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《摩爾定律已死,半導體行業發展會停滯嗎?》、《摩爾定律這次真的到頭了! 》、《存在 50 年的摩爾定律正在失靈?》……近年來,關於摩爾定律即將走向盡頭的報導簡直數不勝數,各方專家也紛紛發言表態,支持這一說法。如此看來,這一科技界的鐵律真的沒有繼續生存下去的空間了嗎?正當我們為之疑惑嘆息之時,計算技術界突然傳來了一個好消息:科學家已將電晶體製程從 14 nm縮減到了 1 nm!這樣,同樣體積的晶片上就能集成更多電晶體,摩爾定律有希望繼續它的傳奇預言!
這一巨大突破是由勞倫斯伯克利國家實驗室的一個團隊完成的。在阿里·加維(Ali Javey)的帶領下,他們開發出的新型電晶體柵極線寬只有1納米。(很難想像 1 nm到底有多小?以人類的髮絲作對比,後者寬度僅為約 5 萬納米。)
研究成果
計算機技術界長時間都遵循著摩爾定律,為什麼現在人們開始懷疑它不能持續下去了呢?根據物理定律,5 nm被認為是傳統半導體柵極線寬的極限,這大約是當前市面上高端 20 納米柵極電晶體的 1/4 。而如果電晶體太小,分布太集中,就可能會產生量子隧穿效應,這將為晶片製造商帶來嚴峻挑戰。
伯克力實驗室研究人員蘇傑伊-德賽(Sujay Desai)稱:「長期以來,半導體行業一直認為,任何小於5納米的柵極都不可能正常工作。因此,人們之前從未考慮過小於5納米的柵極。」
研究成果
但伯克利實驗室卻打破傳統界限,開發出了柵極僅有 1 nm 的電晶體。
維說:「我們開發出了目前已知最小的電晶體。柵極長度被用于衡量電晶體的規格,我們成功研製出 1 nm 柵極電晶體,這意味著只要所選擇的材料適當,當前的電子零部件還有較大縮減空間。 」
而德賽稱:「我們的研究成果表明,讓柵極低於 5 nm 並非不可能。一直以來,人們都是基於矽材料來縮小電子零部件的體積。但我們放棄了矽材料,選了二硫化鉬,結果開發出了只有 1 nm 的柵極。」
矽和二硫化鉬都有一個晶格結構,但與二硫化鉬相比,通過矽流動的電子更輕,遇到電阻更小。當柵極為5 nm 或更長時,矽材料能發揮它的優勢。但柵極長度低於 5 nm 時,就會出現了一種被稱為「隧道效應」的量子力學現象,從而阻止電流從源極流到漏極。
德賽解釋說:「這意味著我們無法關閉電晶體,電子完全失控了。」而通過二硫化鉬流動的電子更重,因此可以通過更短的柵極來控制。
研究成果
選定二硫化鉬作為半導體材料後,接下來就需要來建造柵極。但製造 1 nm 的結構並不是一件容易的事,傳統的光刻技術並不適用於這樣小的規模。最終,研究人員轉向了碳納米管——直徑僅為 1 nm 的空心圓柱管。
經研究人員測試顯示,採用碳納米管柵極的二硫化鉬電晶體能夠有效控制電子流動。加維說:「這項研究表明,我們的電晶體將不再局限於 5 nm 柵極。通過使用適當的半導體材料和設備架構,摩爾定律還會繼續長期生效。」
目前,這一研究還處在初級階段,《科學》雜誌已刊登該項研究成果。雖然這一研究有望大大提升計算機的計算能力,具有十分重要的指導意義,但是,現階段想要達到大規模量產恐怕還有些困難。畢竟, 在 14 nm 製程下,一個模具上就有超過 10 億個電晶體,而一下子縮小到 1 nm,晶片製造商們可能還需要一段時間來緩緩神。
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