條件下，利用膜材加熱裝置(稱為蒸發源)的熱能， 通過加熱蒸發某種物質使其沉積在基板材料表面的一種沉積技術。被蒸發的物質是用真空蒸發鍍膜法沉積薄膜材料的原材料，稱之為蒸鍍材料。根據化學成分的不同，蒸鍍材料可以劃分為金屬及非金屬顆粒、氧化物、氯化物等。

　　真空蒸發鍍膜系統一般由三個部分組成:真空室、蒸發源或蒸發加熱裝置、放置基板及給基板加熱裝置。在真空中為了蒸發待沉積的材料，需要容器來支撐或盛裝蒸發物，同時需要提供蒸發熱使蒸發物達到足夠高的溫度以產生所需的蒸汽壓。

　　真空蒸發鍍膜技術起源於1857年法拉第首次使金屬在真空中蒸發成膜，具有簡單便利、操作方便、成膜速度快等特點，是真空鍍膜技術中開發時間最早，應用領域最廣的一種薄膜沉積方法，主要應用於小尺寸基板材料的鍍膜，如光學元器件、LED、平板顯示和半導體分離器等。

　　1.2 「提純」是靶材製造的關鍵，難點在於控制純度

　　濺射靶材的製備技術方法按生產工藝可分為熔融鑄造法和粉末冶金法兩大類。在靶材製備過程中，除嚴格控制材料純度、緻密度、晶粒度以及結晶取向之外，對熱處理工藝條件、後續成型加工過程也需加以嚴格控制，以保證靶材的質量。

　　熔融鑄造法是將一定成分配比的合金原料熔煉, 再將合金熔液澆注於模具中, 形成鑄錠, 最後經機械加工製成靶材。鑄造法在真空中熔煉、鑄造。常用的熔煉方法有真空感應熔煉、真空電弧熔煉和真空電子轟擊熔煉等。其優點是靶材雜質含量(特別是氣體雜質含量)低, 密度高, 可大型化等;缺點是需要後續加工和熱處理工藝降低其孔隙率，以及對熔點和密度相差較大的多種金屬合金靶材、難容金屬靶材、無機非金屬靶材、複合金屬靶材，普通熔煉法難以獲得成分均勻的合金靶材。

　　粉末冶金法是將一定成分配比的合金原料熔煉, 澆注成鑄錠後再粉碎, 將粉碎形成的粉末經等靜壓成形, 再高溫燒結, 最終形成靶材。常用的粉末冶金工藝包括冷壓、真空熱壓和熱等靜壓等。粉末冶金法的優點是靶材成分均勻，節約原材料，生產效率高等;缺點是密度低, 雜質含量高等。粉末冶金法製備靶材時, 其關鍵在於:(1)選擇高純、超細粉末作為原料;(2)選擇能實現快速緻密化的成形燒結技術, 以保證靶材的低孔隙率, 並控制晶粒度;(3)製備過程嚴格控制雜質元素的引入。

　　2．下遊應用領域擴張，驅動濺射靶材需求持續擴大

　　濺射靶材是目前市場應用量最大的PVD鍍膜材料，下遊應用領域廣泛，如平板顯示器、半導體、太陽能電池、光磁記錄媒體、光學元器件等。20世紀90年代以來，隨著消費類電子產品等終端應用市場的快速發展，濺射靶材的市場規模日益擴大，呈現高速增長的勢頭。根據中國電子材料行業協會數據，2016年全球濺射靶材市場規模約為113.6億美元，其中平板顯示（含觸控屏）用靶材為38.1億美元、半導體用靶材11.9億美元、太陽能電池用靶材23.4億美元、記錄媒體靶材33.5億美元。到2019年，全球濺射靶材市場規模將超過163億美元，年複合增長率達13%。

　　終端應用領域的不斷擴展和快速發展，強勁的消費需求有利於驅動濺射靶材市場不斷擴容，促進技術進步和產業成熟。隨著全球半導體、平板顯示、光學元器件、太陽能電池等行業生產規模持續擴張，我國進一步強化作為全球的電子信息、家用電器、太陽能電池及組件等產業的重要製造基地的地位，並直接帶動了濺射靶材行業的發展，給國內濺射靶材廠商帶來良好的發展機遇。此外，隨著濺射鍍膜技術的不斷進步以及生產成本的降低，濺射靶材應用領域將不斷擴大，繼而進一步帶動濺射靶材的市場需求。

