我國完成碳基晶片關鍵技術突破，未來晶片製造或不再受限於光刻機

2020-05-27 隨心攝影隨意而活

北京元芯碳基集成電路研究院昨日舉辦媒體發布會宣布，中國科學院院士、北京大學教授彭練矛和張志勇教授帶領的團隊，經過多年研究與實踐，解決了長期困擾碳基半導體材料製備的瓶頸，如材料的純度、密度與面積問題。

我國完成碳基晶片關鍵技術突破，未來晶片製造或不再受限於光刻機

受此消息影響，今天在大盤迴調的背景下，碳基半導體材料概念股今天大面積漲停。至上午收盤時，丹邦科技(9.440, 0.86, 10.02%)、中科電氣(8.180, 0.74, 9.95%)、銀龍股份(4.020, 0.37, 10.14%)漲停。

目前晶片製程已經達到5nm，而如果進一步縮小，那麼晶片上的設計元素就和10個獨立原子差不多大了。在這樣的大小之下，電子的行為會開始變得不穩定：經典物理學定律在這裡將不再適用，並會被不穩定性原理所取代。或許有能力把晶片做到這麼小，但它們是否還能正常工作就說不定了。

碳基晶片卻可以突破這個界限，據彭教授介紹，目前已經突破碳基半導體材料製備的瓶頸，將進入原型晶片驗證的快車道！

現在世界上最先進的晶片技術和製造晶片的光刻機，都是基於矽材料，因此一旦我們完成碳基晶片的研發，我們或將不再受制於光刻機，也將不再受制於美國了！

60年前，我們本有機會在林蘭英、王守覺、王守武等科研人員的帶領下，完成在半導體領域對美國的超越，但是最終由於種種原因失敗了。

在美國的打壓和包圍下，我們從來沒有像今天這樣意識到晶片的重要性。如今，碳基晶片的突破，我們再一次有機會彎道超車，而這一次，我們除了勝利已經無路可走！

加油，中國芯！

我國完成碳基晶片關鍵技術突破，未來晶片製造或不再受限於光刻機


相關焦點

  • 再次確認,碳基晶片無需高端光刻機!中國芯彎道超車
    目前全球能生產5nm工藝製程光刻機的唯有荷蘭的ASML，其大部分產能都給了晶片代工巨頭臺積電，由於ASML所製造的光刻機含有大量的美國零件與技術，在晶片禁令的限制之下，我們是一機難求。　　顯而易見，我國若想在高端智能領域實現晶片自主，就必須突破高端光刻技術。　　需要強調的是，光刻技術的研發堪比原子彈，在沒有外力的情況下，閉門造車的難度可想而知。
  • 國產晶片另闢蹊徑,碳基晶片一旦成功,有望繞開荷蘭光刻機
    文/BU 審核/子揚 校正/知秋本文首發於百家號，禁止抄襲轉載晶片製造是當前半導體領域，最明顯的一大短板，卡住了國產晶片的脖子。我國企業想要製造出5nm、3nm等高精度晶片，就不得不依賴荷蘭ASML的EUV光刻機。
  • 碳基晶片不用光刻機?知道晶片製造原理,才不會被美國當笑話
    為將來實現碳基晶片打下了堅實的基礎。 可正式因為碳基材料的突破，也引出不少笑話話題。譬如碳基晶片不需要光刻機，中國「芯」要彎道超車。 據了解，該團隊實現了，能在1微米空間裡放下100至200根碳納米管。碳納米管的直徑為1.45±0.23nm 。 直徑為1.45納米的電晶體，不用光刻機，難道是用關公大刀雕刻出來嗎。
  • 繼蝕刻機全球領先後,晶片製造關鍵設備再突破!光刻機也開始合圍
    而晶片製造中設備是關鍵，其中包括光刻機、蝕刻機、離子注入機等等，這些設備我們都在研發突破，下面帶大家了解下這些設備國產化進展。蝕刻機已達到全球領先光刻機是晶片製造的魂，蝕刻機是晶片製造的魄，要想製造高端晶片，這兩個設備都必須頂尖。
