產業鏈——集成電路關鍵製造設備之一
CVD(化學氣相沉積)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成塗層或納米材料的方法，是工業中應用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術，包括大範圍的絕緣材料，大多數金屬材料和金屬合金材料。其一般應用於集成電路製造、粉末合成、金屬精緻等。
CVD設備則是CVD應用的載體，是實現CVD的必要條件。
產業政策——對於CVD設備重視程度較高
從政策環境上來看，我國對於CVD設備較為重視，其主要體現在相關政策對於發展半導體設備的支持。如《「十三五」國家科技創新規劃》中，薄膜設備(PVD設備、CVD設備等)被列為國家需要攻克的高端製造裝備;《中國製造2025》中也提到，要形成集成電路關鍵製造設備的供貨能力。
技術工藝——工藝不斷發展變遷
近年來，CVD工藝不斷發展，形成了較為固定的工藝流程，同時也根據不同的應用演化出了APCVD、LPCVD、PECVD等不同的CVD技術。一般來說，不同的CVD技術需要不同的CVD設備來承載，一定程度上也促進了CVD設備製造工藝的發展。
競爭格局——CR3達到70%
全球CVD設備市場的主要企業有應用材料、泛林半導體和TEL這三家，據Gartner披露，這三家企業合計佔據了全球近70%的市場份額。其中，應用材料所佔市場份額為30%;泛林半導體和TEL各自佔據21%和19%。
細分格局——PECVD仍為主流
目前全球主流的CVD設備仍為PECVD、APCVD和LPCVD，據Gartner數據披露，這三類CVD設備合計市場份額約佔總市場份額的70%;其中PECVD的市場份額約為35%。
國產化分析——相關技術仍需進步
我國CVD設備的國產化率近年來雖然在不斷增長，但整體來看仍然較低。從長江儲存2017年至2020年2月CVD設備累計招標採購份額來看，僅有3%的CVD設備來自於我國國產企業(瀋陽荊拓)，由此可見，我國CVD設備競爭力與海外知名企業相比仍具有一定的差距。
目前我國CVD設備的主要生產企業包括北方華創和瀋陽荊拓，這兩家企業近年來發展勢頭較好，CVD設備相關技術也正在加緊研發中，未來或將成為我國CVD設備國產化率大幅提升的主要動力源。
以上數據來源於前瞻產業研究院《中國半導體產業戰略規劃和企業戰略諮詢報告》，同時前瞻產業研究院提供產業大數據、產業規劃、產業申報、產業園區規劃、產業招商引資等解決方案。