　　隨著濺射靶材和下遊產業應用本土化程度的提高，中國在全球濺射靶材行業的地位日益突出，為國內濺射靶材行業帶來了更加廣闊的市場發展空間。近年來，濺射靶材產業鏈中的下遊工業面臨著不同程度的成本壓力，我國擁有平穩較快的經濟發展速度以及持續活躍的終端消費市場，同時半導體產業存在產業向市場轉移的趨勢，我國是世界最大的集成電路第一手交易市場，銷售額超過全球銷售額的50%，因此我國逐漸受到跨國企業的青睞，眾多世界知名企業紛紛加大對中國的投資力度，不斷將生產製造體系向中國轉移，較低的勞動力成本和日益改善的配套設施也為我國承接全球產業轉移提供了有力的支撐。

　　2.1受面板及觸控雙驅動，平板顯示用靶材穩定增長

　　鍍膜是現代平板顯示產業的基礎環節，所使用的PVD鍍膜材料主要為濺射靶材，其性能如解析度、透光率等都與濺射薄膜的性能密切相關。面板生產過程中，玻璃基板需要經過多次濺射鍍膜形成ITO玻璃，再鍍膜加工組裝用於液晶顯示器（LCD）、等離子顯示器（PDP）、有機發光二極體顯示器（OLED）等，平板顯示器還包括在LCD基礎上發展起來的觸控（TP）顯示產品，產品具有厚度薄、重量輕、低能耗、低輻射、無閃爍、壽命長等特點，已成為顯示屏行業的主流。平板顯示器主要在顯示面板和觸控屏面板兩個產品生產環節使用濺射靶材，使用到的靶材主要品種有：鉬靶、鋁靶、鋁合金靶、鉻靶、銅靶、銅合金靶、矽靶、鈦靶、鈮靶和氧化銦錫（ITO）靶材等。

　　據中國電子材料行業協會數據顯示，2013年-2015年，全球平板顯示用濺射靶材市場規模分別為29.5 億美元、31.4 億美元和33.8 億美元。其中，我國平板顯示用濺射靶材2013年度、2014年度、2015年度市場規模分別為39.4億元、55億元和69.3億元。

　　全球平板顯示產業重心逐漸向中國大陸轉移，以京東方為代表的國產面板廠在世界範圍已佔有重要地位。2011年以來，隨著國內外平板顯示廠商紛紛在中國大陸建立生產基地，以及政府政策導向和產業扶植下，我國平板顯示產業迅速發展，相繼形成了以京東方、華星光電、深天馬等為代表的市場影響力較大的LCD面板本土品牌。我國顯示產業在「十二五」期間快速發展，生產線從7條增長到22條，京東方大尺寸面板廠出貨量在2017年已居全球首位。據IHS預計，到2018年中國將成為全球最大的平板顯示器件供應國，全球市場佔有率將達到35%。我國成為全球主要LCD面板生產大國。

　　目前觸控屏最大市場需求主要來自智慧型手機和平板電腦，未來在可穿戴設備快速普及以及車載中控屏大屏化趨勢下，觸控屏需求將保持持續增長。目前，以智慧型手機和平板電腦為代表的智能終端產品基本邁入成熟期，但未來幾年智能終端市場仍將在替換性需求的拉動下保持增長的態勢。而智能穿戴設備則處於成長期，IDC研究報告顯示，2016年智能穿戴設備出貨量將達1.1億臺，比2015年增長38.2%，預計2020年出貨量將增至2.37億臺。

　　國內平板顯示面板行業的快速增長，為濺射靶材廠商提供了廣闊成長空間。目前，我國平板顯示產業鏈上遊的材料仍有70%左右依賴進口，很多材料仍不能滿足下遊的需求。基於產品價格、採購國產化等因素的考慮，我國面板廠商開始有選擇地與本土優秀的濺射靶材廠商合作，並期望建立長期合作夥伴關係，這為我國濺射靶材產品的快速發展提供了有利的市場條件，預計未來幾年濺射靶材市場將保持快速增長態勢。

　　2.2半導體用靶材整體平穩上升，國內已實現0到1突破

　　半導體產業主要由集成電路、半導體分立器件、光電器件和傳感器等產品構成，其中集成電路是半導體產業最大的組成部分，亦是濺射靶材重要應用領域。電路中單元器件內部由襯底、絕緣層、介質層、導體層及保護層等組成，其中，介質層、導體層甚至保護層都要用到濺射鍍膜工藝，濺射靶材是製備集成電路的核心材料之一。集成電路領域的鍍膜用濺射靶材主要包括鋁靶、鈦靶、銅靶、鉭靶、鎢鈦靶等，要求靶材純度很高，一般在5N（99.999%）以上。

