不等光刻機了?碳基晶片取得突破,性能或比矽基晶片強?

2020-08-22 老曹嗑機

大家好,我是老曹

長久以來,我國在晶片領域一直處於較落後的水平,但近幾年國產自主科技發展的越來越好,本該是國產科技大展身手的時候,卻頻頻受到打擊,特別是華為多次被晶片禁令&34;,最近華為副總裁餘承東更是承認華為的麒麟晶片將成為絕版。

難道我們不能自主研發,要一直寄人籬下嗎?

好消息傳來

顯然,如果還是走別人走的路,繼續研發原有的矽基晶片,在被打壓的情況下,短時間之內是不可能超越國外技術。另外一方面,矽基晶片在製造過程中遇到了阻礙,那就是摩爾定律的極限,目前最先進的晶片製造商臺積電已經突破了3nm製造工藝,而理論上矽基晶片只能將製造工藝達到2nm,想要進一步發展幾乎是不可能的了。

所以要想彎道超車,必須擺脫原有思路,尋找新的技術與材料,目前全球公認的下一代晶片製造替代材料之一就是碳基半導體材料。

而就在前一段時間,北京碳基集成電路研究院宣布:中科院的張志勇教授以及彭練矛教授的基於碳基納米管晶體晶片的研發團取得了重大突破,實現了對於高純度半導體陣列的造碳納米管材料的製造,在四英寸的範圍內製備出接近百分百的碳納米管陣列。

而就在碳基晶片研發獲得一定成功後,引起了華為的注意,並且已經與該團隊展開了交流,若是以後真的製備出碳基晶片,那麼雙方也將成立專門的科研小組,一同研發碳基晶片。

到底什麼是碳基晶片?

對於碳基晶片很多人比較陌生,其實碳基晶片其實就是石墨烯晶片。

在上世紀50年代開始,科技發展飛速發展,把電晶體、電阻、電容等元件集成在一小塊矽片上,就成行了現有的矽基晶片。而進入21世紀開始,為了提高晶片的性能降低功耗,一直在增加集成電路上可容納的電晶體數量,但晶片尺寸越小,材料的所能達到的物理限制,傳統的矽基晶片的發展越來越難,因此,人們開始尋找新的材料來替代矽基晶片。

而研究表明,碳基晶片的性能或比矽基晶片提升5-10倍,在功耗上,卻只有後者的十分之一。最重要的是,碳基晶片所需要的光刻機,沒有那麼高的工藝要求,可以自主生產。大家都知道,我國晶片發展慢的最大原因,就是沒有可以生產高性能晶片的光刻機。

取代矽基晶片?或許沒那麼簡單

晶片的發展不是一朝一夕就可以做到成功的,雖然我國在碳基晶片的發展上處於領先,但是仍將需要很長一段時間的研究才能被用於手機晶片。最大的難點在於,碳元素太活潑了,而且介電常數又低,所以在研發成本以及合格率上的困難同樣十分嚴峻。

寫在最後:

或許碳基晶片研發路上充滿坎坷,但將來一旦實現量產,將不會再受制於人! 我們或許也只有實現彎道超車才會有更好的發展空間,不管怎麼說這都是一個好消息,中國芯也向前邁了一大步!

