離子風 Intel探索晶片散熱新方向

2021-01-15 快科技

由於晶片功率的不斷提升,熱管和風扇等散熱設備的體積和重量也水漲船高,以至於阻礙機箱內的空間,甚至壓壞主板,這一點現在在顯卡散熱器上體現尤為明顯。為此,華盛頓大學,Intel和一家名為Kronos的公司正在探索一項新技術改變這一現象,這就是離子風。

技術的原理說起來非常簡單,通過正電極讓空氣帶上正電離子後流向負電極,從而產生氣流帶走熱量。就像許多離子空氣淨化器,內部沒有風扇,卻能產生一絲微風,研發隊伍中的Kronos現在就是生產空氣淨化器的廠商。

使用這一技術的散熱器實際上只需要在晶片上方安置兩個電極,因此絕對的節省機箱內空間。現在的問題是,由於晶片面積非常小,氣流降溫的效果並不明顯,只有加上熱管之後,讓氣流在鰭片中間流動才有效果,但這又違背了降低散熱器體積重量的初衷。因此,研究人員試圖將電極中間的氣流速度提高非常高的水平,能夠在小空間內達到明顯的散熱效果。

現在該技術還處在原型階段,測試系統能夠把物體從50度降低到25度,但為了達到如此高速的氣流,需提供電極高達8500V的電壓。但研發人員表示,這些困難能夠被克服,最快在2年之內,我們就可能看到離子風晶片散熱器的出現。

技術原理

試驗裝置

散熱效果

電極

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