「現在我們已經可以在光纖末端做出較為複雜的微納米級『冰雕』。」 近日,西湖大學光學工程講席教授仇旻在接受 DeepTech 採訪時表示。
仇旻團隊近期發布的三維微納加工技術,可在僅有頭髮絲八分之一粗細的光纖末端進行「冰刻」加工,且能一次性雕刻上百件作品。
圖|不同圖案的「冰雕」作品(來源:受訪者供圖)
近期,該系列研究陸續發表在 《納米快報》《納米尺度》《應用表面科學》等期刊上,從精確定位到精準控制雕刻力度,再到以 「冰雕」 為模具製作結構和加工器件,一套新型三維微納加工系統雛形初現。
圖|「冰刻」 全過程(來源:受訪者供圖)
「冰刻」 技術,通俗的講,就是把冰刻成想要的結構和形狀,並以此為模具實現其他材料結構的製作。刻冰過程與常見的冰雕類似,但區別在於,仇旻團隊使用的刻刀是肉眼看不見的電子束,製造的 「冰雕」 是微納米級別的景觀。
目前,他們已經可以實現在薄至 300 納米的冰上刻畫圖案,下圖中最小的微型雪花直徑僅 1.4 微米,所有比例尺長度均為 1 微米。
圖|在薄至 300 納米的冰上刻畫圖案
在微納加工技術中,目前廣泛使用的是基於光刻工藝對材料或原料進行微細加工,製作成所需的微納結構或器件。在這一過程中,光刻膠為非常關鍵的材料。
而仇旻團隊所做的就是把光刻膠替換成冰,改稱之為 「冰膠」,並將使用 「冰膠」 替代光刻膠完成微納加工的電子束光刻工藝改稱為 「冰刻」。
據仇旻介紹,目前除他和他的學生,全球也在研究此技術的僅有丹麥另一個實驗室團隊。
冰刻 2.0,一站式、自動化微納加工系統
仇旻告訴 DeepTech,從 2012 年到 2018 年,團隊證實 「冰刻」 方案行得通用了 6 年。從 2012 年開始,仇旻團隊開始嘗試把冰用在電子束光刻技術中,替代光刻膠進行電子束曝光。
2018 年,仇旻團隊研究表明,在零下 140 度左右的真空環境下,「冰」 能夠在原材料表面形成 「薄膜」,並且經過電子束加工可以做出簡單的三維結構。6 年間,仇旻團隊也完成了國內首臺 「冰刻」 系統的研發,即 「冰刻 1.0」,可以實現簡單結構和器件的製備。
圖 | 「冰刻」在單模光纖端面製作微納結構
現階段,「冰刻」 系統已優化到 2.0 版本。對於 「冰刻 2.0」,仇旻說,「我們的目標是,在未來 3-5 年實現『wafer in, device out』的全流程一體化、自動化的一站式微納加工,也就是一個原材料進去,一件成品器件出來。」
目前,冰刻 2.0 雛形已經在仇旻實驗室初步搭建完成,他們希望,這套冰刻 2.0 系統可以使微納加工的全過程在真空環境下完成。
圖 | 實驗室中的冰刻 2.0 雛形(來源:受訪者提供)
仇旻表示,「現在使用冰刻 2.0 在實驗室常用的樣品上都能夠形成比較複雜的三維結構,如光纖表面、晶片表面等,但和我們自己的期望還有一定距離。」 目前,仇旻團隊正在把冰刻拓展到更多材料的加工上。
為什麼用冰替代光刻膠
談及用冰替代光刻膠的優勢,仇旻給 DeepTech 的首選答案是清潔,其次是快速、簡便。
光刻膠,是微納加工過程中的關鍵材料。中國要造晶片,光有光刻機還不夠,還得打破國外對光刻膠的壟斷。但這樣的光刻膠仍有局限性。
仇旻實驗室助理研究員趙鼎說:「在樣品上塗抹光刻膠,這是傳統光刻加工的第一步。這個動作有點像攤雞蛋餅,如果鐵板不平整,餅就攤不好。同時,被抹膠的地方,面積不能太小,否則膠不容易攤開攤勻;材質不能過脆,否則容易破裂。」。
圖 | 傳統電子束光刻技術的關鍵步驟
而上述問題在 「冰膠」 上是不存在的,「我們把樣品放入真空設備後,先給樣品降溫再注入水蒸氣,水蒸氣就會在樣品上凝華成薄薄的冰層。」 趙鼎解釋道,「無常形」 的水蒸氣可以包裹任意形狀的表面,在凹凸不平和極小的樣品上也不成問題;對於非常脆弱的樣品,輕若無物的水蒸氣也不會對材質造成威脅。
