中國又出什麼事?光刻機核心技術被突破,外媒:蓋茨「神助攻」

2020-12-11 騰訊網

我國自從自研晶片以來,就遇到了不少的困難和麻煩,不過困難對目前的中國來說,也是一種機遇,美國對中國的「限制名單」也給我們指明了未來需要攻克的重點領域,塞翁失馬焉知非福?

目前我們遇到的最大困難,就是缺少光刻機和製造晶片的技術,而且這些技術至少需要十幾年甚至幾十年的技術沉澱才能夠完全掌握,短期內中國晶片領域會面臨非常大的壓力,不過中國的企業也不是吃素的,很多晶片廠商都取得了非常重大的突破,之前中國又有一項光刻機核心技術被突破,外媒:蓋茨「神助攻」。

當初美國對中國實行禁令的時候,蓋茨就說過美國的這種做法非常不可取,因為晶片目前是美國領先的優勢技術,中國對美國在該領域也是非常依賴的,但如果美國不給中國提供晶片,讓中國自己研發,那中國研發出晶片的時候,就是美國晶片行業衰敗的開始。

而蓋茨的預言也被中國企業一步一步的變成現實,很多技術都被我們實現了從無到有,下一步就要開始完全掌握了,中國有一家叫做華卓精科的企業,創始人朱煜之前是清華大學的一個教授,在機械工程領域擁有160多項專利,其中包含美國的9項專利。

朱煜的華卓精科最厲害的一個成績就是打破了ASML多年來的壟斷,不知道大家聽說過ASML光刻機的雙工作檯技術沒有,這在當年是ASML引以為傲的獨門技術,憑藉此技術在效率和精度上打敗了多少同行,而這一獨門絕技,最後被朱煜成功突破,國產的雙工作檯,能夠完成7nm工藝級別晶片的製造,此舉成功,意味著又一項光刻機核心技術被我國突破。

不過我們也不能高興的太早,雙工作檯只是眾多核心技術中的一個,僅僅掌握一項技術,對中國製造出光刻機的幫助,並不能起著決定性的作用,目前中國光刻機研發,依然要腳踏實力,不過有了這些科技人才,相信我們製造出光刻機也只是時間問題了。

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    國產光刻機如何突破?中芯國際和華為與上海微電子合研光刻機!由於在這方面起步比較晚,所以在技術上的落後,也是我們不得不承認發展需要有一些更好的技術,才能夠得以帶動,而我們也深知這樣的道理,所以在一起信技術領域也會卯足了勁向前發展。我國的晶片製造現在最關鍵的一個技術就是國產光刻機,如何突破?
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    據國內媒體報導,日前中科院傳來了好消息,已突破了2nm晶片的瓶頸,並成功掌握了設計2nm晶片的技術,只要機器到位,2nm晶片就能實現量產。 不過值得一提的是,雖然我國已掌握2nm晶片的技術,但我們卻不能生產這種晶片,因為我們缺少生產2nm晶片的光刻機。準確來說,世界上還沒有研製出精度達到2nm的光刻機。
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    圖截自官網ACS官網消息一經發出,外界一片沸騰,一些媒體稱此技術可以「突破ASML的壟斷」、「中國芯取得重大進展」,「中國不需要EUV光刻機就能製作出5納米製程的晶片」。該論文的通訊作者、中科院研究員、博士生導師劉前告訴《財經》記者,這是一個誤讀,這一技術與極紫外光刻技術是兩回事。
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