相關焦點

  • 不等光刻機了!中國石墨烯晶片迎來突破,性能是矽基晶片的十倍
    雖然中國在半導體領域的技術上,與西方國家還存在著不小的差距,但中國在晶片領域也傳來了好消息,那就是中科院在碳基晶片取得了重大突破,比現在的傳統矽基晶片性能要提升10倍。中國缺少高精度光刻機,想要製造目前世界上最先進的5nm晶片,就不能再等光刻機突破,及時的轉變研發方向,碳基晶片的概念誕生了。
  • 不必再等光刻機?北大碳基晶片技術突破,性能比矽基晶片好10倍
    國民們紛紛看到了希望,認為既然國產光刻機目前一直停留在90nm的技術水平上,一時間沒辦法突破5nm甚至是5nm以下的光刻機技術,那麼對於碳基晶片技術上得到了突破以後,能不能嘗試用碳基晶片這樣的新材料替換傳統的矽集成電路的製造壁壘?
  • 等不了光刻機了?石墨烯晶片迎來突破,性能是矽基晶片的十倍
    今天跟大家聊一聊:雖然中國在晶片領域的相關技術上,和歐美國家仍然存在著不小的差距,但在該領域中國也迎來了一個好消息,中科院在碳基晶片上取得了重大突破,將比現在普遍使用的矽基晶片在性能上高出十倍。既然在這方面達不到該有的水準,那我們就必須改變研發方向,於是就有了碳基晶片的概念產生。碳基晶片更為官方的叫法為石墨烯晶片,其主要組成成分是石墨烯碳納米管,目前市面上並沒有出現類似的技術,利用這種全新的材料來製造晶片,我們才能夠實現彎道超車,而目前我們在石墨烯晶片研發上,也取得了突破性的進展。
  • 碳基晶片取得突破,由石墨烯碳納米管制成,或比矽基晶片提升10倍
    於是有了碳基晶片這個概念,碳基晶片也叫石墨烯晶片,是由石墨烯碳納米管制成。換一種材料來製造晶片,而且是在別人沒有取得突破的情況下進行,這說明我們已經領先一步。在4英寸的基地下,製備出99.9999%的碳納米管陣列。碳基晶片取得巨大突破以後,華為就和該團隊展開了交流,如果有能力打造出碳基晶片,雙方或將展開更深入的合作。
  • 國產晶片的希望,碳基晶片取得成功,或將超越矽基晶片
    為了不讓這種情況發生,我們必須要擁有自己研發晶片的實力。但是從目前的情況來看,想要在傳統的晶片領域取得領先實在是有些異想天開。國際一些知名企業在矽基晶片已經取得了5nm製造工藝,甚至3nm製造工藝的突破。反觀國內,雖說正在迎頭追趕,但到目前7nm製造工藝還未成熟。可以說這之間的差距不止一代。所以,想要在晶片製造領域取得先,就要另闢捷徑。
  • 「碳基晶片」取得突破!性能提升10倍,碳基晶片有望實現彎道超車
    據目前了解,傳統的矽基晶片已經由國外領先進行研發,使用矽基製造出的晶片會陷入一個瓶頸當中,其中極限工藝製程大概在2nm到1.5nm,目前,臺積電的製程工藝維持在5nm,更高級別的3nm還在探索研發。即便是5nm工藝製程在我國都難以得到實現,就連中芯國際也是束手無策。
  • 「碳基晶片」取得突破!性能提升10倍,碳基晶片有望實現彎道超車
    為了取得晶片的發展進程,也有了碳基晶片這個概念,碳基晶片簡稱,由石墨烯碳納米管制成,也就是換了一種材料來製成晶片。據悉,對於碳基晶片也從概念轉入研發當中,2020年,北京大學張志勇教授和彭練矛教授取得了碳基晶片取得突破,採用全新的提純方式和組裝,製造出高純半導體陣列碳納米管材料,研製出99.9999%
  • 光刻機不再重要?石墨烯晶片再次突破,性能比矽基晶片好10倍
    光刻機製造過程中光刻機起到了重要的位置,全球能夠生產高端的光刻機被荷蘭ASML所壟斷,我國早先就向這家企業訂購高端的光刻機或許我們可以改變新的思路,改變研發的方向,於是碳基晶片的概念就開始走入人們的視野當中來。碳基晶片也稱為石墨烯晶片,這個晶片將完全的繞開光刻機設備,那也表示,光刻機將不再重要了。
  • 我國碳基晶片的突破需要EUV光刻機嗎?
    碳基晶片是否需要光刻機可以肯定的是,碳基晶片是不需要光刻機的,所以也不會使用光刻膠,要不然彭練矛和張志勇教授花費這麼大精力去研發碳基晶片還要依賴光刻機的話,那麼它的使用價值並不高也就是先用雷射將電路刻在掩蓋板上(相當於我們印刷的轉印技術),再通過用紫光通過掩蓋板將電路印在矽片上進行曝光,塗上光刻膠等刻蝕後就能在矽圓上製造出數億的電晶體,最後進行封裝測試,晶片就製作完成。而這個過程是無法離開光刻機和刻蝕機的。
  • 不等光刻機了?石墨烯晶片迎來重大突破,性能是矽基晶片的十倍
    與此同時,我國在各個方面都取得不錯的成就,甚至有的趕超許多發達國家,位居世界領先地位。而我國前段時間傳來好消息,石墨烯晶片迎來重大突破,性能是矽基晶片的十倍,很多網友表示,不等光刻機了?一起來看一下吧。