　　近年來全球半導體市場仍然處於整體平穩上升階段。根據wind數據顯示，2012-2017 年全球半導體銷售額從2915.62億美元增長到4122億美元，增幅41.38%，年均複合增長率為7.17%。根據世界半導體貿易統計組織（WSTS）預測，2017年全球半導體行業市場規模將繼續保持增長，增長率約為3.1%。其中全球球半導體材料（主要包括晶圓製造和封裝材料）2016年銷售額為443億美元，其中晶圓製造材料銷售額為247億美元，封裝材料為196億美元。

　　國內電子產品製造業飛速發展，我國半導體產業市場潛力巨大，為半導體製造材料市場的發展奠定基礎，我國半導體材料市場規模佔全球比重正逐年提升。目前我國半導體行業現已初步形成了從設計、前工序到後封裝的產業輪廓，步入高速增長軌道。我國半導體材料的市場規模增速遠高於同期全球市場。2006年中國大陸市場半導體材料銷售額為23.8億美元，2016年達到65.3億美元，CAGR為11.06%，遠高於全球同期1.75%的複合增速，中國大陸半導體材料的市場規模佔比也由6%逐步提升至16%。

　　隨著智慧型手機、平板電腦、汽車電子等終端消費領域對半導體需求的持續增長，半導體市場容量將進一步提升，有效促進濺射靶材銷售規模的擴大。在晶圓製造材料中，濺射靶材約佔晶片製造材料市場的2.6%。在封裝測試材料中，濺射靶材約佔封裝測試材料市場的2.7%，約佔整個半導體材料銷售額的2.65%。2016年全球半導體用濺射靶材銷售額為11.7億美元。

　　我國集成電路用濺射靶材市場規模在2016年達到為11.5億元，預計2019年國內半導體用濺射靶材市場規模將突破14億元。隨著國產濺射靶材的技術成熟，國產化政策導向明確，性價比優勢明顯，預計我國濺射靶材的市場規模將持續擴大，在全球市場中的份額進一步提高。

　　2.3安防監控及車載鏡頭帶來光學顯示器件用靶材新需求

　　光學鍍膜技術已成為光學元器件行業的關鍵技術之一，具有較高的技術門檻，目前高效、高品質、低成本的批量化生產技術仍然只有少數光學加工企業掌握。光學元器件鍍膜是指在光學元器件上或獨立的基板材料上鍍上一層或多層，甚至數百層的介電質膜、金屬膜、介電質膜與金屬膜組成的膜系，來改變光波傳導的特性，包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改變。近年來，濺射鍍膜等鍍膜技術開始應用於光學鍍膜，提升效率和良品率、降低成本效果明顯，成為實現大批量生產精密光學元器件的重要技術。

　　光學元器件行業屬於光學產業鏈的中遊，光學材料生產行業處於光學元器件行業的上遊。自從上世紀90年代末數位化帶動光電應用產品快速發展後，光學元器件應用行業越來越廣，常規的應用產品包括智慧型手機、車載鏡頭、安防監控設備、數位相機、光碟機、投影機等，高端的應用產品包括航空航天監測鏡頭、生物識別設備、生命科學中DNA測序等研究設備、醫療檢查儀器鏡頭、半導體檢測設備以及大視場投影鏡頭（如IMAX）、3D印表機等儀器設備所需的光學元器件及光學鏡頭。隨著科技的進步和製造工藝的提升，智慧型手機、數位相機等電子產品逐漸成為居民重要的消費產品，其更新換代的加快、產品周期的縮短帶動了光學元器件行業的穩步發展。近些年來安防監控設備、車載鏡頭、航天航空領域的快速發展也對光學元器件行業的增長起到了推動作用。智慧型手機的快速發展，雙攝、三攝等比例的提升，也促使光學元器件快速增長。

　　隨著公共與個人安全越來越受到重視，視頻監控市場的高速發展持續推動精密光學鏡片需求的增長，在未來幾年將繼續維持高景氣。據IHS公司旗下IMS Research預測，2016年全球視頻監控設備收入將從2010年的96 億美元上升到205億美元，增長114%。近年來我國出臺多項政策逐步推進平安城市概念，高畫質化攝像頭作為交管監控、偵查線索被廣泛應用，視頻監控市場逐步從一線城市擴大到二三線城市。以2015年為例，2015年5月國家發改委等9部委聯合推出的《關於加強公共安全視頻監控建設聯網應用工作的若干意見》明確要求，到2020年，重點公共區域視頻監控聯網率達到100%。據中國安全防範產品行業協會統計，我國2013、2014年視頻監控市場規模分別為490、620億元，預測2016年市場將達到867億元，較2013將增長76.94%。