傳統電子束光刻技術中,如果想要在矽晶片上,加工兩個納米級別的金屬字 「春節」,首先需要將光刻膠均勻塗抹在矽晶片表面,再用電子束在真空環境中將 「春節」 二字寫在光刻膠上。
此時,光刻膠上被寫入 「春節」 字樣的部分會發生變化,再用化學試劑將 「春節」 區域的膠洗去之後,光刻膠就會成為一塊鏤空的 「春節」 字樣模板。最後,把金屬材料 「打」 在鏤空區域,再利用化學試劑把晶片表面剩餘的光刻膠洗淨,這樣就完成了金屬字 「春節」 的加工。
而如果用冰替代光刻膠,加工過程也將大大簡化。剛剛提到的加工過程中,製造鏤空模板需要用化學試劑對光刻膠進行清洗,而使用冰可免去化學清洗的操作。因為當電子束打在冰層上,被打到的冰將直接被氣化,同樣,「刻字」 完成後,冰也無需清洗,改變溫度使其融化、或升華即可。
此外,仇旻實驗室團隊訪問學生洪宇及其他成員發現,使用冰替代光刻膠進行的微納加工,加工樣品從零下 140 度的真空環境中返回到室溫後,多餘的金屬材料將自然捲曲並與樣品分離,可被輕鬆吹除。
無需化學試劑清洗這一步驟,使整個過程簡便了許多,耗時也就相應減少。仇旻告訴 DeepTech,「在實驗室裡面,我們使用冰刻 2.0 系統進行一次微納加工,目前通常需要半天的時間,複雜的器件不超過一天。而用以前的方法,通常來說要幾天或者一個星期。」 他補充道,「工業上所有設備完備,可能不需要像實驗室研究耗時這麼多天,但對比之下,『冰刻』技術用時肯定是大大縮減的」。
更多實際應用仍在探索
「冰刻」 的研究,對於仇旻團隊來說,首先是有趣,談及實際應用,仇旻表示目前還在探索中。
現在仇旻團隊正在用冰刻來實現三維作畫以及雕塑,仇旻說,「作為一種綠色且『溫和』的加工手段,冰刻尤其適用於非平面襯底或者易損柔性材料,甚至生物材料。未來希望這項技術能夠運用到生物、微電子以及更多領域中」。
其實,最初提出把冰用於微納加工技術上的並非仇旻團隊。仇旻告訴 DeepTech,是大約 10 年前看到哈佛的一篇文章給了他靈感。那篇文章提出,用電子可以在冰上刻劃出納米級別的線條。
「這是一項令人激動的新技術」。仇旻對 DeepTech 說,「我經常和我的學生們說,一件事情有趣其實就夠了,如果能有用會更好,既有趣又有用那就完美了。」
從被冰刻技術吸引到實現儀器設備,仇旻團隊一做就是 8 年,目前,該技術仍舊屬於冷門研究方向。仇旻笑稱,「比南極的冰還冷(實驗要在零下 140 度真空環境進行)。」
雖然冷門,但其價值之高不言而喻。對於該研究,復旦大學物理系主任、超構材料與超構表面專家周磊教授評論稱,這項工作對於研發集成度更高、功能性更強的光電器件具有重要的現實意義。「冰刻」 可將光學前沿的超構表面與已經廣泛應用的光纖有機結合,既給前者找到了合適的落地平臺,又讓後者煥發了新的生機。
2012 年,仇旻從瑞典皇家工學院回國任教,隨後開啟 「冰刻」 研究計劃。入職西湖大學後,仇旻在國家自然科學基金委重大科研儀器研製項目的支持下,開始研發功能更加強大的 「冰刻系統 2.0」。
一直以來,仇旻課題組主要開展集成與納米光子學方向研究,如新型微納器件製造工藝、微納光電子器件、新型光學材料等。因在納米光子學領域的突出貢獻,仇旻於 2013 年底當選美國光學學會會士(OSA Fellow)和國際光學工程學會會士(SPIE Fellow),2015 年底當選國際電氣和電子工程師協會會士(IEEE Fellow)。
圖|仇旻團隊部分成員
談及自己的研究,他表示,「這樣的探索,有可能帶來很大的突破,也有可能什麼都沒有,但這正是基礎研究的意義和樂趣所在。」
而在中國從製造業大國向製造業強國的轉變中,探索和創新以微納加工為代表的超精密加工,正是中國製造的未來方向之一。