目前全球光刻機廠商有4家，分別是ASML、Nikon、Canon和上海微電子（SMEE）。2017年全球光刻機總出貨294臺，其中ASML共就出貨198臺（其中EUV光刻機11臺），佔全球68%的市場份額。EUV光刻機方面，ASML佔有率100%。2017年單臺EUV機臺平均售價超過1億歐元，2018年一季度的售價更是接近1.2億歐元（有價無貨）。在高端光刻機方面，ASML佔有88%的市場。
ASML光刻機據外媒報導，中芯國際已經訂購了一臺EUV設備，首臺EUV設備購自ASML，價值近1.2億美元。EUV是當前半導體產業中最先進也最昂貴的半導體製造設備，全球僅荷蘭設備商ASML供應。
EUV是未來1x納米繼續走向1x納米以下的關鍵微影機臺，包括英特爾、三星、臺積電等大廠都在爭搶購買該設備。設備供應商ASML曾表示，一臺EUV從下單到正式交貨約長達22個月。
同樣也在緊追1x納米製程技術的華力上海Fab6也正式搬入的首臺ASMLNXT1980Di微影機。這臺微影機是目前大陸生產線上最先進的浸沒式微影機。
長江存儲的首臺微影機也已運抵武漢天河機場，這臺微影機為ASML的193nm浸潤式微影機，售價7,200萬美元用於14nm~20nm製程，陸續還會有多部機臺運抵。
ASML起初處於市場弱勢地位
ASML源於飛利浦光刻設備研發小組。飛利浦在1973年推出新型光刻設備，但由於成本高昂，且存在一系列技術問題，很難對外推廣。而其他設備商在解決接觸式光刻機的缺陷問題上用不同的技術路逕取得了突破。飛利浦一度計劃關停光刻設備研發小組。
ASMLASML當時面臨三大問題，一個是技術落後，先前研發的技術已經過時，遠不能滿足客戶需求；二是市場已經飽和，競爭非常激烈，強手如林，日美等國多家廠商相繼推出了自己的光刻機產品；三是資金嚴重不足。
ASML成功探秘
研發光刻機需要大量資金投入。成立之初，由於技術落後和資金不足，加上產業周期性衰退，ASML幾乎陷入破產境地。好在飛利浦及時出手相救，加上公司輕資產戰略，才渡過難關。
1995年公司上市，上市獲得的充裕資金使公司有錢投入研發，同時也讓公司有錢去併購其他公司來完善本公司的技術。這一步非常關鍵，沒有錢什麼也幹不成。公司正是通過併購獲得掌握了一系列相關先進技術。比如，2013年5月30日完成對光學技術提供商Cymer的收購，為公司量產EUV設備起了決定性作用。
光刻機技術含量極高，ASML因而非常重視研發。公司每年將營業收入的15%左右投入研發，超強研發投入讓公司能適時推出新產品。
光刻機所需零部件多達數萬個，這麼多的零部件和核心技術，如果由一家公司來獨立全部完成是不可能的。
ASML在把控核心技術（光刻曝光技術）的同時，依靠全球產業鏈分工合作的方式，ASML採取模塊化外包協同聯合開發策略。該策略使ASML得以集世界光刻頂級技術之大成。如光學鏡頭部件由德國Carl Zeiss生產，光源由美國的Cymer（現ASML子公司）提供，計量設備則由美國的Keysight（Agilent/Hewlett-Packard）製造，傳送帶則來自荷蘭VDL集團。正是有了如此多的各細分領域中的頂尖供應商的協同創新，公司可以把主要的研發力量集中在確定客戶需求和系統整合上，從而迅速佔領了世界光刻機的制高點。這一招確實妙，是ASML成功的關鍵因素之一。
2012年ASML還允許大客戶對ASML進行少數股權投資，並承諾為ASML未來計劃的研發支出作出承諾。英特爾、臺積電、三星總計以38億歐元的代價取得23%的股份，並另外出資13.8億歐元支持ASML未來五年的EUV技術研發，助其快速實現量產，以及獲得EUV設備的優先購買權。ASML真是聰明到了極點，一舉多得，極具經營智慧和策略，像這樣的企業不賺錢都難。
上海微電子裝備（集團）股份有限公司(SMEE)是中國國內技術最領先的光刻機研製生產單位， 2018年5月11日，SMEE第100臺國產高端光刻機交付產線暨產品發運長電先進儀式舉行，長電科技總裁賴志明攜長電先進客戶團隊代表、SMEE總經理賀榮明攜產品團隊代表共同出席了本次發運儀式，在慶賀之餘，雙方共同希望就進一步推動國產裝備發展貢獻力量。
SMEE第100臺國產高端光刻機交付產線ASML的成功並不是偶然的，這是ASML長期數十年努力經營的結果。ASML的成功為中國光刻機企業的發展提供了有益的經驗借鑑和參考。現在中國光刻機企業面臨的處境應該不比當初ASML的處境差，相信中國光刻機企業歷經長期努力後也能取得成功。