　　隨著全球汽車銷量的增長以及行車安全愈來愈受到人們的重視，車載攝像頭市場進入快速增長期。車載攝像頭具有廣泛的應用空間，按照應用領域可分為行車輔助（行車記錄儀、ADAS（高級駕駛輔助系統）與主動安全系統）、駐車輔助（全車環視）與車內人員監控，貫穿行駛到泊車的全過程，目前運用最多的是前視以及後視攝像頭，隨著ADAS系統滲透率提高以及人臉識別等技術運用於汽車電子領域，車內以及側視攝像頭將會得到進一步應用。IHS Automotive發布的報告顯示，2014年車載攝像頭全球出貨量為2,800萬枚, 2020年將增至8,270萬枚，6年複合增長率達19.8%，而我國車載攝像頭2015至2020年的年複合增速將超30%。

　　2.4太陽能電池用靶材市場增長受益於清潔能源新趨勢

　　太陽能光伏行業中，濺射靶材主要應用於太陽能電池。按太陽能電池的結構劃分，可分為結晶矽和薄膜太陽能電池二大族群。結晶矽技術長期在太陽能電池產業中佔據主流地位，由於其成本較高，業內一直通過提升電池轉換效率、降低矽片切割厚度等技術來降低成本；與此同時，薄膜太陽能電池因其生產成本低、弱光性好（即在陰天發電能力強）、容易集成等優勢，逐漸受到行業關注並增長迅速，未來薄膜太陽能電池市場佔有率將逐步提高。目前，太陽能電池中使用較多的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶（Aluminum Zinc Oxide，氧化鋁鋅）等，純度要求一般在99.99%以上，其中，鋁靶、銅靶用於導電層薄膜，鉬靶、鉻靶用於阻擋層薄膜，ITO靶、AZO靶用於透明導電層薄膜。太陽能光伏產業的快速發展給太陽能電池用濺射靶材市場帶來了巨大的成長空間，2016年全球太陽能電池用濺射靶材市場規模23.4億美元，比2015年增長26.5%。

　　全球太陽能光伏年度新增裝機容量呈現快速增長的態勢。2014年來全球累計光伏裝機容量增速趨於平穩，維持在28-33%左右，2016年全球累計光伏裝機容量達到303GW，太陽能光伏產業進入穩定發展階段。我國太陽能光伏產業迅速發展，已經成為全球最大的太陽能電池片和電池組件生產製造基地。近幾年我國太陽能累計裝機容量增速維持在50%附近，2016年，我國累計光伏裝機容量達到78.07GW，佔世界總量的25.8%。近幾年我國不斷優化能源結構，引導太陽能等可再生能源的應用擴展，推動我國太陽能電池市場保持持續平穩的增長態勢。

　　目前國內太陽能電池主要以矽片塗覆型太陽能電池為主，薄膜電池的產量仍較小，而且以矽薄膜電池為主，因此濺射靶材市場規模較小。2013-2015年，國內濺射靶材市場規模分別約為3.5億元、4.6億元和7.5億元。隨著國內薄膜電池生產線的投產，我國太陽能電池用濺射靶材市場將持續增長。

　　3.全球靶材供應仍集中於日美企業

　　3.1上遊集中於美日德，參與企業數量基本呈金字塔型分布

　　超高純金屬及濺射靶材是電子材料的重要組成部分，濺射靶材產業鏈主要包括金屬提純、靶材製造、濺射鍍膜和終端應用等環節，其中，靶材製造和濺射鍍膜環節是整個濺射靶材產業鏈中的關鍵環節。

　　濺射靶材產業鏈上遊集中於美日德，下遊應用領域廣泛。濺射靶材上遊主要為金屬、非金屬、合金及化合物等材料。目前，全球範圍內高純金屬產業集中度較高，美國、日本、德國等國家的高純金屬生產商依託先進的提純技術在整個產業鏈中居於有利的地位，具有較強的議價能力。下遊應用領域包括平板顯示、半導體、光磁記錄媒體、光學元器件、節能玻璃、工具改性、高檔裝飾用品等應用市場，終端應用領域主要為家用電器、智慧型手機、平板電腦、顯微鏡及相機鏡頭等消費電子行業，也包括太陽能電池、Low-E玻璃、汽車鍍膜玻璃、高檔裝飾用品等領域。