  • 碳基晶片關鍵技術被北大攻克，未來不需要光刻機？任正非說出實情
    不過，最近北大大學就有了新的突破，彭練矛的團隊，成功地使用碳納米管研製出了晶片，性能超過了同樣工藝級別的矽晶片，可能有助於解決未來摩爾定律遇到的瓶頸，甚至可以幫助國產晶片「彎道超車」。華為所需要的晶片是很高端的，對於光刻機的要求很高，難不成這種新型碳基晶片還不需要光刻機？或許這種新的碳基晶片真的不需要晶片。未來不需要光刻機現代的晶片製作工藝都是源於老美，具體一點就是來自加利福尼亞的矽谷。
  • 取得突破！中科院放話攻克光刻機，未來中國晶片或不再受制於人
    我相信只要是對於我國光刻機或者是晶片，有一定了解的人，都知道我們的晶片現在面臨著一個特別嚴重的問題，那就是受到了其他國家的限制，我們現在能夠研製出特別先進的晶片，但是我們卻不能夠將它生產出來，其最主要的原因是我們缺乏了將它生產出來的技術。
  • 成功繞過光刻機?碳基晶片令美技術束手無策,晶片將成「白菜價」
    要說這個世界這麼多個國家當中，能夠領跑半導體行業的國家非美國莫屬，半導體可以說的當代工業發展的支柱，而美國最先發展，而且大部分的核心技術都掌握在了自己的手中，代工廠遍布於整個世界，在全球實現了壟斷市場。
  • 晶片製造技術系列科普1:生產晶片的光刻機到底長啥樣?
    晶片是電子產品的關鍵裝置，其重要性不言而喻。生產一塊晶片最關鍵的設備是光刻機，這種高精度的設備對於技術要求以及部件配置的要求都是很高的，目前能夠真正掌握光刻機技術的國家只有日本、荷蘭、德國這三個。相比之下，荷蘭的光刻機技術更為先進，世界上絕大多數的晶片生產廠家都需要從荷蘭進口光刻機。那麼，光刻機到底長啥樣呢？所謂光刻機，在原理上跟照相機差不多，不過它的底片是塗滿光敏膠的矽片。各種電路圖案經雷射縮微投影曝光到光敏膠上，光敏膠的曝光部分與矽片進行反應，將其永久的刻在矽片上，這是晶片生產的最關鍵步驟。
  • 北大攻克碳基晶片關鍵技術，就不需要光刻機嗎？任正非一語中的
    晶片作為科技領域的核心技術，一直以來都是各個國家研究的對象，而現在我們使用最多的就是矽基晶片，但是由於摩爾定律的原因，矽基晶片的前景也很有可能快到極限了，這就意味著 晶片領域要還想繼續發展就需要「掉轉車頭」了。
  • 有望成為下代晶片材料，碳基晶片的關鍵在哪？能繞開荷蘭光刻機嗎
    開篇提醒：目前在半導體行業，碳基晶片的呼聲可謂是日益高漲啊！因為從理論和實驗結果上講，這種新材料可以讓我國在下一代晶片材料中佔據主導地位。但是本期內容呢，我將從晶片的工藝出發，給碳基晶片降降溫，說清楚碳基晶片在短時間內，為什麼難以繞開荷蘭EUV光刻機，解除華為乃至整個行業的晶片困境。我們先說說碳基晶片是不是靠譜的。
  • 北大突破碳基晶片量產關鍵技術！我國晶片可望「換道超車」
    該項成果在國際上至少能保持2年的領先優勢，表明用碳基晶片取代現有的矽基晶片距離實用化又邁近了一大步，我國可望在碳基晶片研發上「換道超車」！」 北大碳基晶片突破了什麼關鍵技術？與國外矽基技術製造出來的晶片相比，我國碳基技術製造出來的晶片在處理大數據時不僅速度更快，而且至少節約30%的功耗。 我國碳基晶片的重大突破會帶來什麼？
  • 中國芯彎道超車的關鍵技術-碳基晶片
