可用於7nm晶片光刻膠通過客戶驗證,南大光電巨量收漲8%

2021-01-11 觀察者網

觀察者網·大橘財經訊（文/呂棟 編輯/尹哲）在集成電路製造領域，光刻機被稱為是推動製程技術進步的「引擎」，而光刻膠就是「燃料」。

未來幾年，隨著中芯國際、長江存儲、長鑫存儲等晶圓廠進入產能擴張期，高端光刻膠的國產化替代迎來重要窗口。

12月17日晚間，南大光電公告披露，其控股子公司寧波南大光電材料有限公司（下稱：寧波南大光電）自主研發的ArF光刻膠產品近日成功通過客戶使用認證，可用於90nm-14nm甚至7nm技術節點。

「本次產品的認證通過，標誌著『ArF光刻膠產品開發和產業化』項目取得關鍵性的突破，成為國內通過產品驗證的第一隻國產ArF光刻膠，為全面完成項目目標奠定堅實的基礎。」公告中寫道。

南大光電內部人士今天在接受觀察者網採訪時透露，ArF光刻膠生產線已建成，可根據客戶需要量產。

受上述消息影響，創業板上市的南大光電今天高開近14%，最終收漲8%，成交額接近16億元，而該公司收盤時的市值為146億元。

不過，需要注意的是，截至今年上半年，光刻膠業務還未給南大光電貢獻營收。該公司坦言，ArF光刻膠存在穩定量產周期長、風險大等特點，後續是否能取得下遊客戶訂單存在較多不確定性。

最近三年，南大光電淨利潤增速驟降，2019年扣非淨利潤僅為上市前的五分之一，而過去兩年來該公司股價漲幅達523%。

公告截圖

量產階段仍存諸多風險

觀察者網梳理相關資料發現，光刻膠是一種對光敏感的混合液體，可以通過光化學反應，經曝光、顯影等光刻工序將所需要的微細圖形從光罩（掩模版）轉移到待加工基片上。

依據使用場景，待加工基片可以是集成電路材料、顯示面板材料或者印刷電路板（PCB）。

因此，按應用領域分類，光刻膠又可分為PCB光刻膠、顯示面板光刻膠、半導體光刻膠及其他光刻膠。目前，國產光刻膠以PCB用光刻膠為主，顯示面板、半導體用光刻膠供應量佔比極低。

浙商證券2020年4月研報截圖

作為技術難度最大的光刻膠品種，半導體光刻膠也是國產與國際先進水平差距最大的一類。

長時間以來，為滿足集成電路對密度和集成度水平的更高要求，光刻機不斷通過縮短曝光波長的方式，提高極限解析度。

目前，光刻機光源波長由紫外寬譜逐步縮短至g線（436nm）、i線（365nm）、KrF（248nm）、 ArF（193nm）、F2（157nm），以及最先進的EUV(<13.5nm)線水平。

本次南大光電通過客戶認證的光刻膠，就是ArF光刻膠。

國元證券2019年1月研報截圖

南大光電錶示，ArF光刻膠材料可以用於90nm-14nm甚至7nm技術節點的集成電路製造工藝，廣泛應用於高端晶片製造（如邏輯晶片、 AI晶片、5G晶片、大容量存儲器和雲計算晶片等）。

認證評估報告顯示，「本次認證選擇客戶50nm快閃記憶體產品中的控制柵進行驗證，寧波南大光電的ArF光刻膠產品測試各項性能滿足工藝規格要求，良率結果達標。」

南大光電認為，本次通過客戶認證的產業化意義大。

「本次驗證使用的50nm快閃記憶體技術平臺，在特徵尺寸上，線製程工藝可以滿足45nm-90nm光刻需求，孔製程工藝可滿足65nm-90nm光刻需求，該工藝平臺的光刻膠在業界有代表性。」公告中稱。

至於為何選在50nm快閃記憶體產線驗證，南大光電內部人士向觀察者網表示，該公司產品分別在不同客戶處驗證，有邏輯有存儲的。因為存儲的先通過，就先公告，其他的還在努力中。

不過，該人士並未向觀察者網透露，公告中的客戶是國內或者國外廠商。

IC光刻流程圖

目前，全球光刻膠市場基本被美日大型企業壟斷，中國大陸內資企業所佔市場份額不足10%。

2019年，日韓貿易爭端中，日本就曾通過禁運光刻膠對整個韓國半導體行業造成打擊。

為支持國內企業加大光刻膠開發力度，2000年以來，我國出臺多項政策支持半導體行業發展。

2006年，國務院在《國家中長期科學和技術發展規劃綱要(2006-2020年)》中提出《極大規模集成電路製造技術及成套工藝》項目，因次序排在所列16個重大專項第二位，在業內被稱為「02專項」。

公告顯示，「ArF光刻膠產品開發和產業化」就是南大光電承接國家「02 專項」的一個重點攻關項目。

券商統計的信息顯示，南大光電2017年承接的ArF光刻膠項目總投資額為6.6億元，其中國撥資金1.9億元，地方配套資金1.97億元，使用上市時的超募資金1.5億元及其他自籌資金。

該項目擬通過3年達到年產25噸ArF乾式和浸沒式光刻膠產品的生產規模，預計達產後年銷售收入平均為1.48億元，實現淨利潤0.6億元，投資回收期6.8年（包含3年建設期），內部報酬率為18%。

截至今年上半年，光刻膠業務尚未給南大光電貢獻營收。

該公司在公告中表示，ArF光刻膠產品與客戶的產品銷售與服務協議尚在協商之中。

「尤其是ArF光刻膠的複雜性決定其在穩定量產階段仍然存在工藝上的諸多風險，不僅需要技術攻關，還需要在應用中進行工藝的改進、完善，這些都會決定ArF光刻膠的量產規模和經濟效益。」

深交所互動易截圖

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