　　全球範圍內，濺射靶材產業鏈各環節參與企業數量基本呈金字塔型分布，具有一定的區域性特徵。美國、日本跨國集團產業鏈完整，具備規模化生產能力，在掌握先進技術以後實施壟斷和封鎖，主導著技術革新和產業發展；韓國、新加坡及中國臺灣地區在磁記錄及光學薄膜領域有所特長。另外上述地區晶片及液晶面板產業發展較早，促使服務分工明確，可以為產業鏈下遊的品牌企業提供如焊接、清洗、包裝等專業代工服務，將上遊基礎材料和下遊終端應用對接，在一定程度上推動上遊濺射靶材的產品開發和市場擴展。但是上述地區的靶材服務廠商缺少核心技術及裝備，不能夠在金屬的提純、組織的控制等核心技術領域形成競爭力濺射靶材的材料即靶坯依然依賴美國和日本的進口。

　　3.2跨國企業佔強勢地位，主導產業發展

　　全球半導體工業的區域集聚性造就了濺射靶材生產企業的高度聚集。高純濺射靶材是伴隨著半導體工業的發展而興起的，屬於典型的技術密集型產業，產品技術含量高，研發生產設備專用性強。隨著半導體工業技術創新的不斷深化，以美國、日本為代表的半導體工業相繼催生了一批高純濺射靶材生產廠商，當前居於全球市場的主導地位。以美國、日本為代表的高純濺射靶材生產企業對核心技術執行嚴格的保密措施，牢牢把握著全球濺射靶材市場的主動權，導致濺射靶材行業在全球範圍內呈現明顯的區域集聚特徵，生產企業主要集中在美國和日本。

　　全球範圍內，日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯、住友化學、愛發科等資金實力雄厚、技術水平領先、產業經驗豐富的跨國公司居於全球高純濺射靶材行業的領導地位，屬於濺射靶材的傳統強勢企業，憑藉其強大的技術研發實力和市場影響力牢牢佔據全球濺射靶材市場的絕大部分市場份額，主導著全球濺射靶材產業的發展，推動行業技術的進步。

　　3.3大基金助力國產化進程加速

　　我國半導體產業發展薄弱，近年來國家不斷推出政策支持發展，2014年10月，第一期國家集成電路產業投資基金（簡稱大基金）成立，規模達到1387億元，投資項目涵蓋了半導體設計、半導體製造、半導體封測、半導體設備及半導體材料等各個子行業，全產業鏈布局支持，有助於我國半導體產業的快速崛起。近期大基金第二期方案已上報國務院並獲批，二期規模將超過一起，達到1500-2000億元，並且按照1:3左右的比例能夠撬動社會資金4500-6000億元左右。

　　半導體材料種類眾多，主要分為晶圓製造和封裝材料，包括矽和矽基材、光刻膠、高純試劑、電子氣體、靶材、拋光液等。其中，濺射靶材行業屬於國家重點鼓勵發展的戰略性新興產業，由於長期依賴進口，國內客戶迫切希望濺射靶材能夠儘快實現國產化。為了促進我國濺射靶材產業規模平穩較快增長，技術創新能力增強，加速濺射靶材供應本土化進程，近年來，國家制定了一系列產業政策引導濺射靶材工業健康穩定發展，同時，國家高技術研究發展計劃（簡稱「863計劃」）、國家科技重大專項「極大規模集成電路製造設備及成套工藝」專項基金（簡稱「02專項」）、發改委的戰略轉型產業化項目都有針對性地把濺射靶材的研發及產業化列為重點項目，從國家戰略高度扶植濺射靶材產業發展壯大，國家產業政策、研發專項基金的陸續發布和落實，為濺射靶材行業的快速發展營造了良好的產業環境，將有力地引導濺射靶材產業持續健康發展，企業實力進一步增強。

　　4．國內靶材企業漸突破

　　近年來，我國濺射靶材生產企業在技術和市場方面都取得了長足的進步，正逐步改變濺射靶材長期依賴進口的不利局面。受益於國家戰略支持和下遊應用推廣，我國少數專業從事濺射靶材研發和生產的企業經過數年的科技攻關，已逐漸突破關鍵技術門檻，成功開發出一批能適應高端應用領域的濺射靶材，擁有了部分產品的規模化生產能力；同時，依託有利的產業政策導向、產品價格優勢，通過將研發成果產業化，積極參與國際競爭，已在國內市場佔有一定份額。其中，江豐電子產品主要應用於半導體、平板顯示、太陽能領域，阿石創產品在光學元器件、平板顯示、節能玻璃等細分領域用靶材市場取得一定的市場份額，有研億金產品主要應用於半導體領域，隆華節能產品應用於平板顯示行業。

