荷蘭飛納發布臺式場發射(FEG)電鏡能譜一體機 Phenom LE:解析度...

　　儀器信息網訊 2018 年7月24日，荷蘭飛納Phenom 在儀器信息網第四屆電鏡網絡會議(iCEM 2018)首日重磅推出其顛覆性創新產品——全球首創臺式場發射(FEG)掃描電鏡能譜一體機Phenom LE：採用肖特基場發射電子槍，集背散射電子成像，二次電子成像和能譜分析於一體，解析度優於 2.5nm@15kV，放大倍數 500,000x。只需一張承重200kg以上的桌子就可以安裝飛納臺式場發射(FEG)電鏡，無需裝修改造實驗室，無需安裝防震臺、磁屏蔽。可謂是掃描電鏡行業的一個裡程碑式創新產品，從參會千名電子顯微學工作者的現場反應以及100多個產品諮詢問題，側面看到了廣大電鏡用戶對該產品的極大興趣。

飛納臺式場發射(FEG)掃描電鏡 Phenom LE

　　「飛納臺式場發射——複雜設計給飛納，極致體驗給用戶」，有著十多年電鏡工作經驗的飛納應用顧問李淑波這樣描述新產品，「該產品從立項到最後上市，耗時 6 年時間，發布多項專利，凝聚著上百名(直接、間接)研發人員的心血：為了早日讓用戶體驗產品，研發人員 24 小時不停歇，晚上下班後將監測設備搬回自家調試，如今，這款設備終於通過了荷蘭飛納苛刻的質量保證體系，遠渡重洋為忠實，勤勞，高品質要求的中國用戶服務」。

　　據介紹，飛納臺式場發射(FEG)電鏡能譜一體機Phenom LE 將為用戶節省 40% 左右的購買成本(相較於購買傳統落地式場發射電鏡和能譜)，同時可為用戶節省 20-60 萬的實驗室改造費用(安裝防震臺，磁屏蔽，裝修實驗室等)，飛納臺式場發射只需要一張桌子(千元左右)，維護也相對簡單，省錢更省心。

　　從臺式電鏡到場發射(FEG)電鏡能譜一體機，從 CeB6 燈絲到場發射燈絲——2006 年，飛納發布全球首臺使用高亮度 CeB6 燈絲的臺式掃描電鏡(Phenom Desktop SEM)，放大倍數為 10000 倍。2012 年 3 月，飛納研發出首臺電鏡能譜一體機，開創電鏡能譜設計新理念，兩年銷量達到 790 臺。

　　臺式電鏡解析度從 30nm 提升至 2.5nm——飛納臺式場發射(FEG)電鏡Phenom LE 在 15kV 條件下，解析度已提升至優於2.5nm，放大倍數為500000x。且低電壓成像優異，可以獲得更豐富表面細節。

解析度提升對比圖

（左，飛納臺式電鏡(CeB6 燈絲)；右，飛納臺式場發射(FEG)電鏡）

飛納臺式場發射(FEG)電鏡高分辨性能

（左，鋰電池隔膜；右，納米氧化鐵顆粒）

飛納臺式場發射(FEG)電鏡低電壓成像

（左，太陽能電池板 2kV；中，藥物微球 3kV；右，靜電紡絲納米蛛網 5kV）

　　場發射電鏡能譜一體機之能譜——能譜探頭由原廠集成，延續飛納電鏡能譜一體機的設計理念，腔室內部採用特殊設計結構，以保證能譜探頭最佳探測角度和探測距離，提高 X 射線收集效率。同時，此次升級的肖特基場發射電子源束流大，進一步激發樣品產生充足的 X 射線。配置超薄「窗口」(Si3N4)，元素探測範圍：Boron(5)-Americium(95)。

　　高效，簡易操作、安裝——高效率體現在15秒抽真空、全程樣品導航、全自動馬達樣

　　品臺等功能。整體操作簡化為三步：裝樣品，自動聚焦和對比度亮度調節，一鍵取圖成像。人性化的簡約操作界面幫助操作者快速學會所有操作。飛納臺式場發射(FEG)電鏡不僅具有操作便捷的優勢，還可以適應高樓層等大多數環境的安裝，且可免去磁屏蔽系統及防震臺。

　　關於選配軟體——Phenom LE 配置了多功能選配應用軟體，如顆粒系統、孔徑系統、纖維系統等，使得一些統計分析的應用可以一鍵完成。也可以根據客戶的需求定製個性化軟體，幫助客戶自動完成樣品圖像的拍攝，分析。

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