  • 不需要5nm光刻機?碳基晶片迎來新突破,性能超矽基晶片10倍
    目前華為的晶片不容樂觀,中科院方面卻傳來一個好消息,我們的晶片或許能夠實現彎道超車,碳基晶片迎來了新的突破,碳基晶片也可以稱之石墨烯晶片,該晶片不需要經過光刻機這個流程,所以可以完美地避開光刻機這一個缺陷,並且石墨烯晶片在性能上超過矽基晶片10倍。
  • 碳基晶片能替代矽基晶片?彭練矛攻克的技術,真能繞開光刻機嗎
    今天跟大家聊一聊:目前半導體領域新型材料中,呼聲最高的就是碳基晶片了,那碳基晶片是否能夠替代矽基晶片呢,其中存在哪些難點,真的能夠繞開EUV光刻機實現量產嗎?那是否正如業界所傳的那樣,能夠繞開EUV光刻機呢?
  • 不用5nm光刻機也行?碳基晶片技術突破,性能超矽基晶片10倍
    設備的投入就比較固定,最貴的就是光刻機。荷蘭阿斯麥的高端光刻機,一年只生產26臺左右,售價是在1.5億美元左右,加上後期的調試和維護,至少要2億美元。光刻機的主要作用就是「顯影」,像華為這種晶片設計公司設計好晶片好,將「底片」拿給臺積電等公司。
  • 晶片製造又有好消息傳來,碳基晶片取得成功,矽基晶片成過去式?
    國際一些知名企業在矽基晶片已經取得了5nm製造工藝,甚至3nm製造工藝的突破。反觀國內,雖說正在迎頭追趕,但到目前7nm製造工藝還未成熟。可以說這之間的差距不止一代。所以,想要在晶片製造領域取得先,就要另闢捷徑。
  • 北大碳基晶片取得新突破,或將放棄使用光刻機?任正非道出真相
    晶片一直是最近的熱門話題,缺少光刻機,晶片代工被限制,沒有核心工藝,無法生產晶片,種種難題圍繞在了中國的身旁,碳基晶片突然橫空出世,讓許多人鬆了一口氣,但是,碳基晶片真的那麼強嗎?任正非說出了自己的觀點。目前我們所使用的晶片都是採用矽基製成。
  • 矽基晶片製造不指望光刻機,碳基晶片的研製成功展望未來
    在矽基晶片製造方面,華為旗下的海思已經研究出麒麟990 7nm 、麒麟1020 5nm晶片,製造這些晶片需要依靠EUV光刻機才能完成。可是受到國外米國的限制,荷蘭遲遲沒有交付給中芯國際付了高昂費用的7nm EUV光刻機。國內現在中芯國際製造22nm、14nm晶片,7nm及5nm還需要高精度 EUV光刻機才可以進行製造。我國每年晶片的需求在3000億美元,都需要進口。
  • 石墨烯晶片迎來突破,晶片國產化有轉折?性能是矽基晶片的十倍
    ,才能完成技術突破,國家也助力晶片行業的發展,中科院近期就傳來了一個好消息,在碳基晶片領域取得突破,相比於現在國際通用的矽基晶片的性能,要高出十倍以上。由於我國在晶片行業上技術相對落後,而美國則各種專利一大堆,我們想要在傳統的矽基晶片上繞開美國的專利,完全自己研製出一套技術來,實在是難上加難,因為可用的方法大家都試過了,目前用的就是最優解,那如果換個材料呢?碳基晶片便走入了科研人員的目光。
  • 北大「碳基晶片」,真能擺脫ASML光刻機,實現「換道超車」?
    碳基晶片市場上主流的晶片統稱為矽基晶片,採用矽材料製造而成,所有的先進技術都是針對矽基晶片來研發的。在此之前,沒有人想到過還能突破矽材料去製造晶片,聽起來就匪夷所思。並不是,基礎理論學科是一切實踐結果的重要鋪墊,碳基晶片採用石墨烯材料,和矽材料相比,製成的碳基晶片能夠提升將近1000倍的性能。而且不需要過度依賴先進光刻機,不論是在性能,導電性還是散熱性等等,都有很大的優勢。
  • 北大碳基晶片傳好消息,性能比半導體晶片好10倍,還需光刻機嗎
    導讀:北大碳基晶片傳好消息,性能比半導體晶片好10倍,還需光刻機嗎?光刻機才行,而一臺光刻機設備暗含上萬個零部件,也並不是說研發就能研發出來的,因此光刻機也就成為了國產半導體企業發展所無法逾越的一座大山;不過老話說的好,我們不能一棵樹吊死,高科技是層出不窮的,就算是沒有光刻機,也將有更先進的技術出現,現有的晶片技術也有可能被替代;科技發展的規律,從簡單發展到複雜,再從複雜發展到進一步的簡單
  • 石墨烯晶片迎來突破,晶片國產迎來轉折?性能是矽基晶片的十倍
    我國在晶片領域的關鍵技術上,和歐美國家還是有著很大的差距,美國就是晶片設計生產和製造專利的大拿,由於現在的矽基晶片生產,幾乎都繞不開美國的技術,畢竟已經成熟的製作工藝是大家共同尋找研究出的最優解,而且不光是晶片,在生產晶片的光刻機上,也繞不開美國的專利,而且目前光刻機世界上還沒有一個國家能夠獨自生產出來,就算是美國也不行