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北大攻克碳基晶片關鍵技術了?真不需要光刻機嗎?任正非點破真相
今天跟大家聊一聊:目前晶片領域最熱門的話題應該就屬於碳基晶片了,也就是平常所說的石墨烯晶片,那北大是否已經突破了相關技術呢?是否真的如外界所傳的那樣厲害呢?任正非一番話點破真相。光刻機的製程工藝要求並不高,眾所周知中國目前在晶片領域被美國限制,主要原因就是缺少了一臺頂級的光刻機。
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北大碳基晶片真能換道超車嗎?華為任正非說出實情
就在大家感到疑惑的時候,北大交出了答案。前幾個月之前,北大張志勇教授和彭練矛教授課題組研究成果被曝光,成功研製出碳基CMOS技術的電晶體和電路。這是碳基晶片首次被研製,也是我國在晶片領域發展的又一方向。
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不必再等光刻機?北大碳基晶片技術突破,性能比矽基晶片好10倍
國民們紛紛看到了希望,認為既然國產光刻機目前一直停留在90nm的技術水平上,一時間沒辦法突破5nm甚至是5nm以下的光刻機技術,那麼對於碳基晶片技術上得到了突破以後,能不能嘗試用碳基晶片這樣的新材料替換傳統的矽集成電路的製造壁壘?
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北大「碳基晶片」,真能擺脫ASML光刻機,實現「換道超車」?
經過極其複雜的工序,最終製作出晶片。精度越高的光刻機,越能夠製作出質量好的晶片。可是再繼續往前探索,就可能觸及到晶片的物理極限。哪怕能實現5nm,3nm,可是在這之上的2nm和1nm該如何突破呢?並不是,基礎理論學科是一切實踐結果的重要鋪墊,碳基晶片採用石墨烯材料,和矽材料相比,製成的碳基晶片能夠提升將近1000倍的性能。而且不需要過度依賴先進光刻機,不論是在性能,導電性還是散熱性等等,都有很大的優勢。
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光刻機不再重要?石墨烯晶片再次突破,性能比矽基晶片好10倍
任正非我們知道傳統晶片也就是矽基晶片,要在短時間內突破是一件很難的事情,中國對晶片的研發並非是一片空白,晶片得以量產主要分為三大環節光刻機製造過程中光刻機起到了重要的位置,全球能夠生產高端的光刻機被荷蘭ASML所壟斷,我國早先就向這家企業訂購高端的光刻機
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不等光刻機了?碳基晶片取得突破,性能或比矽基晶片強?
另外一方面,矽基晶片在製造過程中遇到了阻礙,那就是摩爾定律的極限,目前最先進的晶片製造商臺積電已經突破了3nm製造工藝,而理論上矽基晶片只能將製造工藝達到2nm,想要進一步發展幾乎是不可能的了。而就在前一段時間,北京碳基集成電路研究院宣布:中科院的張志勇教授以及彭練矛教授的基於碳基納米管晶體晶片的研發團取得了重大突破
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北大碳基晶片傳好消息,性能比半導體晶片好10倍,還需光刻機嗎
導讀:北大碳基晶片傳好消息,性能比半導體晶片好10倍,還需光刻機嗎?,這一好消息的傳來,也讓國產科技企業看到了新的希望;既然短時間裡我們無法在晶圓矽基半導體晶片領域取得突破,那麼我們也可以實現換道超車,想辦法去研發更加先進的晶片技術,於是就有了碳基石墨烯晶片的研發!
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不需要5nm光刻機?碳基晶片迎來新突破,性能超矽基晶片10倍
目前華為的晶片不容樂觀,中科院方面卻傳來一個好消息,我們的晶片或許能夠實現彎道超車,碳基晶片迎來了新的突破,碳基晶片也可以稱之石墨烯晶片,該晶片不需要經過光刻機這個流程,所以可以完美地避開光刻機這一個缺陷,並且石墨烯晶片在性能上超過矽基晶片10倍。
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我國碳基晶片的突破需要EUV光刻機嗎?
碳基晶片是否需要光刻機可以肯定的是,碳基晶片是不需要光刻機的,所以也不會使用光刻膠,要不然彭練矛和張志勇教授花費這麼大精力去研發碳基晶片還要依賴光刻機的話,那麼它的使用價值並不高也就是先用雷射將電路刻在掩蓋板上(相當於我們印刷的轉印技術),再通過用紫光通過掩蓋板將電路印在矽片上進行曝光,塗上光刻膠等刻蝕後就能在矽圓上製造出數億的電晶體,最後進行封裝測試,晶片就製作完成。而這個過程是無法離開光刻機和刻蝕機的。
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矽基晶片製造不指望光刻機,碳基晶片的研製成功展望未來
在矽基晶片製造方面,華為旗下的海思已經研究出麒麟990 7nm 、麒麟1020 5nm晶片,製造這些晶片需要依靠EUV光刻機才能完成。可是受到國外米國的限制,荷蘭遲遲沒有交付給中芯國際付了高昂費用的7nm EUV光刻機。國內現在中芯國際製造22nm、14nm晶片,7nm及5nm還需要高精度 EUV光刻機才可以進行製造。我國每年晶片的需求在3000億美元,都需要進口。
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不等光刻機了!中國石墨烯晶片迎來突破,性能是矽基晶片的十倍
但是,在矽基晶片領域,我們想要在短期內追上國外的技術,幾乎是不可能的,因為我們缺少高精度的光刻機,我們必須繞開光刻機的限制,將晶片的基礎材料升級,這個時候一個好消息傳來,那就是傳統矽基晶片在製造過程中已經接近瓶頸,即將達到
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光刻機太難,我們換道超車的唯一機會是北大研究的碳基晶片?
