觸控螢幕通常由透明導電氧化物（TCO）薄膜組成，這些薄膜被劃線來形成絕緣電極和互聯，這通常使用化學溼法光刻蝕。雷射刻蝕技術利用雷射直接在透明基板上對薄膜進行刻蝕，通過計算機控制雷射光束的移動，雷射對薄膜材料進行選擇性氣化，形成所需要的圖形。本項目研究的設備和工藝可以在一個工作周期內同時完成整個模組的ITO和銀漿的刻蝕加工，因此減少了加工工序，大大提高加工產品的生產效率。
核心技術：
本項目設備集數控技術、雷射技術、軟體技術等光機電技術為一體，對傳統的化學工藝進行了徹底革新，具有高靈活性、高精度、高速度等先進位造技術的特徵。
創新點：
1、通過CCD實現了64X64網格高精度的多點、全自動校正。目前市面上多為3X3或5X5精度的網格，且非自動校正。
2、可完成複雜圖形的精細刻線。設備採用固體雷射器，雷射波長1064nm、532nm、355nm等，適合對導電薄膜與鍍層進行精細刻線。
3、加工工序少，提高工作效率。該設備可以在一個工作周期內同時完成整個模組的ITO和銀漿的刻蝕加工，減少了加工工序，大大提高加工產品的生產效率。
4、適應性強，不會隨著產業發展被淘汰。隨著電子行業的發展，、傳統的化學刻蝕工藝將不適用於對石墨烯薄膜的刻蝕加工，然而雷射刻蝕工藝卻是可以輕鬆完成這項工作的。
技術指標：
1、雷射器：固體雷射器；
2、雷射波長：1064nm、355nm、532nm；
3、雷射功率： 10W/20W；
4、刻蝕線寬：＜40μm；
5、刻蝕速度：1200mm/s；
6、加工範圍：550mm×550mm；
7、校正方式：64X64網格全自動校正。