　　4.1江豐電子：國內最大的半導體晶片用濺射靶材生產商，實現從0到1突破

　　公司致力於高純濺射靶材的研發、生產和銷售，主要產品為各種高純濺射靶材，包括鋁靶、鈦靶、鉭靶、鎢鈦靶、LCD用碳纖維支撐等，主要應用於半導體（主要為超大規模集成電路領域）、平板顯示、太陽能等領域。超高純金屬及濺射靶材是生產超大規模集成電路的關鍵材料之一，公司的超高純金屬濺射靶材產品已應用於世界著名半導體廠商的最先端製造工藝，在16納米技術節點實現批量供貨，成功打破了美、日跨國公司的壟斷格局，同時還滿足了國內廠商28納米技術節點的量產需求，填補了我國電子材料行業的空白。

　　營業收入、歸母淨利潤持續增長，毛利率、淨利率保持穩定，三費費用率整體呈下降趨勢。2014年，2015年，2016年，2017年，公司營業收入分別實現2.45億元、2.9億元、4.43億元、5.5億元，同比增幅分別為36.32%、18.69%、52.21%、24.26%。公司營業收入持續增長，主要由於下遊應用領域擴張，主營業務銷量增加，收入增長所致，表明公司的盈利能力不斷增強。

　　客戶資源優質，市場份額領先，在行業中佔據了較為有利的競爭地位。公司是國內高純濺射靶材產業的領先者，在全球範圍內積極參與與美國、日本跨國公司的市場競爭，已經成為國內最大的半導體晶片用濺射靶材生產商。目前，公司主要客戶包括臺積電（TSMC）、聯華電子（UMC）、格羅方德（GLOBALFOUNDRIES）、中芯國際（SMIC）、索尼（SONY）、東芝（TOSHIBA）、瑞薩（Renesas）、美光（Micron）、海力士（Hynix）、華虹宏力（HHGrace）、意法半導體（STM）、英飛凌（Infineon）、京東方（BOE）、華星光電（CSOT）、SunPower等。

　　技術優勢和產品優勢突出，市場競爭優勢強。公司打造了一支具有國際水平的技術研發團隊，核心成員由多位具有金屬材料、集成電路製造專業背景和豐富產業經驗的歸國博士、日籍專家及資深業內人士組成。其中，董事長兼總經理姚力軍和董事兼副總經理Jie Pan均入選過中組部「千人計劃」。截至2016年12月31日，擁有授權專利183項，涵蓋了金屬提純、晶粒晶向控制、焊接技術、精密加工、清洗包裝等一系列生產工藝。有利的技術保障，最大限度的保證了公司產品的品質和可靠性，製造成本相對較低使得產品性價比較高，獲得下遊客戶的廣泛認可，樹立了良好的品牌形象。

　　IPO後擬籌建年產400噸平板顯示器用鉬濺射靶材坯料產業化項目、年產300噸電子級超高純鋁生產項目，預計項目建成分別可增加含稅年銷售收入2.36億元、0.81億元。平板顯示器用鉬濺射靶材坯料項目的實施將使得公司產品進一步多源化，同時增強原材料供應的穩定性，並將打破國外對鉬濺射靶材的相對壟斷地位，促進國內平板顯示器行業的良性發展。高純鋁生產項目將公司的產業鏈向高純金屬提純方向進行拓展，解決制約公司發展的瓶頸，增強公司在行業中的競爭優勢，並保證產業鏈各環節的均衡發展，為公司產品向國內外市場的擴張提供保障。

　　4.2阿石創：綜合型PVD鍍膜材料廠商

　　公司專業從事各種PVD鍍膜材料研發、生產和銷售，主導產品為濺射靶材和蒸鍍材料兩個系列產品，主要用於製備各種薄膜材料，是國內PVD鍍膜材料行業產品品種較為齊全、應用領域較為廣泛、工藝技術較為全面的綜合型PVD鍍膜材料生產商之一。產品已在平板顯示、光學元器件、節能玻璃等領域得到廣泛應用，並已研發出可應用於半導體、太陽能電池等領域的多款產品。

　　營收和歸母淨利潤持續增長，毛利率和淨利率保持高位，三費費用率保持穩定。2014-2017年，公司營業務收入分別為0.83億元、1.24億元、1.75億元、2.36億元，年均複合增長率為41.86%。2017年1-9月，毛利率均超過35%，淨利率20%左右，較高的毛利率淨利率體現了公司產品的技術含量和市場競爭能力，同時表明了公司產品具有較強的盈利能力，有利於公司未來的可持續發展。

