荷蘭媒體:中國光刻機已經突破7nm,先進的不像是中國能發明的

2020-11-30 網易新聞

2020-11-29 20:21:36　來源: 萌寵大事件資訊

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　　我國半導體領域存在的缺點大多人都非常清楚，但是技術行業並不是投入資金後就能看到立竿見影的效果的，因此在技術缺口的情況下，我國只能進口國外先進的設備，這樣一來使我們對外國產品非常依賴。但是當前的國際局勢已經不允許我們依靠進口了。所以目前對半導體的研究更是迫在眉睫。

　　

　　實際上，我國目前對該領域的重視程度很高。中國科學院宣布介入此事後，許多中國公司也開始轉向半導體並開闢自己的研究之路，因為依靠自主研發需要大量時間。所以還有一些中國公司找到了領先的日本光刻機公司進行合作。其中，尼康和佳能也接手了我國拋出的橄欖枝。此外，中芯國際還宣布，自主研發的N 1工藝技術現在可以與

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  • 荷蘭專家:中國光刻機已經突破7nm,先進的不像是中國能發明的
    ：中國的光刻機已經成功攻克了7納米技術，先進的不像是來出自東方之手。但是當前的國際局勢已經不允許我們依靠進口了。所以目前對半導體的研究更是迫在眉睫。　　　　實際上，我國目前對該領域的重視程度很高。中國科學院宣布介入此事後，許多中國公司也開始轉向半導體並開闢自己的研究之路，因為依靠自主研發需要大量時間。所以還有一些中國公司找到了領先的日本光刻機公司進行合作。其中，尼康和佳能也接手了我國拋出的橄欖枝。此外，中芯國際還宣布，自主研發的N + 1工藝技術現在可以與臺積電的7nm工藝一較高下。
  • 光刻機是誰發明的_中國光刻機與荷蘭差距
    光刻機是誰發明的 　　工業能力是一個國家國防實力和經濟實力的基礎，而光刻機是現代工業體系的關鍵部分，不過目前荷蘭光刻機是最有名的，出口到全球各國，口碑很好。 　　系統集成商上的差距 　　目前我國能量產的最先進光刻機是90nm工藝，由上海微電子（簡稱SMEE）生產。這點和荷蘭ASML生產的7nm光刻機可不是一代二代的差距，完全是天壤之別，在整個產業鏈中我們就是屬於低端產品，連中端都算不上。
  • 荷蘭巨頭1nm光刻機迎新突破!中國訂購的EUV光刻機呢?
    據TechWeb網站11月30日最新報導，近日荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）又送來一則好消息，該司已經與比利時半導體研究機構IMEC共同完成了1nm光刻機的設計工作。據了解，先進位程的光刻機對於曝光設備的解析度要求更高。與此同時，ASML已經完成了0.55NA曝光設備的基本設計工作。按照阿斯麥的計劃，預計相應的曝光設備全線準備好之後，會在2022年實現商業化。
  • 國產光刻機迎來嶄新突破,向荷蘭光刻機說再見,中國芯已強勢崛起
    我國的國產光刻機迎來嶄新突破正是由於華為的相關新聞讓大家都知道了中國在晶片上的短板，但是大家所不知道的是，想要真正突破晶片的封鎖，最重要的是光刻機技術，而高端的光刻機被稱為是世界上最精密的儀器之一。目前在光刻機技術上最為領先的是荷蘭的ASML公司，甚至可以說ASML公司相當於壟斷了這一技術。
  • 90nm國產光刻機對比5nm ASML光刻機,差距很大
    （文章來源：網絡整理） 眾所周知全球最大的兩個晶片代工廠是三星和臺積電，雖說臺積電和三星如果斷供，像華為麒麟高端晶片可能就會癱瘓，但三星和臺積電也沒有自己的光刻機，只能跟荷蘭ASML公司購買。
  • 中科院突然宣布晶片設計突破2nm 但批量生產受到光刻機的限制
    據國內媒體報導，中國科學院近日傳來好消息，中科院突破了2nm晶片的瓶頸，成功掌握了2nm晶片的設計技術。只要機器就位，2nm晶片就可以批量生產。好消息的傳來，讓國內科技企業大呼過氣。要知道，沒有一個國家掌握了2nm晶片的技術。中國科學院這次走在世界前列。
  • 就算給中國圖紙,也造不出光刻機已經過去,中國專家發聲了
    看見這樣的報導，其實這是對我國看見企業的一種羞辱，在十幾年前，由於我國受到各種因素的影響，確實在精密製造的光刻機領域沒有能力完成，小小的一塊晶片就如同一個碩大的城市，而要完成這一個城市的前提就是要有光刻機，光刻機製造需要的是配套的產業鏈，每一個細小的零部件都是全世界最尖端的技術，生產是一件事情，其次就是組裝，這樣高精密的機械，組裝都需要全球最優秀的人才，才能完成
  • 荷蘭巨頭壟斷全球,1nm光刻機取得突破,三星、臺積電迎來新機遇
    隨著工藝製程的微縮，晶片行業摩爾定律面臨物理極限，不少業內人士認為，晶片製作工藝將止步於2nm。 日前，臺積電宣布已經攻克2nm工藝技術難關，為晶片領域帶來延續摩爾定律的希望。但摩爾定律能否延續不單單依靠晶片製造廠商，還要看光刻機製造商能否實現技術突破。
  • 中科院正式確認,晶片設計突破2nm,但光刻機才是關鍵