    最近國產八英寸石墨烯晶圓實現了小批量生產，似乎又給國產晶片換道超車打了一劑興奮劑。因為理論上來說，只要在石墨烯晶圓上繼續進行切片、刻蝕、離子注入等操作，就能夠繞過光刻機做出碳基晶片。 我們國產晶片終於不用再被別人卡脖子了，石墨烯會成為國產晶片換道超車的一張王牌嗎？
  • 國產光刻機獲得突破，或將不再受限於人
    我國近年來，在不少領域都取得了突破，但是唯獨在晶片、光科技領域是跟不上發達國家的腳步的。不過我們的中科院卻是接連突破，雖然接連突破，但是因為我國起步較晚，還是比較受限於人的。我國光科技領域如今完成了突破，自主研發晶片指日可待！
  • 事關晶片的兩個好消息,光刻機和蝕刻機突破,高通蘋果或被限制
    ，涉及各領域前沿知識，對工藝和設備有著極高要求隨著生活水平提高，晶片被廣泛應用於工業產品中，但是在晶片製造方面，我國始終與全球一線行列的國家有些差距，主要原因是光刻機和蝕刻機的限制不過，在我國企業不斷探索前進中，這樣的情況逐漸被改善，最近就傳來兩個關於晶片製造的好消息，讓國產自主晶片製造有了一定程度的底氣，讓國外晶片製造企業緊張起來
  • 中科院首創2納米晶片關鍵技術,還依賴光刻機嗎中國晶片迎轉機
    完全是免費訂閱，請放心關注今天跟大家聊一聊：中國在晶片領域可以說一路波折，由於缺乏關鍵設備光刻機，我們在該領域也很難有所突破，那中芯國際是如何逆轉實現量產14納米晶片的呢？並掌握2納米的關鍵技術的，本期我們就來一起了解一下。
  • 中國再獲晶片突破:其實,光刻機並非唯一關鍵
    而談及到晶片，很多人便開始想到了光刻機，光刻機是晶片在製造過程中的一個關鍵設備，影響著晶片可以達到的製造工藝，對於現在的半導體晶片來說，製造工藝的提升，便可以使得同等面積下的晶片，集成更多的電晶體，進而帶來更高的算力。　　這也就是為什麼晶片的製造工藝要越來越高，也為什麼EUV光刻機越來越重要的原因，它們可以直接帶來計算能力的提升，增加產品的使用效率。
  • 中國再獲晶片突破:其實,光刻機並非唯一關鍵!
    而談及到晶片，很多人便開始想到了光刻機，光刻機是晶片在製造過程中的一個關鍵設備，影響著晶片可以達到的製造工藝，對於現在的半導體晶片來說，製造工藝的提升，便可以使得同等面積下的晶片，集成更多的電晶體，進而帶來更高的算力。
  • 光刻機並非唯一?中國晶片再獲突破,騰訊功不可沒
    為了滿足自給自足的需求，我國決定要在2025年將晶片自給率提升到70%。 去年的晶片自給率是在30%，如此大的上升幅度，就必須擁有大量的光刻機來製造晶片。 為此中科院宣布要入局光刻機，ASML也在加快國內市場的布局，不排除會向ASML採購光刻機。
  • 碳基晶片不用光刻機？若傳到美國就是「笑話」
    譬如碳基晶片不需要光刻機，中國「芯」要彎道超車。據了解，該團隊實現了，能在1微米空間裡放下100至200根碳納米管。碳納米管的直徑為1.45±0.23nm 。直徑為1.45納米的電晶體，不用光刻機，難道是用關公大刀雕刻出來嗎。
  • 中科院正式確認,晶片設計突破2nm,但光刻機才是關鍵
    ：在中科院眾多院士的不懈努力下，我國自主研發的晶片技術在關鍵技術上有了重大突破，晶片設計突破2nm。臺積電目前也只能5nm工藝製程生產，中芯國際也只能14nm的製程工藝，中科院突然發力，突破2nm技術這給我們的中國科技帶來春天。雖然我們在晶片突破了2nm技術，但是晶片能夠得到量產還有最大的因素那就是光刻機設備。