　　注重自我創新，持續滿足下遊客戶需求，行業地位不斷提高。公司鼓勵全員參與創新，重視智慧財產權保護，目前已擁有23項授權專利，被評為「福建省創新型試點企業」、「福州市智慧財產權示範企業（2013-2015年）」等。自成立以來，公司始終密切跟進國際先進鍍膜技術及薄膜材料的品質發展趨勢，注重前瞻性的技術開發儲備的深入研究，掌握了PVD鍍膜材料研發的多項核心技術，使公司的研發技術和產品品質能持續滿足下遊客戶的需求，與京東方、群創光電、藍思科技、伯恩光學、愛普生、水晶光電等多家知名企業建立了良好的合作關係。

　　技術儲備深厚，產品體系豐富，利於贏得更多的市場份額。公司擁有PVD 鍍膜材料製備工藝藝術、多樣化靶材綁定技術、背板精密加工技術等核心技術；產品供應體系全面，質量可靠，通過ISO9001、TS16949和ISO14001:2004標準管理制度，引進ERP平臺，快速響應市場需求，為客戶提供較短的交期服務和長期的配套服務。不僅為公司贏得了更多的市場份額，還為公司業績的持續穩定增長提供了保障，同時還使得公司在與國外競爭對手的競爭中佔有優勢地位。

　　籌建年產350噸平板顯示濺射靶材建設項目，包括鉬靶、鋁靶、銅靶、矽靶和ITO靶材等。與此同時，公司擬建設統一的研發中心，下轄三個實驗室，分別是金屬材料、化合物材料和新型薄膜實驗室，研發IGZO靶材、鉬基合金靶材、二氧化釩靶材、多元金屬薄膜濺射用合金靶材，以促進公司現有業務的升級，進一步提高研發成果產化轉效率，提升公司的研發能力，全面完善「—產—銷」的業務體系。

　　4.3有研新材（有研億金）：靶材競爭力強，市場開拓仍需加強

　　2014年有研新材（曾用名：有研矽股）大股東北京有色金屬研究總院將旗下包括有研億金等公司注入上市公司，使有研億金其成為有研新材全資子公司，2015年收購了關聯公司持有的翠柏林，2016年將醫療器材業務分離出來。目前有研億金主要產品為高純金屬靶材、蒸鍍材料、口腔正畸器材、醫療用介入支架和貴金屬合金、化合物等，其靶材產品包括鋁及其合金靶材、鈦靶、銅靶、鉭靶等，從超高純原材料到建設靶材、蒸發鍍膜垂直一體化發展，其靶材主要應用於電子、信息、化工等領域，是現代工業不可或缺的重要材料。

　　有研億金在行業內具有重要影響力，產品品類廣泛。公司積極參與國家項目，歷年承擔國家級、省部級科技開發項目近百項，獲部級獎56項，國家專利81項，國家科技進步獎3項，國家發明獎9項，全國科學大會獎2項，國家科技進步獎特等獎子項獎1項。公司在高端高純/超高純金屬靶材的研發水平和產業化能力均處於國內領導地位，除了鋁、鉭外，其他電子用金屬材料均實現高純化，特別是在6N 高純銅、 5N 高純鈷、 5N 高純鎳以及各種高純貴金屬材料的提純製備方面在國內外具有廣泛的影響力。同時，公司還在銅靶材、鈷靶材等產品上實現了技術突破，正逐步成長為公司的優勢產品。2016年，有研億金獲得「2016年度中國半導體材料十強企業稱號」，其鈷靶材獲得臺積電驗證通過，打破了臺積電二十年來半導體用鈷靶材沒有第二供應商的歷史。

　　公司產品涵蓋 4-12 寸集成電路用大尺寸高純金屬靶材產品，並持續積極擴張靶材產能。2014 年初，公司建成了國內先進水平的靶材生產線，形成了全部靶材產能為 8000 塊/年，其中 8-12 英寸靶材產能為 1500 塊/年，並且為順應國內靶材產品從6英寸向8英寸轉變，加強其在8-12英寸集成電路領域靶材的生產能力，公司投資1.99億元進行產能擴張；2015 年前後，公司在國內4-6 寸靶材產品具有 80%的市場佔有率，8-12 寸具有 10%以上的市場佔有率。