雖然目前北大「碳基晶片」的概念是否只存在於理論,但依然具有重大的意義,在科學界大家都知道基礎理論學科是一切實踐結果的重要鋪墊,碳基晶片採用石墨烯材料,和矽材料相比,製成的碳基晶片能夠提升將近1000倍的性能。
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碳基晶片成了華為的希望,能否換道超車?任正非說出答案
前一些日子裡,北京大學有關於碳基晶片的研究課題被曝光,其中主要研究人員包含北大的張志勇以及彭練矛教授。據稱,他們已經成功研製出了碳基CMOS技術的電晶體和電路,這也意味著中國在高端晶片領域有了重大突破,而且有了一個全新的晶片研發方向!
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不用5nm光刻機也行?碳基晶片技術突破,性能超矽基晶片10倍
設備的投入就比較固定,最貴的就是光刻機。荷蘭阿斯麥的高端光刻機,一年只生產26臺左右,售價是在1.5億美元左右,加上後期的調試和維護,至少要2億美元。光刻機的主要作用就是「顯影」,像華為這種晶片設計公司設計好晶片好,將「底片」拿給臺積電等公司。
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石墨烯晶片迎來重大突破 等不了光刻機了北大助力華為彎道超車
簡單來說,每隔兩年,晶片的性能將會翻番。如今矽基晶片的缺陷越來越明顯,再次把碳基晶片這個話題拋了出來,甚至希望這方面的突破能夠彎道超車。因為全球最先進的晶片製造商臺積電在矽基晶片的研發上已經突破到了5nm的工藝,並且在向2nm工藝進發的過程中似乎遇到了瓶頸。
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等不了光刻機了?石墨烯晶片迎來突破,性能是矽基晶片的十倍
今天跟大家聊一聊:雖然中國在晶片領域的相關技術上,和歐美國家仍然存在著不小的差距,但在該領域中國也迎來了一個好消息,中科院在碳基晶片上取得了重大突破,將比現在普遍使用的矽基晶片在性能上高出十倍。,如果真的有能力製備出碳基晶片,那麼雙方也將成立專門的科研小組,致力於碳基晶片的研發。
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國產石墨烯晶片取得突破,不必再等光刻機了?
,只要有一絲希望,它都不會放棄!與傳統的晶片相比,它又有哪些優勢呢?其實世界各國都有研究碳基晶片,但是一直都沒取得什麼突破,這次國內的進展可以說是領先了國外一步。顧名思義,碳基晶片就是採用碳基半導體材料而製成的晶片產品,石墨烯就是其中最好的碳基材料之一。與傳統的矽基晶片相比,碳基晶片的穩定性更高,功耗更少,並且更重要的是,它的性能領先了傳統晶片將近10倍!
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碳基晶片能替代矽基晶片?彭練矛攻克的技術,真能繞開光刻機嗎
今天跟大家聊一聊:目前半導體領域新型材料中,呼聲最高的就是碳基晶片了,那碳基晶片是否能夠替代矽基晶片呢,其中存在哪些難點,真的能夠繞開EUV光刻機實現量產嗎?那是否正如業界所傳的那樣,能夠繞開EUV光刻機呢?
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光刻機只是掩人耳目?中科院悄悄布局碳基晶片,真被比爾蓋茨猜中
今天跟大家聊一聊:研發光刻機只是掩人耳目?中科院悄悄布局碳基晶片,還真被比爾蓋茨猜中了。為了解決這樣的問題,前一段時間中科院正式官宣,把光刻機列入了「卡脖子」的名單,並且把它當成了首要攻克的目標,如果能夠製造出國產的光刻機,那麼就能夠改變目前在晶片領域的困境,就在我們期待國產光刻機誕生的時刻,中科院又迎來了一個好消息。
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北大碳基晶片獲得突破,會成為華為晶片的未來嗎?
近日,北京大學碳納米材料研究團隊在科學雜誌《自然》上發布了一篇論文,這個研究小組表示他們研發的碳納米材料電晶體可用於航天、電子晶片領域、甚至是核工業領域,這個研究也說明我們國家在新材料領域獲得了一些突破,將其稱之為「換道超車」也不為過。