    ，扼制中國科技的發展，眾所周知晶片設備在國內還是比較先進的，我國在對晶片的研發上還需要突破。臺積電目前也只能5nm工藝製程生產，中芯國際也只能14nm的製程工藝，中科院突然發力，突破2nm技術這給我們的中國科技帶來春天。雖然我們在晶片突破了2nm技術，但是晶片能夠得到量產還有最大的因素那就是光刻機設備。
  • 中科院5nm雷射光刻,是否意味可以取代荷蘭的ASML光刻機?
    中科院的5nm雷射光刻，是否意味著擺脫了EUV？眾所周知，半導體製造領域，要想生產5nm晶片，必須要使用荷蘭ASML的EUV光刻機，而荷蘭的ASML是全球唯一的能夠量產EUV光刻機的公司，我國大陸至今沒有一臺EUV光刻機，可以說是一項「卡脖子」的技術。
  • 荷蘭ASML：公開圖紙也造不出來？中科院：全力攻克光刻機
    導讀：荷蘭ASML：公開圖紙也造不出來？中科院：全力攻克光刻機！，而國產最先進的光刻機也僅僅只有28nm工藝水平，這與荷蘭ASML公司所研發的5nm的EUV光刻機相比，還有很大的差距！，這一公司幾乎掌握著全球最頂級光刻機的所有話語權；正因為如此，讓荷蘭ASML公司說話的時候也非常的硬氣，曾經ASML公司在接受採訪的時候表示：就算是公開光刻機的圖紙，中國也造不出來先進的EUV光刻機！
  • 荷蘭ASML突破1nm光刻機,那中國訂購的EUV光刻機呢?
    ASML突破1nm光刻機目前世界上等級最高，技術最尖端的光刻機設備是EUV光刻機。這類光刻機用波長在10到14nm的極紫外光作為光源，幾乎每一個EUV光刻機的零部件都至關重要。甚至有的零部件想要調試完成，需要經過上百萬次的試驗，花費十年時間也不為過。
  • 兵進光刻機,中國晶片血勇突圍戰 - 光刻機,ASML,華為,臺積電,中芯...
    根據日媒披露，中芯國際在2018年就向荷蘭光刻機巨頭ASML訂購了一臺EUV光刻機。ASML是目前全球唯一能生產這種設備的廠商。雙方計劃的是2019年初交付設備。然而，這臺光刻機的交付之路可謂崎嶇多舛，但直到目前，仍然沒有在中國落地。
  • 媒體稱中科院實現5nm晶片光刻機,傳到美國那裡就是「笑話」
    這幾天，科技界被中科院蘇州納米所的5nm雷射直寫光刻設備刷屏了。媒體解讀也不少，譬如稱「中國彎半導體道超車」、「光刻機突破美國封鎖」、「荷蘭ASML EUV光刻機白菜價」。看似華麗轉身，實際還需要媒體用點心，不然傳到美國那裡會被當成「笑話」的。
  • 國內唯一一臺7nm光刻機,就這樣亮相登場了?讓人痛心!
    光刻機是晶片生產過程中不可缺少的機器設備，而且只有高端的光刻機才能生產出高精度的晶片。 目前，國產光刻機的最高精度水平為28nm，來自於上海微電子，將於明年正式交付使用。雖然28nm的光刻機已經能夠滿足大部分晶片的生產要求了，但是這個水平還遠遠不夠，要知道臺積電從ASML進購的高端光刻機都能生產5nm晶片了！
  • 光刻機是什麼?為什麼荷蘭的最流弊
    通俗易懂的說，光刻機就是在製造晶片時不可或缺的工具，沒有光刻機就沒有晶片。 在能夠製造機器的這幾家公司中，尤其以荷蘭（ASML）技術最為先進。價格也最為高昂。光刻機的技術門檻極高，堪稱人類智慧集大成的產物。
  • 中科院突破5nm光刻技術壟斷？事實殘酷卻又是把雙刃劍
    （記者 陳洲）這半年來，關於中科院「突破ASML的壟斷」、「不用EUV光刻機就能造成5nm晶片」的消息刷爆了自媒體圈。然而，情況真是這樣嗎？《財經》新媒體近日的報導道出了事實真相：今年7月，中科院蘇州所聯合國家納米中心在《納米快報》上發表了題為《超解析度雷射光刻技術製備5納米間隙電極和陣列》的研究論文，介紹了該團隊研發的新型5 納米超高精度雷射光刻加工方法。
  • 國產光刻機「困局」:滯留90nm工藝,中國企業嚴重依賴ASML公司
    編輯按：不久前，荷蘭ASML公司斷供中芯國際，7nm光刻機的消息引發了很多人的討論。不少人認為，在這個國產晶片發展的關鍵時期，缺少高端光刻機，對未來晶片行業的發展是十分不利的。還有很多網友提到了中國可以自主發展光刻機產業，擺脫對進口產品的依賴。
  • 中科院突破5nm光刻技術壟斷?事實殘酷卻又是把雙刃劍
    自媒體上的評論認為，5納米光刻新技術已經實現了突破，接下來只要在設備製造和生產商再次獲得突破，那麼未來可能5納米直刻技術就能夠很好的應用到生產中去了。事實真是如此嗎？該消息引發外界沸騰，部分媒體稱「突破ASML的壟斷」、「中國芯取得重大進展」，「中國不需要EUV光刻機就能製作出5納米製程的晶片」。
  • 突破5nm光刻技術瓶頸，中科院再次傳來好消息，中國芯未來可期
    最近，中科院再次傳來好消息，我國的光刻技術有了新的突破，有了先進的光刻技術，未來中國人通過光刻機就可以研發自己的晶片5nm光刻技術獲重大突破不得不說，2020年是一個神奇的年份，我國先是成功研製出了28nm的光刻機，後來經過多次試驗又突破了10nm和7nm的光刻技術，而在最近，世界上最頂尖的5nm光刻技術也被我國科學家成功突破。