　　超純/超高純金屬材料佔有研新材收入比重約23%，有研億金盈利能力持續改善。根據公司年報披露數據，在收入規模上，高純/超高純金屬材料業務（包含高純金屬、靶材、蒸發材料、貴金屬材料等）的收入不斷提升。新增產能預計今年投產，公司產能擴張後，總產能將達到19700塊/年，新增銷售收入4.38億元/年，新增淨利潤5018萬元/年。

　　4.4隆華節能（四豐電子、晶聯光電）：鉬靶材、ITO靶材國內龍頭企業

　　隆華節能通過子公司四豐電子和晶聯光電涉足PVD鍍膜材料業務，主營業務包括傳熱節能產品、環保水處理產品及服務、新材料業務三大板塊。為實現「二次騰飛」的發展戰略，先進材料、智能裝備、軍工電子信息等領域，廣泛深入地尋找具備核心優勢、協同效應和可持續發展能力的優質投資標的，實現資產收購重組，培育新的增長點，為公司未來跨越式發展做好戰略布局。

　　產業升級攻堅階段營收歸母淨利潤有所下降，新布局的新材料板塊將是未來支撐公司發展的重要板塊。2017年第三季度，實現營業收入7.6億元，同比上升22.05%，歸屬於上市公司股東的淨利潤0.47億元，同比上升18.69%。2015年、2016年、2017年1-6月，高純金屬及合材料銷售收入分別為0.54億元、0.83億元、0.68億元，佔營業收入比重分別為3.91%、10.25% 、14.68%。公司新材料業務發展迅速，並保持良好勢頭。

　　技術研發專業化、生產管理精細化、產品質量高口碑好，領跑靶材行業。過去三年，公司圍繞總經理孫建科打造了一個涵蓋技術、管理、營銷人才等全面綜合型的經營管理團隊，加大研發投入，僅2016年就申報了20項只是產品，獲得授權專利25項。深入推行精細化管理，降低生產成本，確保交付產品的質量。其中，四豐電子2016年產品單位製造成本同比大幅下降，全年靶材產品內部合格率達95.17%，保證產品出廠合格率100%，質量控制處於同行業先進水平。

　　四豐電子在鉬靶材領域處於行業龍頭地位，產品性能和質量已經可以穩定達到或超過國外進口同類產品。公司近年來在市場上的表現不俗，2017年上半年，公司鉬靶材出貨量比去年同期增長60%以上；成功獲得國內首條10.5代面板產線的首批高純鉬靶訂單（京東方B9線），並已穩定供貨，實現國產鉬靶應用的又一歷史性突破；TFT-LCD/AMOLED用寬幅鉬靶產業化項目通過技術鑑定、驗收、量產和銷售，新產品市場推廣工作穩步推進；已獲得天馬公司、信利公司認證，實現穩定供貨；TFT-LCD/AMOLED用高純鉬靶榮獲工信部頒發的「2017CITE創新產品與應用」金獎，作為國產靶材唯一供應商代表參加「京東方2017全球供應商大會」，並獲得華星光電頒發的年度「優秀供應商」獎牌。四豐電子在行業內的認可度、美譽度以及品牌知名度不斷提升，增強了公司靶材產品市場影響力和核心競爭力，為未來拓展國內和海外市場奠定了基礎。

　　晶聯光電國內高端ITO靶材的領軍企業，所生產的高端靶材能夠達到甚至超過國際先進水平，逐步成為華星光電、信利、京東方的供應商。2017年，晶聯光電順利通過華星光電G4.5（測試線）測試，並為本年華星光電G8.5的導入奠定基礎；新增TFT客戶測試立項3個，分別為重慶京東方G8.5、信利半導體G5和信利惠州G4.5，再一次實現了國產ITO靶材在TFT客戶ARRAY立項的「零」的突破，其中包括與四豐電子鉬靶材在信利的首次測試立項，體現了靶材領域的協同效應。目前，已成功立項和供貨的TFT產線達到6條，進一步增強了晶聯光電在國內TFT市場的影響力和領先優勢。TP/TN/STN等傳統客戶的市場出貨量與去年同期相比實現近60%的快速增長。目前晶聯光電已與四豐電子共享營銷渠道，完善經營管理體系，在行業內樹立起ITO靶材的高端形象。

　　4.5公司估值表

　　5．風險提示

　　現有濺射靶材廠商加大投入力度，或有新的競爭對手進入，會導致市場競爭加劇、利潤水平下滑；

　　新產品、新技術研發失敗，或對相關產品、技術的市場發展趨勢錯誤判斷，收益未達預期；

　　下遊應用市場下滑，市場需求萎縮。