引言
隨著美國對我國華為自研晶片麒麟系列的極限施壓，華 為總裁任正非先生的華為設計得出的晶片，我國大陸還造不出的感慨，讓廣大網友為之動容。而據最新消息，ASML在1nm的研究已取得了重大進展，預計將會優先供應臺積電和三星。這無形又給國內相關企業產生了極大壓力。
再次突破摩爾定律極限，能實現1nm工藝製程的光刻機，可能還真的不是奮鬥就能一下做得出來的
所謂的摩爾定律，主要是針對晶片製造而言的，也就是指IC上可容納的電晶體數目，每隔18個月便會增加一倍，性能也將提升一倍。這是由英特爾(lntel)名譽董事長戈登·摩爾( Gordon moore)經過長期觀察總結的經驗。但是隨著物質尺寸的限制，摩爾先生曾認為他的這一定律在十年內會不再適用，但是在現代工藝的加持下，其尺寸屢屢突破摩爾定律的限制，如果ASML關於1nm光刻機研究的消息屬實，那麼，摩爾定律將會繼續向前邁進。
而理解什麼是1nm，首先是要了解一個光學的名詞「線寬」，專業來說就是Mask Pattern投影到Wafer上的Overlay線寬度。它是光刻機鏡頭成像解析度的一個指標，要實現能製造更高端的晶片，就得提升線寬，平時所說的5nm工藝製程，其實就是指線寬為5nm，同道理，1nm就是指其線寬是已達1nm，這看似已是矽晶體的物理極限，但是過幾年後還會出現比1nm更小的光刻機，暫時還真的很難說。
光刻機技術極限的突飛猛進，我們是否還真的要一味追求製造光刻機？
由於歷史各方面的原因，我國在晶片設計與製造上均遠遠落後於西方國家，製成這一局面的，也不能總是埋怨我們政策的失誤或相關企業家們不努力，而主要是一直以來，西方國家以「巴統條約」，全稱是「多邊出口管理統籌管理委員會」為藉口對我國技術與武器的禁運所致的，這就導致了我國各種技術一開始就很難獲得與分享國外的先進科技，所有的技術均需自力更生，艱苦奮鬥得來，而微電子行業又是發展迅速的行業，很多技術可能是剛剛獲得還未消化過來，國外已是到了下一代了。因此，在晶片製造方面，其實除了手機晶片外，桌上型電腦的晶片，國內的中芯國際已可以做到了12nm工藝製程，雖然跟國外的還有一定差距，但是在12nm工藝製程的加持下，臺式機的晶片其實是已能完全實現國產化製造了。而當前對於製造晶片所需的半導體材料，其捷報也頻傳，石墨烯材料是一種可製造晶片的半導體，居說是可以完全脫離光刻機就可以製造晶片的材料，而對這一方面的研究，我國恰恰是處於世界領先水平。
結語
隨著信息技術的發展，其製造工藝也在快速更新換代，對於國內相關企業來說，除了要緊跟世界發展的步伐外，更應該尋求其它的方面與路徑，因為要實現一樣的結果，其處理的辦法總是有很多的。